Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Szewczyk, L." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
System do badań nieniszczących warystorów metodą rezonansowej spektroskopii ultradźwiękowej
System for non-destructive testing of varistors by means of resonant ultrasound spectroscopy
Autorzy:
Hasse, L.
Sikula, J.
Smulko, J.
Spiralski, L.
Szewczyk, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/268036.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Politechnika Gdańska. Wydział Elektrotechniki i Automatyki
Tematy:
warystory wysokonapięciowe
rezonansowa spektroskopia ultradźwiękowa
system do spektroskopii rezonansowej
high-voltage varistors
resonant ultrasound spectroscopy
system for resonant spectroscopy
Opis:
Rezonansowa spektroskopia ultradźwiękowa jest efektywną metoda testowania nieniszczącego ukierunkowaną na wykrywanie defektów w badanych obiektach. Procedura testująca bazuje na wzorcu rezonansów i danego obiektu, co umożliwia odrzucenie testowanych próbek nie odpowiadających wzorcowi. W zbudowanym systemie do testowania warystorów wysokonapięciowych zastosowano metodę "przemiatania" częstotliwości do pomiaru widma rezonansów, których częstotliwości zależą od niejednorodności struktury warystora. Jako kryterium testowania zaproponowano parametr jakości struktury Q, na podstawie którego proponuje się eliminację wadliwych elementów we wczesnej fazie procesu produkcyjnego.
Resonant ultrasound spectroscopy is an effective nondestructiye testing method focused on defects in tested objects. The testing procedure based on the resonant pattern allows to reject tested samples with defects do not fitting the pattern. A swept frequency method has been used to measure the spectrum of resonances in high-voltage varistors. The resonant frequencies depend on the varistor heterogeneity. The quality of the structure parameter Q has been proposed as a criterion for the "go- no go" testing for elimination of the defected elements in the preliminary stage of the varistor manufacturing process.
Źródło:
Zeszyty Naukowe Wydziału Elektrotechniki i Automatyki Politechniki Gdańskiej; 2008, 25; 61-66
1425-5766
2353-1290
Pojawia się w:
Zeszyty Naukowe Wydziału Elektrotechniki i Automatyki Politechniki Gdańskiej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
An effect of the copper’s nanoparticles application on the degree of covering the sprayed objects
Wpływ zastosowania nanomiedzi na stopień pokrycia opryskiwanych obiektów
Autorzy:
Dereń, K.
Szewczyk, A.
Sekutowski, T. R.
Kowalska-Góralska, M.
Kuta, Ł.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/337471.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Przemysłowy Instytut Maszyn Rolniczych
Tematy:
foliar fertilizer
water sensitive paper
average degree of covering
nanocopper
spraying plants
nozzles
nawóz dolistny
nanomiedź
stopień pokrycia
opryskiwanie roślin
rozpylacz
Opis:
The main purpose of the study was to compare the average and total degree of covering the sprayed plants with the foliar fertilizer with copper and the nanocopper. The measurement of covering degree was performed in "Aporo” sprayed chamber at a constant speed of (11.16 m·s-1) and at two pressures values 0.2 and 0.28 MPa for two nozzles standard: onestream XR110-02, and a dual-stream DF120-02. Tests were conducted at a constant speed for different pressures and two conventional nozzles. The samplers in the form of water sensitive paper were used. The degree of covering was calculated using a computer image analysis method. Statistical tests were carried out based on an analysis of the average group and homogeneity of variance (ANOVA). It was found that, when the nanocopper was applied, the average degree of covering and the total degree of covering were higher than while using the foliar fertilizer (Mikrovit) with copper, regardless of the pressure and the nozzle used in tests.
Celem badań było porównanie średniego oraz całkowitego stopnia pokrycia roślin opryskiwanych nawozem dolistnym miedzi i nanomiedzią Badania stopnia pokrycia wykonano w komorze opryskowej "Aporo". Doświadczenie przeprowadzono ze stałą prędkością opryskiwania (11.16 m·s-1), przy dwóch ciśnieniach roboczych 0.2 i 0.28 MPa dla dwóch rozpylaczy standardowych: XR 110-02 i DF 120-02. Użyto próbników w postaci papierków wodoczułych, które umieszczano na powierzchniach poziomych i pionowych sztucznych roślin. Stopień pokrycia obliczono dzięki wykorzystaniu komputerowej metody analizy obrazu. Przeprowadzono testy statystyczne oparte na analizie średnich w grupach oraz analizę jednorodności wariancji (ANOVA). Stwierdzono, że przy zastosowaniu do oprysku pierwiastka nanomiedzi średni stopień pokrycia oraz cał- kowity stopień pokrycia był wyższy niż przy zastosowaniu nawozu dolistnego Mikrovit, niezależnie od ciśnienie oraz rozpylacza wykorzystanego w badaniach.
Źródło:
Journal of Research and Applications in Agricultural Engineering; 2017, 62, 3; 76-79
1642-686X
2719-423X
Pojawia się w:
Journal of Research and Applications in Agricultural Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structure and Magnetism of MBE-Grown Co/Cu Multilayers
Autorzy:
Baczewski, L. T.
Wawro, A.
Domagała, J.
Pełka, J.
Szewczyk, A.
Nabiałek, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1955475.pdf
Data publikacji:
1997-02
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
75.30.Gw
75.30.-m
75.70.-i
Opis:
Structural and magnetic properties of Co/Cu multilayers deposited in the ultra-high vacuum molecular beam epitaxy system on glass substrates with different modulations periods were investigated. A structural characterization was performed by means of RHEED and Auger spectroscopy (in situ), small angle X-ray reflectivity and scanning tunneling microscopy. The samples obtained have a textured, polycrystalline layered structure for deposition at room temperature. Magnetization and in-plane magnetoresistance measurements were performed as a function of Cu and Co layer thicknesses. An influence of different buffers and of interface quality on magnetic properties was investigated.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 91, 2; 315-319
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Influence of Co Doping on Crystal and Magnetic Properties of $Gd_2Cu_2In$
Autorzy:
Gondek, Ł.
Szytuła, A.
Kaczorowski, D.
Szewczyk, A.
Gutowska, M.
Tyvanchuk, Yu.
Kalychak, Ya.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1419907.pdf
Data publikacji:
2012-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
75.30.-m
75.30.Kz
75.50.Ee
Opis:
Physical properties of $Gd_2Cu_{2 - x}Co_{x}In$ (x = 0.1, 0.2, 0.3) samples are investigated. The paper brings results of X-ray diffraction, magnetometric as well as specific heat studies. It was found that only sample with x = 0.1 exhibits desired crystal structure. Other compositions show existence of impurities due to lack of dissolution Co atoms. For $Gd_2Cu_{1.9}Co_{0.1}In$ sample the Curie temperature of 92.5 K was evidenced. Thus, an enhancement of ferromagnetic correlations with comparison to $Gd_2Cu_2In$ sample was evidenced. It was found that $Gd_2Cu_{1.9}Co_{0.1}In$ sample exhibits magnetocaloric effect within broad temperature range.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 122, 1; 216-219
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structural, Magnetic and Transport Properties οf $NdBaCo_{2}O_{5+x}$ Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering
Autorzy:
Vlakhov, E.
Szymczak, R.
Baran, M.
Piotrowski, K.
Szewczyk, A.
Paszkowicz, W.
Lobanovskii, L.
Matyajasik, S.
Nenkov, K.
Szymczak, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1810303.pdf
Data publikacji:
2009-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
75.70.Ak
64.75.St
64.75.Lm
Opis:
For the first time, thin films of $NdBaCo_{2}O_{5+x}$ were deposited by RF magnetron sputtering on different substrates. The films deposited on $SrLaAlO_4(001)$ substrates exhibited highly textured structure with c-axis directed out-of-plane. Magnetic measurements M vs. T of three $NdBaCo_{2}O_{5+x}$/$SrLaAlO_4(001)$ films revealed successively paramagnetic-ferromagnetic-antiferromagnetic transitions with decrease in temperature. Their paramagnetic Curie-Weiss temperatures were estimated to be in the range of $T_{C}$ =100-116 K. Resistivity of the cobaltite thin film exhibited insulating behavior and the best fit was found for the variable range hopping mechanism.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 115, 1; 89-91
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Crystalline Structure of Potassium Holmium Double Tungstate
Autorzy:
Borowiec, M.
Dyakonov, V.
Woźniak, K.
Dobrzycki, Ł.
Majchrowski, A.
Michalski, E.
Zubov, E.
Khatsko, E.
Zayarnyuk, T.
Szewczyk, A.
Gutowska, M.
Rykova, A.
Barański, M.
Domukhovski, V.
Shtyrkhunova, V.
Iwanowski, P.
Żmija, J.
Szymczak, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1505085.pdf
Data publikacji:
2011-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.66.Fn
Opis:
The potassium holmium double tungstate was prepared by using top seeded solution growth technique. Structural investigations have been performed at room temperature. The $KHo(WO_4)_2$ single crystal belongs to the monoclinic space group C2/c with the unit-cell parameters: a = 10.624(2) Å, b = 10.352(2) Å, c = 7.5434(15) Å, β = $130.78(3)^{o}$, and Z = 4. The atomic coordinates, isotropic and anisotropic displacement parameters and interionic distances for the studied structure were determined.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 6; 835-837
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies