Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Luka, G." wg kryterium: Wszystkie pola

  Lista filtrów
Wyrównaj
Wyświetlanie 1-10 z 12
Tytuł:
ZnO dla fotowoltaiki
ZnO for Photovoltaics
Autorzy:
Godlewski, M.
Łuka, G.
Pietruszka, R.
Wachnicki, Ł.
Witkowski, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159146.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotowoltaika
tlenek cynku
photovoltaics
zinc oxide
Opis:
Mimo znaczącej redukcji kosztów paneli fotowoltaicznych (PV), cena energii wytwarzanej przez baterie słoneczne ciągle jest za wysoka. Możliwe są dwie strategie rozwiązania tej sytuacji – (a) podniesienie wydajności konwersji światła w komórkach fotowoltaicznych lub/i (b) obniżenie kosztów paneli PV poprzez zastosowanie tańszych materiałów lub technologii. W referacie omówione są prace mające na celu: (a) zastąpienie zbyt drogiego ITO warstwami ZnO o przewodnictwie metalicznym, (b) uproszczenie konstrukcji komórek PV oraz (c) znalezienie alternatywnych materiałów.
Despite of a large reductions of costs energy produced by solar panels is still too expensive. There are two approaches to change this situation: by (a) increase of device output and/or (b) reduction of device costs by use of cheaper alternative materials. In this article we discuss the latter approach – (a) replacement of ITO by ZnO with metallic conductivity, (b) change of device architecture, and (c) use of alternative materials.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 264; 5-13
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Barriers in Miniaturization of Electronic Devices and the Ways to Overcome Them - from a Planar to 3D Device Architecture
Autorzy:
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Gierałtowska, S.
Łuka, G.
Krajewski, T.
Wachnicki, Ł.
Kopalko, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807598.pdf
Data publikacji:
2009-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
85.35.-p
73.40.Lq
73.40.Qv
81.05.Dz
81.15.-z
Opis:
We witness a new revolution in electronic industry - a new generation of integrated circuits uses as a gate isolator $HfO_{2}$. This high-k oxide was deposited by the atomic layer deposition technique. The atomic layer deposition, due to a high conformality of deposited films and low growth temperature, has a large potential to be widely used not only for the deposition of high-k oxides, but also of materials used in solar cells and semiconductor/organic material hybrid structures. This opens possibilities of construction of novel memory devices with 3D architecture, photovoltaic panels of the third generation and stable in time organic light emitting diodes as discussed in this work.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-19-S-21
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Struktury fotowoltaiczne oparte o heterozłącze ZnO/Si
Photovoltaic Structures Based on Heterojunction Zno/Si
Autorzy:
Pietruszka, R.
Łuka, G.
Witkowski, B. S.
Kopalko, K.
Zielony, E.
Biegański, P.
Płaczek-Popko, E.
Godlewski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/952439.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotowoltaika
tlenek cynku
metoda osadzania warstw atomowych
photovoltaic
zinc oxide
Opis:
Warstwy tlenku cynku otrzymane metodą osadzania warstw atomowych ALD zostały użyte jako n-typu partner dla p-typu krzemu. Jako przezroczystą górną elektrodę wybrano warstwę tlenku cyku domieszkowaną glinem (tak zwana warstwa TCO – Transparent Conductive Oxide). Użyto tanich podłóż krzemowych o niezoptymalizowanej dla zastosowań fotowoltaicznych grubości. W niniejszej pracy badano proste struktury fotowoltaiczne ZnO/Si w celu redukcji kosztów produkcji energii elektrycznej pozyskiwanej za pomocą ogniw fotowoltaicznych. Zmierzona sprawność zoptymalizowanych częściowo (warstwy ZnO) ogniw fotowoltaicznych wyniosła 6%.
We report on the properties of photovoltaic (PV) structures based on thin films of n-type zinc oxide grown by atomic layer deposition method on a cheap silicon substrate. Thin films of ZnO are used as n-type partner to p-type Si (110) and, when doped with Al, as a transparent electrode. PV structures with different electrical parameters and thicknesses of ZnO layers were deposited to determine the optimal performance of PV structures. The best response we obtained for the structure with ZnO layer thickness of 800 nm. The soobtained PV structures show 6% efficiency.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 264; 113-123
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
RBS/Channeling Analysis of Zinc Oxide Films Grown at Low Temperature by Atomic Layer Deposition
Autorzy:
Ratajczak, R.
Stonert, A.
Guziewicz, E.
Gierałtowska, S.
Krajewski, T.
Luka, G.
Wachnicki, L.
Witkowski, B.
Godlewski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1400467.pdf
Data publikacji:
2013-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
77.55.hf
81.05.Dz
81.15.Hi
68.55.ag
82.80.Yc
61.85.+p
Opis:
The results of the Rutherford backscattering/channeling study of ZnO layers are presented. ZnO layers were deposited on the silicon single crystals and GaN epitaxial layers at low temperature by atomic layer deposition. Deposition temperature varied between 100 and 300°C. A random spectra analysis was performed to determine layer thickness and composition. In turn, analysis of the aligned spectra allows us to study evolution of ingrown defects. The Rutherford backscattering study supports the results of X-ray photoelectron spectroscopy measurements, performed separately, that the ZnO-ALD layers deposited at low temperature contain a higher oxygen content. Composition measurements, performed as a function of growth temperature, show that oxygen content decreases with the increasing temperature of the atomic layer deposition growth process.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 899-903
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structure Dependent Conductivity of Ultrathin ZnO Films
Autorzy:
Snigurenko, D.
Kopalko, K.
Krajewski, T.
Łuka, G.
Gierałtowska, S.
Witkowski, B.
Godlewski, M.
Dybko, K.
Paszkowicz, W.
Guziewicz, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1403646.pdf
Data publikacji:
2012-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.61.Ga
78.66.Hf
81.15.Gh
Opis:
Zinc oxide films dedicated for hybrid organic/inorganic devices have been studied. The films were grown at low temperature (100°C, 130C and 200°C) required for deposition on thermally unstable organic substrates. ZnO layers were obtained in atomic layer deposition processes with very short purging times in order to shift a structure of the films from polycrystalline towards amorphous one. The correlation between atomic layer deposition growth parameters, a structural quality and electrical properties of ZnO films was determined.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 122, 6; 1042-1044
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Properties and Characterization of ALD Grown Dielectric Oxides for MIS Structures
Autorzy:
Gierałtowska, S.
Sztenkiel, D.
Guziewicz, E.
Godlewski, M.
Łuka, G.
Witkowski, B. S.
Wachnicki, Ł.
Łusakowska, E.
Dietl, T.
Sawicki, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2048118.pdf
Data publikacji:
2011-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.15.Gh
77.55.-g
77.84.Bw
81.05.Ea
Opis:
We report on an extensive structural and electrical characterization of undergate dielectric oxide insulators Al$\text{}_{2}$O$\text{}_{3}$ and HfO$\text{}_{2}$ grown by atomic layer deposition. We elaborate the atomic layer deposition growth window for these oxides, finding that the 40-100 nm thick layers of both oxides exhibit fine surface flatness and required amorphous structure. These layers constitute a base for further metallic gate evaporation to complete the metal-insulator-semiconductor structure. Our best devices survive energizing up to ≈ 3 MV/cm at 77 K with the leakage current staying below the state-of-the-art level of 1 nA. At these conditions the displaced charge corresponds to a change of the sheet carrier density of 3 × 10$\text{}^{13}$ cm$\text{}^{-2}$, which promises an effective modulation of the micromagnetic properties in diluted ferromagnetic semiconductors.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 5; 692-695
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
ZnO by ALD - Advantages of the Material Grown at Low Temperature
Autorzy:
Guziewicz, E.
Godlewski, M.
Krajewski, T.
Wachnicki, Ł.
Łuka, G.
Paszkowicz, W.
Domagała, J.
Przeździecka, E.
Łusakowska, E.
Witkowski, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1791286.pdf
Data publikacji:
2009-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.61.Ga
78.66.Hf
72.80.Ey
Opis:
The 3D-architecture is a prospective way in miniaturization of electronic devices. However, this approach can be realized only if metal paths are placed not only at the top, but also beneath the electronic parts, which imposes drastic temperature limitations for the electronic device processing. Therefore last years a lot of investigations are focused on materials which can be grown at low temperature with electrical parameters appropriate for electronic applications. Zinc oxide grown by the atomic layer deposition method is one of the materials of choice. We obtained ZnO-ALD films at growth temperature range between 100°C and 200°C, and with controllable electrical parameters. Free carrier concentration was found to scale with deposition temperature, so it is possible to grow ZnO films with desired conductivity without any intentional doping. We used correlation of electrical and optical parameters to optimize the deposition process. Zinc oxide layers obtained in that way have free carrier concentration as low as $10^{16} cm^{-3}$ and high mobility ($10-50 cm^{2}$/(Vs)), which satisfies requirements for a material used in three-dimensional memories.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, 5; 814-817
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Hybrid Organic/ZnO p-n Junctions, with n-Type ZnO, Grown by Atomic Layer Deposition
Autorzy:
Łuka, G.
Krajewski, T.
Szczerbakow, A.
Łusakowska, E.
Kopalko, K.
Guziewicz, E.
Wachnicki, Ł.
Szczepanik, A.
Godlewski, M.
Fidelus, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811956.pdf
Data publikacji:
2008-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.J-
73.40.Lq
81.05.Lg
Opis:
We report on fabrication of hybrid inorganic-on-organic thin film structures with polycrystalline zinc oxide films grown by atomic layer deposition technique. ZnO films were deposited on two kinds of thin organic films, i.e. pentacene and poly(dimethylosiloxane) elastomer with a carbon nanotube content (PDMS:CNT). Surface morphology as well as electrical measurements of the films and devices were analyzed. The current density versus voltage (I-V) characteristics of ITO/pentacene/ZnO/Au structure show a low-voltage switching phenomenon typical of organic memory elements. The I-V studies of ITO/PDMS:CNT/ZnO/Au structure indicate some charging effects in the system under applied voltages.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1229-1234
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Schottky Junctions Based on the ALD-ZnO Thin Films for Electronic Applications
Autorzy:
Krajewski, T.
Luka, G.
Smertenko, P.
Zakrzewski, A.
Dybko, K.
Jakiela, R.
Wachnicki, L.
Gieraltowska, S.
Witkowski, B.
Godlewski, M.
Guziewicz, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1492501.pdf
Data publikacji:
2011-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.55.ag
73.50.-h
73.50.Bk
73.61.Ga
81.15.-z
81.15.Gh
Opis:
The ZnO-based Schottky diodes revealing a high rectification ratio may be used in many electronic devices. This paper demonstrates several approaches to obtain a ZnO-based Schottky junction with a high rectification ratio. The authors tested several methods such as: post-growth annealing of the ZnO layer, acceptor (nitrogen) doping, as well as the ZnO surface coating with a properly chosen dielectric material. The influence of these approaches on the diode's rectification ratio together with modeling based on the differential approach and thermionic emission theory are presented.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-017-A-021
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Thin Film ZnO as Sublayer for Electric Contact for Bulk GaN with Low Electron Concentration
Autorzy:
Grzanka, S.
Łuka, G.
Krajewski, T. A.
Guziewicz, E.
Jachymek, R.
Purgal, W.
Wiśniewska, R.
Sarzyńska, A.
Bering-Staniszewska, A.
Godlewski, M.
Perlin, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2048094.pdf
Data publikacji:
2011-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
72.80.Ey
73.40.Kp
73.40.Lq
Opis:
Fabrication of low resistivity ohmic contacts to N polarity gallium nitride crystal is an important issue for the construction of the vertical current flow devices like laser diodes and high brightness light emitting diodes. Gallium nitride is a challenging material because of the high metal work function required to form a barrier-free metal-semiconductor interface. In practice, all useful ohmic contacts to GaN are based on the tunneling effect. Efficient tunneling requires high doping of the material. The most challenging task is to fabricate high quality metal ohmic contacts on the substrate because the doping control is here much more difficult that in the case of epitaxial layers. In the present work we propose a method for fabricating low resistivity ohmic contacts on N-side of GaN wafers grown by hydride vapor phase epitaxy. These crystals were characterized by a n-type conductivity and the electron concentration of the order of 10$\text{}^{17}$ cm$\text{}^{-3}$. The standard Ti/Au contact turned out to be unsatisfactory with respect to its linearity and resistance. Instead we decided to deposit high-n type ZnO layers (thickness 50 nm and 100 nm) prepared by atomic layer deposition at temperature of 200°C. The layers were highly n-type conductive with the electron concentration in the order of 10$\text{}^{20}$ cm$\text{}^{-3}$. Afterwards, the metal contact to ZnO was formed by depositing Ti and Au. The electrical characterization of such a contact showed very good linearity and as low resistance as 1.6 × 10$\text{}^{-3}$ Ω cm$\text{}^{2}$. The results indicate advantageous properties of contacts formed by the combination of the atomic layer deposition and hydride vapor phase epitaxy technology.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 5; 672-674
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Wyświetlanie 1-10 z 12

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies