Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Szerling, A" wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
The influence of MBE growth conditions on optical properties of InGlGaAs/AlGaAs structures
Autorzy:
Kosiel, K.
Regiński, K.
Szerling, A.
Piwoński, T.
Bugajski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/378399.pdf
Data publikacji:
2004
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Opis:
Optical properties of compressively strained In₀.₂₄Al₀.₁₉Ga₀.₅₇As layers were investigated as a function of the MBE growth conditions. The optimum temperature of the crystal surface (Ts) for MBE growth of this quaternary layer as well as the optimal cooling down process necessary for achieving appropriate Ts for InAlGaAs were experimentally found.
Źródło:
Electron Technology : Internet Journal; 2004, 36, 4; 1-3
1897-2381
Pojawia się w:
Electron Technology : Internet Journal
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Oval defects in crystals grown by MBE technique: study and methods of elimination abstract
Autorzy:
Szerling, A.
Kosiel, K.
Płuska, M.
Ochalski, T. J.
Ratajczak, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/378453.pdf
Data publikacji:
2004
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Opis:
The paper is devoted to a group of macroscopic defects which may be found in epitaxial A3 B5 materials grown by MBE technique. Morphology, geometry and optical properties of defects were studied by means of several experimental methods. The experimental data have been compared with the information taken from literature concerning sources of the defects and causes of their appearance.
Źródło:
Electron Technology : Internet Journal; 2004, 36, 6; 1-5
1897-2381
Pojawia się w:
Electron Technology : Internet Journal
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The Study of Thermal Properties of GaAs/AlGaAs Quantum Cascade Lasers
Autorzy:
Pruszyńska-Karbownik, E.
Karbownik, P.
Szerling, A.
Kosiel, K.
Bugajski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807668.pdf
Data publikacji:
2009-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
42.55.Px
85.60.-q
85.35.Be
72.80.Ey
Opis:
Temperature change in quantum cascade laser can be estimated by studying the device resistance change. Using this method we compared quantum cascade laser structure mounted on diamond heat spreader and without heat spreader. We have shown that the use of heat spreader reduces temperature increase even by 40%.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-60-S-61
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Molecular Beam Epitaxy Growth for Quantum Cascade Lasers
Autorzy:
Kosiel, K.
Szerling, A.
Kubacka-Traczyk, J.
Karbownik, P.
Pruszyńska-Karbownik, E.
Bugajski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1791281.pdf
Data publikacji:
2009-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
42.55.Px
81.15.Hi
85.60.-q
85.35.Be
73.63.-b
63.22.-m
72.80.Ey
73.61.Ey
78.66.Fd
Opis:
The fabrication of quantum cascade lasers emitting at 9 μm is reported. The devices operated in pulsed mode at up to 260 K. The peak powers recorded at 77 K were over 1 W and the slope efficiency η ≈ 0.5-0.6 W/A per uncoated facet. This has been achieved by the use of GaAs/$Al_{0.45}Ga_{0.55}As$ heterostructure, with the "anticrossed-diagonal" design. Double plasmon planar confinement with Al-free waveguide has been used to minimize absorption losses. The double trench lasers were fabricated using standard processing technology, i.e., wet etching and $Si_{3}N_{4}$ for electrical insulation. The quantum cascade laser structures have been grown by molecular beam epitaxy, with Riber Compact 21 T reactor. The stringent requirements - placed particularly on the epitaxial technology - and the influence of technological conditions on the device structure properties were presented and discussed in depth.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, 5; 806-813
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Mid-Infrared GaAs/AlGaAs Quantum Cascade Lasers Technology
Autorzy:
Szerling, A.
Karbownik, P.
Kosiel, K.
Kubacka-Traczyk, J.
Pruszyńska-Karbownik, E.
Płuska, M.
Bugajski, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1807678.pdf
Data publikacji:
2009-12
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
42.55.Px
85.60.-q
85.35.Be
72.80.Ey
73.61.Ey
78.66.Fd
Opis:
The fabrication technology of AlGaAs/GaAs based quantum cascade lasers is reported. The devices operated in pulsed mode at up to 260 K. The peak powers recorded at 77 K were over 1 W for the GaAs/$Al_{0.45}Ga_{0.55}As$ laser without anti-reflection/high-reflection coatings.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-45-S-47
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
GaAs/AlGaAs (~9.4 žm) quantum cascade lasers operating at 260 K
Autorzy:
Bugajski, M.
Kosiel, K.
Szerling, A.
Kubacka-Traczyk, J.
Sankowska, I.
Karbownik, P.
Trajnerowicz, A.
Pruszy, E.
Pierciński, K.
Pierścińska, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/200656.pdf
Data publikacji:
2010
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
quantum cascade lasers
pulsed mode
Opis:
The fabrication of Quantum Cascade Lasers (QCLs) emitting at 9.4 um is reported. The devices operated in pulsed mode at up to 260 K. The peak powers recorded in 77 K were over 1 W, and the slope efficiency 0.5–0.6 W/A per uncoated facet. This has been achieved by the use of GaAs/Al0.45Ga0.55As heterostructure, with 3QW anticrossed-diagonal design originally proposed by Page et al. [1]. Double plasmon planar confinement with Al-free waveguide has been used to minimize absorption losses. The double trench lasers were fabricated using standard processing technology, i.e., wet etching and Si3N4 for electrical insulation. The QCL structures have been grown by Molecular Beam Epitaxy (MBE), with Riber Compact 21T reactor. The stringent requirements – placed particularly on the epitaxial technology – and the influence of technological conditions on the device structure properties are presented and discussed in depth.
Źródło:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences; 2010, 58, 4; 471-476
0239-7528
Pojawia się w:
Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies