The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. The LiMn2O4 powder was used as a target material. The deposition rate, XRD, and surface morphology were investigated as a function of substrate temperature (Tsub). It was found that the deposition rate had a peak at around the of 200 °C. This research was also designed for preventing the target material being oxidized during the reactive sputtering process. A quartz tube was inserted between shutter and target. It seems that the quartz tube is effective to prevent oxidation of target material.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00