Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "52.30.-q" wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Influence of Plasma Dynamics on Material Synthesis Product of IPD Process
Autorzy:
Rabiński, M.
Zdunek, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2011041.pdf
Data publikacji:
1999-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
07.05.Tp
52.30.-q
52.35.Py
52.75.Rx
Opis:
In the present work we discuss recent studies concerning plasma dynamics influence on the material synthesis product of the impulse plasma deposition process. Conditions favourable for evaluation of the Rayleigh-Taylor instability on the current sheet surface were found during the computational studies of plasma movement in the coaxial accelerator. Appearance of this phenomenon explains non-uniform phase composition and morphology of coatings. By modifying the design of the plasma accelerator, we succeeded in reducing substantially Rayleigh-Taylor instability and in obtaining α-Al$\text{}_{2}$ O$\text{}_{3}$ coatings instead of common γ-Al$\text{}_{2}$O$\text{}_{3}$.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1999, 96, 2; 319-324
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Physical Phenomena in Z-pinch Plasma of Impulse Plasma Deposition Process
Autorzy:
Rabiński, M.
Zdunek, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2035475.pdf
Data publikacji:
2002-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
07.05.Tp
52.30.-q
52.35.Py
52.77.Dq
Opis:
In the present paper we propose a model of physical phenomena behind the front face of the electrodes in an impulse plasma accelerator. The model is based on the results of recent experimental observations and measurements. It correlates plasma dynamics with mechanism of phenomena in a column of pinching plasma. On the contrary to the previous model the current one suggests the series of relatively short pulses of metallic ions from the erosion of electrode material. Till now the pinch was treated rather as a nearly continuous source of metallic plasma, feeding the process with ions from the erosion of electrode material.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2002, 102, 2; 193-197
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Investigation of $H_2:CH_4$ Plasma Composition by Means of Spatially Resolved Optical Spectroscopy
Autorzy:
Bogdanowicz, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811532.pdf
Data publikacji:
2008-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
85.60.-q
42.81.-i
07.57.-c
42.15.Eq
32.30.-r
52.50.Sw
81.05.Uw
Opis:
The system based on spatially resolved optical emission spectroscopy dedicated for in situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. Measurement system coupled with chemical vapour deposition chamber by dedicated fiber-optic paths enables investigation of spatial distribution of species densities ($H_x$, $H^+$, CH, $CH^+$) during chemical vapour deposition process. Experiments were performed for a various gas inlet configuration at range of microwave power up to 800 W. Spatially resolved optical spectroscopy results showed that inlet configuration based on injecting hydrogen in ECR region and methane in substrate area is the most efficient for $H^+$ and $CH_{3}^{+}$ excitation. The designed prototype of the spatially resolved optical spectroscopy system enables the high-sensitivity measurements of concentration of the species in the microwave plasma and can be used for optimisation of diamond-like carbon synthesis.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 6A; A-33-A-38
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies