Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "rf sputtering" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-1 z 1
Tytuł:
Effect of substrate temperature on the crystal properties of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering
Autorzy:
Isai, M.
Nakamura, K.
Hosokawa, T.
Izumichi, T.
Sekikawa, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/384289.pdf
Data publikacji:
2009
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Przemysłowy Instytut Automatyki i Pomiarów
Tematy:
LiMn2O4 thin film
RF magnetron sputtering
Li secondary batteries
Opis:
The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. The LiMn2O4 powder was used as a target material. The deposition rate, XRD, and surface morphology were investigated as a function of substrate temperature (Tsub). It was found that the deposition rate had a peak at around the of 200 °C. This research was also designed for preventing the target material being oxidized during the reactive sputtering process. A quartz tube was inserted between shutter and target. It seems that the quartz tube is effective to prevent oxidation of target material.
Źródło:
Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems; 2009, 3, 4; 65-68
1897-8649
2080-2145
Pojawia się w:
Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-1 z 1

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies