Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "cienkie warstwy" wg kryterium: Temat


Tytuł:
Increasing the cost-effectiveness of in vitro research through the use of titanium in the device for measuring the electrical parameters of cells
Zwiększenie efektywności kosztowej prowadzeniabadań in vitropoprzez zastosowanie tytanu w urządzeniu do pomiaru parametrów elektrycznych komórek
Autorzy:
Zarzeczny, Dawid
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2070272.pdf
Data publikacji:
2021
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
bioimpedance
titanium
MEMS
thin films
bioimpedancja
tytan
cienkie warstwy
Opis:
Currently, various methods are used to assess the biocompatibility of materials. After an in-depth and detailed review of the literature, the method used in the research was selected. As part of the experiments, a method based on the analysis of the values of electrical parameters of cell cultures measured in the presence of electrodes was used. The electrode is a structure made of a thin layer of metallization. It measures the change in resistance, impedance and capacity of a mixture of cells and the substance in which they are grown. The plate containing the electrode assembly is called the measurement matrix. Currently, commercially used test matrices are made of gold or platinum. However, their high price means that large-scale research is significantly limited. In order to increase the access to the widespread use of this method, it was decided that it was necessary to use cheaper materials, reducing the necessary costs of conducting experiments. Considering this, an attempt was made to use a different conductive material to build matrices compatible with the ECIS® Z-Theta measurement system. Their use would enable in vitro research on living cells. In the presented work, titanium was used as a material that may turn out to be an alternative to the materials currently used. Its application to the production of matrices will allow to study the influence of this metal on the behavior of cells.
Obecnie, do oceny biokompatybilności materiałów wykorzystywane są różne metody. Po dogłębnym i szczegółowym przeglądzie literatury wybrano metodę, którą wykorzystano podczas prac badawczych. W ramach przeprowadzonych eksperymentów wykorzystano metodę bazującą na analizie wartości parametrów elektrycznych kultur komórkowych, zmierzonych w obecności elektrod. Elektroda jest strukturą wykonaną w cienkiej warstwie metalizacji. Służy do pomiaru zmiany wartości rezystancji, impedancji oraz pojemności mieszaniny złożonej z komórek i substancji, w której są one hodowane. Płytka zawierająca zestaw elektrod nazywana jest matrycą pomiarową. Aktualnie, komercyjnie stosowane matryce testowe wykonane są ze złota lub platyny. Ich wysoka cena powoduje jednak, że prowadzenie badań na szeroką skalę jest znacząco ograniczone. Aby zwiększyć dostęp do powszechnego korzystania z tej metody zdecydowano, że koniecznym jest stosowanie tańszych materiałów, redukując niezbędne koszty prowadzenia eksperymentów. Zważywszy na to, podjęto próbę zastosowania innego materiału przewodzącego do budowy matryc kompatybilnych z systemem pomiarowym ECIS® Z-Theta. Ich użycie umożliwiłoby prowadzenie badań nad komórkami żywymi in vitro. W przedstawionej pracy jako materiał, który może okazać się alternatywą dla materiałów wykorzystywanych obecnie wykorzystano tytan. Jego zastosowanie do wytworzenia matryc pozwoli zbadać wpływ tego metalu na zachowanie komórek
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2021, 11, 4; 62--66
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Rozwój cienkowarstwowych ogniw fotowoltaicznych
Thin film photovoltaic solar cells development
Autorzy:
Marszałek, K.
Stapiński, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/160247.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
fotowoltaika
cienkie warstwy
ogniwa słoneczne
photovoltaics
thin films
solar cells
Opis:
Fotowoltaika cienkowarstwowa jest jednym z najbardziej dynamicznie rozwijających się obszarów techniki ostatnich lat. W artykule przedstawiono rozwój ogniw fotowoltaicznych, w szczególności drugiej i trzeciej generacji, oraz zmiany, jakie się dokonują w produkcji paneli fotowoltaicznych z korzyścią dla paneli cienkowarstwowych. Opisano również szereg elementów cienkowarstwowych, będących elementem paneli fotowoltaicznych, w znaczący sposób wpływających na podstawowy parametr służący do oceny jakości ogniwa, jakim jest jego efektywność, jak również zmiany, jakie następują w rodzaju podłoży, będących elementami nośnymi każdej ze struktur cienkowarstwowych. Przedstawiono wpływ, jaki mają elektrody przewodzące, pasywacyjne, czy antyrefleksyjne na wydajność panelu fotowoltaicznego.
Thin film photovoltaics is one of the fastest growing industrial field in the last few years. The development of the second and third generation of the solar cells is presented in this work, especially changes and a fast growing production of the thin film panels. All other thin film components which influenced the efficiency of solar panels are presented as well as the changes in substrates for thin film solar cell technology. The influence of the conductive transparent electrodes, passivation and antireflective films on efficiency of the solar panel is shown.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 266; 199-206
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering
Badanie właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw TiO2:(Eu, Pd) wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Kaczmarek, D.
Domaradzki, J.
Prociow, E. L.
Wojcieszak, D.
Michalec, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192413.pdf
Data publikacji:
2008
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
TiO2
cienkie warstwy
warstwa cienka
rozpylanie magnetronowe
thin films
magnetron sputteing
Opis:
In this study the results on TiO2 thin films doped with europium and palladium at the amount of 0.9 at. % and 5.8 at. % respectively have been presented. For thin films deposition the high energy (HE) magnetron sputtering method was used. Some samples were subjected to the post-processed annealing. X-Ray Diffraction (XRD) results have shown that after deposition nanocrystalline TiO2 - rutile structure was obtained. After additional annealing at 800°C average crystallites sizes increased about twofold (from 9 to 16 nm). The XRD results were confirmed using atomic force microscope. Optical properties of thin films were examined using optical transmission method. They have shown that doping with Eu and Pd has decreased the transmission level by about 15% and shifted absorption edge to the longer wavelength range (from 330 to 450 nm) compared to pure TiO2. The width of optical bandgap of TiO2:(Eu, Pd) thin film decreased to ca. 1.7 eV, i.e. twofold, when compared to 3.35 eV of undoped-TiO2. The photoluminescence results have shown that examined thin film has strong red luminescence from standard Eu3+ emission lines.
W pracy przedstawiono wyniki badań cienkich warstw TiO2 domieszkowanych europem i palladem, w ilości odpowiednio 0,9 % at. i 5,8 % at. Do nanoszenia cienkich warstw zastosowano wysokoenergetyczny proces (High Energy) rozpylania magnetronowego. Wybrane próbki poddano dodatkowemu poprocesowemu wygrzewaniu. Wyniki dyfrakcji rentgenowskiej (X-Ray Difrraction - XRD) wykazały, że bezpośrednio po naniesieniu otrzymano nanokrystaliczną warstwę TiO2 o strukturze rutylu. Po dodatkowym wygrzewaniu w temperaturze 800°C średnia wielkość krystalitów wzrosła około dwukrotnie (z 9 do 16 nm). Wyniki badań XRD zostały potwierdzone za pomocą badań wykonanych za pomocą mikroskopu sił atomowych. Właściwości optyczne cienkich warstw określono na podstawie wyników badań metodą transmisji światła. Uzyskane wyniki wykazały, że domieszkowanie Eu i Pd spowodowało spadek przezroczystości warstwy o ~ 15% i przesunięcie krawędzi absorpcji optycznej w stronę dłuższych fal (z 330 do 450 nm) w porównaniu do warstwy niedomieszkowanego TiO2. Szerokość optycznej przerwy zabronionej dla cienkiej warstwy TiO2:(Eu, Pd) po naniesieniu wynosiła 1,7 eV i była około dwukrotnie mniejsza w porównaniu do 3,35 eV dla warstwy TiO2. Wyniki badań foto-luminescencji pokazały, że badana warstwa wykazuje silną czerwoną luminescencję odpowiadającą standardowym linią emisyjnym Eu3+.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 3, 3; 117-127
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Ablacja polikryształów CR2TE3 z wykorzystaniem lasera ND3+:YAG
Ablation of CR2TE3 crystal by ND3+:YAG laser
Autorzy:
Wisz, G.
Barwiński, M.
Sagan, P.
Kuźma, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/408356.pdf
Data publikacji:
2014
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
ablacja laserowa
cienkie warstwy
mikroskopia elektronowa
laser ablation
thin films
electron microscopy
Opis:
W pracy badano proces laserowej ablacji Cr2Te3: dla potrzeb nanoszenia cienkich warstw tego materiału metodą impulsowego osadzania laserowego (PLD). Target przygotowano w formie sprasowanej pastylki z proszkowego Cr2Te3 domieszkowanego proszkowym Zn. Do odparowania tarczy zastosowano promieniowanie lasera ND3+:YAG o długości impulsu 20 ns i gęstości energii 16 J/cm2 oraz 34 J/cm2. Metodą EDX zbadano skład powierzchni targetu po ablacji. Stwierdzono nadmiar chromu co wskazuje na jego słabą desorpcję przy zastosowanych parametrach ablacji.
In the paper, the process of laser ablation of Cr2Te3 has been studied in the respect of its application to thin solid films deposition of this material in the pulsed laser deposition (PLD) technology. Target has been prepared in the shape of pressed tablet from powder Cr2Te3. The energy density of the ND3+:YAG laser beam were 16 J/cm2 and 34 J/cm2 and the time of laser pulse was 20 ns. The composition of the surface layer of the target after ablation has been measured using EDX method. The excess of chromium in respect to it amount in initial composition has been measured. This result points on the weak desorption of this component at the ablation parameters applied.
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2014, 3; 27-30
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A review of mechanical properties of diamond-like carbon coatings with various dopants as candidates for biomedical applications
Autorzy:
Jastrzębski, K.
Jastrzębska, A.
Bociąga, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/105981.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Centrum Badań i Innowacji Pro-Akademia
Tematy:
diamond-like carbon
doping
mechanical properties
thin films
biomaterials
warstwy diamentopodobne
właściwości mechaniczne
cienkie warstwy
biomateriały
Opis:
In the modern world, there is an increasing demand for implants, and technologies connected with their manufacturing. One of the possible paths of their development relates to the use of diamond-like carbon coatings (DLC) for the improvement of surface properties of the biomaterials used for implants. Further improvement of the mentioned properties can be induced by means of doping of the coating. Among the elements which are under current investigation of researchers, the following can be placed: Ag, Si, F, Cu, Ti, Ca and P. This paper reviews previously published experimental data concerning mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with Ag, Si, Cu, Ti, Ca, F and P as candidates for biomedical applications. Although plenty of articles are published in the mentioned field, the differences of coatings’ synthesis techniques, various sources of dopants and substrates, as well as conducted experiments make no consistent view about a possible solution for their future implementation in medicine. Some of the selected dopants (Cu, Ca, P), still require better characterisation of mechanical properties. There is a necessity to conduct studies of mechanical and physicochemical properties of DLC coatings doped with these elements. This will enable adjustment of the necessary technological parameters to biomedical requirements.
Źródło:
Acta Innovations; 2017, 22; 40-57
2300-5599
Pojawia się w:
Acta Innovations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Kluczowe zagadnienia procesu recyklingu zużytych modułów fotowoltaicznych I i II generacji
Key issues of the recycling process of the 1st and 2nd generation end of life photovoltaic modules
Autorzy:
Kuczyńska-Łażewska, A.
Klugmann-Radziemska, E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/394469.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN
Tematy:
recykling
fotowoltaika
moduły PV
krzem
cienkie warstwy
recycling
photovoltaics
PV modules
thin films
silicon
Opis:
W ramach technologii fotowoltaicznych wyróżniamy obecnie trzy generacje. Pierwsza z nich to ogniwa z mono- i polikrystalicznego krzemu (c-Si), druga obejmuje ogniwa wykonane na bazie technologii cienkowarstwowej, zarówno z krzemu amorficznego (a-Si), jak i diseleneku indowo-miedziowo-galowego (CIGS), tellurku kadmu (CdTe) oraz arsenku galu (GaAs). Trzecia generacja to najnowsze technologie, takie jak: organiczne ogniwa słoneczne, ogniwa uczulane barwnikami czy ogniwa hybrydowe. Przyjmuje się, że średnia długość życia modułu fotowoltaicznego wynosi około 17 lat, co w połączeniu ze wzrastającym zainteresowaniem technologią fotowoltaiczną wiąże się ze zwiększona ilością odpadów, trafiających na składowiska. Oszacowano, że w 2026 roku liczba odpadowych modułów fotowoltaicznych osiągnie 5 500 000 ton. Będą to zarówno pozostałości po procesie produkcji, elementy uszkodzone podczas użytkowania oraz zużyte moduły fotowoltaiczne. Rozwój technologii fotowoltaicznych prowadzi również do doskonalenia istniejących i badań nad opracowaniem nowych metod recyklingu, dostosowanych do procesów produkcji modułów. W pracy zaprezentowano stan wiedzy na temat opracowanych technologii recyklingu modułów, wykonanych z krystalicznego krzemu oraz modułów cienkowarstwowych. Przedstawiono wyniki badań własnych nad procesem delaminacji modułów oraz roztwarzania elementów ogniw wykonanych w obu technologiach. W wyniku przeprowadzonych badań określono minimalną temperaturę, która powinna zostać zastosowana podczas dekompozycji materiału laminującego. U dowodniono, że folie wykonane przez różnych producentów ulegają procesom delaminacji w różnym stopniu, co może być spowodowane różnicami w stopniu usieciowana i stosunkowi polietylenu do polioctanu winylu. Przy wykorzystaniu metody trawienia sekwencyjnego podczas usuwania metalizacji można odzyskać nawet 1,6 kg srebra na 1 t połamanych mono- i polikrystalicznych ogniw krzemowych.
At present we divide photovoltaic technologies into three generations. The first generation are monoand polycrystalline silicon solar cells (c-Si), the second one includes thin film technology both amorphous silicon (a-Si) and copper-gallium-indium diselenide (CIGS), cadmium telluride (CdTe), or gallium arsenide (GaAs). The third generation are newest technologies such as: organic solar cells, cells sensitized with dyes or hybrid cells. It is assumed that the average lifespan of the module is about 17 years, which in addition with the growing interest in solar technology results in an increasing amount of electronic waste in the land fields. I t has been estimated that in 2026, the number of waste photovoltaic modules will reach 5,500,000 tons. These will include both residues from the production process, components damaged during usage and end of life solar modules. Advanced photovoltaic technologies lead to the research and development of new methods of recycling adapted to the production processes. The article presents the state of knowledge regarding recycling technologies for modules from crystalline silicon and thin films. The results of own research of the delamination process and the recovery of cells elements in both technologies are introduced. As a result of the tests, the minimum temperature which should be used during the decomposition of the laminating material was determined. I t has been proven that foil made by different manufacturers is processed in varying degrees. That might be caused by differences in the cross-link degree and the ratio of polyvinyl acetate. U se of the sequential etching method to remove metallization, provides a possibility to recover up to 1.6 kg of silver per 1t of broken mono- and polycrystalline silicon cells.
Źródło:
Zeszyty Naukowe Instytutu Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN; 2018, 102; 329-341
2080-0819
Pojawia się w:
Zeszyty Naukowe Instytutu Gospodarki Surowcami Mineralnymi i Energią PAN
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Giant magnetoresistance observed in thin film NiFe/Cu/NiFe structures
Zjawisko gigantycznego magnetooporu obserwowane w cienkich strukturach NiFe/Cu/NiFe
Autorzy:
Kisała, Jakub
Kociubiński, Andrzej
Czarnacka, Karolina
Gęca, Mateusz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2174708.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Tematy:
magnetoresistance
sputtering
thin films
static magnetic field
magnetorezystancja
napylanie
cienkie warstwy
statyczne pole magnetyczne
Opis:
In this paper, the technology for fabricating NiFe/Cu/NiFe layered structures by magnetron sputtering is presented. Two series of samples were fabricated on a glass substrate with a layered structure, where the individual layers were 30 nm NiFe, 5 nm Cu, and finally NiFe with a thickness of 30 nm. The series differed in the type of technology mask used. A constant magnetic field was applied to the substrate during the sputtering of the ferromagnetic layers. Measurements of the DC resistance of the obtained structures in the constant magnetic field of neodymium magnet packs with a constant magnetic field of about 0.5 T magnetic induction have been carried out. Comparison of the two series allows us to conclude the greater validity of using masks in the form of kapton tape. The obtained results seem to confirm the occurrence of phenomena referred to as the giant magnetoresistance effect.
W pracy przedstawiono technologię produkcji struktur warstwowych NiFe/Cu/NiFe metodą rozpylania magnetronowego. Wykonane zostały dwie serie próbek na szklanym podłożu o strukturze warstwowej, gdzie poszczególne warstwy stanowiły 30 nm NiFe, 5 nm Cu oraz ostatecznie NiFe o grubości 30 nm. Serie różniły się rodzajem zastosowanej maski technologicznej. Podczas napylania warstw ferromagnetycznych do podłoża przyłożone zostało stałe pole magnetyczne. Przeprowadzone zostały pomiary rezystancji stałoprądowej otrzymanych struktur w stałym polu magnetycznym okładów magnesów neodymowych o stałym polu magnetycznym o wartości indukcji magnetycznej około 0,5 T. Porównanie obu serii pozwala stwierdzić większą zasadność stosowania masek w postaci taśmy kaptonowej. Otrzymane wyniki zdają się potwierdzać występowanie zjawisk określanych jako efekt gigantycznego magnetooporu.
Źródło:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2022, 12, 3; 12--15
2083-0157
2391-6761
Pojawia się w:
Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The effect of Co and Cu co-doping ZnO thin films on structural and optical properties
Autorzy:
Saoud, Tayeb
Benramache, Said
Diha, Abdallah
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31342694.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Towarzystwo Chemii i Inżynierii Ekologicznej
Tematy:
ZnO
thin films
Co
Cu
co-doping
TCO
spray pneumatic method
cienkie warstwy
współdomieszkowanie
Opis:
Using a spray pneumatic technique, cobalt (Co) and copper (Cu) co-doped zinc oxide thin films were effectively deposited on a glass substrate. The goal of this work was to create a semiconductor with good optical and electrical properties by co-doping ZnO thin films with Cu and Co. The ZnO thin films obtained from the Co and Cu co-doping exhibit patterns of x-ray diffraction spectra that suggest they are hexagonal ZnO (wurtzite, JCPDS 36-1451). The thin film elaborated with 2 % Co and 7 % Cu has the lowest value of crystallite size (D = 14.67 nm). The transmission spectra demonstrate that all films have good optical transparency in the visible spectrum, with 7 % Cu achieving the highest transmission. Increasing Cu contents raised the band gap energy. The value at the minimum was 3.31 eV. The optical band gap’s broadening is a significant characteristic of advanced materials and may be useful in applications involving metal oxide nanostructures for visible light gas sensing.
Źródło:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology; 2023, 28, 1-2; 171-178
2084-4506
Pojawia się w:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Mechanical modelling of thin films. Stress Evolution, Degradation, Characterization
Mechaniczne modelowanie cienkich warstw
Autorzy:
Białas, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31343154.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Podstawowych Problemów Techniki PAN
Tematy:
cienkie warstwy
modelowanie cienkich warstw
mechaniczna analiza cienkich warstw
thin films
modelling of thin films
Opis:
The thesis reports the research effort aimed at the mechanical modelling of thin films. It is devoted to four particular aspects: stress development due to mechanical and thermal loadings, coating degradation due to through thickness cracking, coating delamination and, finally, mechanical characterization of thin films using non-invasive methods. The monograph consists of seven chapters. Chapter 1 is an introductory chapter, where thin films deposition methods are described. Then, failure modes observed in coatings are discussed. Since the developed modelling tools will be applied in particular to thermal barrier coatings and human skin, two final sections of the chapter introduce the reader into mechanical and material properties of TBC systems and human skin. Mathematical preliminaries is the subject of Chapter 2 of the monograph. Basics of elastic fracture mechanics of interfacial cracks are briefly presented and cohesive zone model is introduced. This model makes a basis for subsequent modelling of various types of cracks within coating systems. Chapters 3-6 report the novel part of the research and, except for the experiment described in the frst part of Chapter 4 (bending tests combined with acoustic emission technique), present an original contribution of the Author. In Chapter 3 an energy model of segmentation cracking with application to silicon oxide film is presented. Chapter 4 reports Fnite element simulation of stress development, delamination and through-thickness cracking in TBC systems. In Chapter 5 two dimensional model of frictional slip is presented and semi-analytical procedure providing delamination estimation is described. Chapter 6 presents a conceptual setup of piezoelectric sensors used for mechanical characteristic of human skin. The final Chapter 7 concludes the monograph and recapitulates the main achievements of the reported research.
Cienkie warstwy znajdują zastosowanie w wielu gałęziach techniki. Odnajdujemy je w układach scalonych, czyli w każdym komputerze. Tutaj przewodzenie ładunków elektrycznych jest w dużej mierze zależne od rodzaju powierzchni kontaktowych na granicy cienkich warstw materiałów o różnych własnościach elektrycznych i mechanicznych (Freund i Suresh [69], Lu i współpracownicy [128]). Kolejnym przykładem zastosowania cienkich warstw są pokrycia elementów turbin gazowych, na przykład ich łopatki (Evans i współpracownicy [62, 63]). Izolacja, wykonana z bardzo porowatej ceramiki o małej przewodności cieplnej, odgrywa tutaj istotną rolę, chroniąc właściwy materiał łopatki przed temperaturami znacznie przewyższającymi jego temperaturę topnienia oraz zapewniając ochronę przed czynnikami korozyjnymi. Wiąże się z tym istotny aspekt ekonomiczny, zastosowanie warstw izolacji termicznej pozwala bowiem na wydłużenie całkowitego okresu pracy turbiny oraz prowadzi do zwiększenia jej wydajności. Szczególnie materiały o zmieniających się właściwościach mechanicznych i termicznych po grubości pokrycia odgrywają coraz ważniejszą rolę w tego rodzaju zastosowaniach. Należy wymienić tutaj pokrycia wielowarstwowe (po angielsku multi-layered), gdzie zmiana cech mechanicznotermicznych jest skokowa po grubości oraz te, gdzie jest ona ciągła (Pindera i współpracownicy [161, 162]). Te drugie noszą raczej niefortunną w języku polskim nazwę materiałów gradientowych (po angielsku graded materials). Cienką warstwą jest także ludzka skóra, dlatego mechanika cienkich warstw znajduje także swoje zastosowanie w tych dziedzinach techniki lub nauki, których nazwa zaczyna się przedrostkiem bio- (Białas i Guzina [26]). W szczególności odgrywa rolę w diagnostyce komórek nowotworowych (w sensie mechanicznym są one sztywniejsze od komórek zdrowych) oraz przy produkcji sztucznej skóry (Wagner i współpracownicy [209]). Czas użytkowania elementów maszyn lub konstrukcji szczególnie narażonych na ścieranie w wyniku kontaktu z otoczeniem może być znacznie zwiększony właśnie poprzez zastosowanie na nich cienkich pokryć. Należy tutaj wymienić dyski komputerowe wykorzystujące zjawisko magnetyzmu lub sztuczne implanty bioder lub kolan (Freund i Suresh [69]). Niewielka grubość cienkich warstw odgrywa istotne znaczenie w innych gałęziach techniki. Polimerowe filmy wykorzystuje się przy produkcji laminowanych szyb - łączą one ze sobą elementy szklane (Ivanov [101], Muralidhar i współpracownicy [143]). Ten sam materiał, ale dodatkowo zbrojony włóknami, wykorzystuje się w budownictwie do wzmocnienia uszkodzonych elementów konstrukcyjnych (Cottone i Giambanco [50]). Pierwszym wnioskiem jaki nasuwa się po przejrzeniu powyższej listy jest stwierdzenie, że rolą cienkich warstw nie jest przenoszenie dużych obciążeń, powiedzielibyśmy, że nie pełnią one roli nośnej. W większości przypadków tak rzeczywiście jest, spełniają one jedynie zadanie ochronne. Mimo to, w wielu sytuacjach sam sposób ich produkcji powoduje wytworzenie dużych naprężeń początkowych, które w połączeniu z tymi, które wywołuje obciążona konstrukcja, mogą prowadzić do uszkodzenia warstwy. Najczęściej spotykane rodzaje uszkodzeń to pęknięcia po grubości lub odspajanie warstwy. Ich obecność może oznaczać całkowitą bezużyteczność elementu, który warstwa ma chronić. Konstrukcja, której rozmiar w jednym kierunku jest znacznie mniejszy niż w dwóch pozostałych to w mechanice konstrukcji płyta lub powłoka. Najważniejsza różnica, która pojawia się jednak, gdy mamy na myśli cienką warstwę polega na tym, że nie możemy tutaj pominąć materiału, który znajduje się pod nią i efektu, który on wywołuje. W wielu przypadkach nie jest nawet możliwe, aby wykonać eksperyment z samą cienką warstwą, a trudności związane są najczęściej z jej znikomą grubością. Chcąc modelować mechaniczne zachowanie się warstwy, wykorzystujemy pojęcie powierzchni kontaktowej, to jest powierzchni łączącej warstwę z podłożem. Dla tego obszaru definiujemy cechy mechaniczne, które oddają specyficzny charakter połączenia dwóch różnych materiałów warstwy i podłoża. Celem rozprawy jest opracowanie różnych metod mechanicznej analizy cienkich warstw ze szczególnym uwzględnieniem opisu stanu naprężenia, wywołanego nim rozwoju uszkodzeń (pękanie po grubości warstwy oraz jej odspajanie) oraz identyfikacji cech mechanicznych warstwy. Przyjęte modelowanie opiera się o mechanikę kontynualną ciała stałego i nie uwzględnia efektów wywołanych explicite analizą ziaren, dyslokacji lub wtrąceń obecnych w cienkim filmie. Typowy rząd grubości warstw omawianych w pracy to 0.5 žm - 2 mm. Jedynie proces pękania segmentacyjnego opisany w Rozdziale 3 dotyczy warstw znacznie cieńszych, o grubości 30-660 nm. Oryginalne aspekty prezentowanej rozprawy to: - zastosowanie energetycznego modelu pękania segmentacyjnego do opisu zjawisk zachodzących w warstwie tlenku krzemu na podłożu polimerowym; - wyjaśnienie wpływu naprężeń wstępnych na proces pękania segmentacyjnego w tym przypadku; - ilościowa analiza procesu rozwoju spękań po grubości warstwy izolacji termicznej; - wykazanie istotności wielkości kroku obciążenia w analizie metodą elementów skończonych procesu rozwoju dużej liczby nie połączonych ze sobą spękań; sformułowanie wskazówek praktycznych zezwalających na uniknięcie problemów ze zbieżnością obliczeń; - analiza głównych czynników decydujących o rozwoju stanu naprężenia w warstwach izolacji termicznej i podanie hipotetycznego scenariusza opisującego proces delaminacji tych warstw; - sformułowanie metody pozwalającej na pół-analityczne oszacowanie procesu dwuwymiarowego poślizgu ciernego warstwy na sztywnym podłożu; - wyprowadzenie prostych wzorów opisujących kształt strefy zdelaminowanej oraz proces delaminacji sztywnej warstwy ze sztywnego podłoża; - koncepcyjne sformułowanie zasad działania czujnika piezoelektrycznego pozwalającego na pomiar sprzężonych modułów sprężystych wielowarstwowego materiału; - sformułowanie praktycznych wskazówek służących zwiększeniu efektywności działania zaproponowanego czujnika.
Źródło:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research; 2012, 1; 3-238
2299-3657
Pojawia się w:
IPPT Reports on Fundamental Technological Research
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Tadaszak, K.
Paprocki, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/159030.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
Tematy:
reactive magnetron sputtering
thin films
modeling of magnetron sputering
reaktywne rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
model procesu rozpylania
Opis:
Deposition of compound thin films with reactive magnetron sputtering method causes a lot of difficulties, of which the main ones are the instability of the process and decrease of the deposition rate. Computer simulations were performed using Berg’s model assumptions. Firstly, effect of basic process parameters on aluminum oxide deposition was examined, also theoretical characteristics of the deposition of Al2O3, AlN, TiO2, TiN were compared. Next, the parameters for efficient deposition of titanium oxide were determined. Simulations were confirmed by the results of experimental work. The purpose of presented work was to define, with Berg’s model, mechanisms which enable deposition, in metallic mode of magnetron work, of oxides with properties near to stochiometric. Presented analysis results were compared to real process parameters observed during reactive sputtering .
Osadzanie cienkich warstw związków metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego sprawia wiele trudności, spośród których głównymi są niestabilność procesu i spadek szybkości osadzania. Komputerowe symulacje wykonano wykorzystując założenia modelu Berga. W pierwszej kolejności sprawdzono wpływ podstawowych parametrów procesu na osadzanie tlenku glinu. Porównano również teoretyczne charakte-rystyki osadzania Al2O3, AlN, TiO2, TiN. Następnie określono parametry umożliwiające wydajne osadzanie tlenku tytanu. Symulacje potwierdzono wynikami prac eksperymentalnych. Głównym celem pracy była próba określenia mechanizmów umożliwiających osadzanie w modzie metalicznym tlenków o właściwościach zbliżonych do warstw o składzie stechio-metrycznym.
Źródło:
Prace Instytutu Elektrotechniki; 2013, 263; 95-104
0032-6216
Pojawia się w:
Prace Instytutu Elektrotechniki
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Characterization of a solar cell by varying illumination
Autorzy:
Kołodziej, Andrzej
Kołodziej, Michał
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1402388.pdf
Data publikacji:
2020
Wydawca:
Państwowa Wyższa Szkoła Zawodowa w Tarnowie
Tematy:
thin films
solar cell measurement
silicon
I–V characteristic
varying illumination
cienkie warstwy
pomiar ogniw słonecznych
krzem
oświetlenie zmienne
Opis:
This work aims to confirm that the single-diode model of a monocrystalline cell can be used successfully also for thin-film solar cells when their basic parameters are calculated using the method of changing illumination. The authors describe the experimental procedure, in which I–V curves of thin-film solar cells are measured when illumination levels are changing. In experiments, a fully reflective 500 W solar simulator is used as an excellent broadband white light source, which provides the range of 0.01–10 Sun settings.
Źródło:
Science, Technology and Innovation; 2020, 10, 3; 8-14
2544-9125
Pojawia się w:
Science, Technology and Innovation
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Substrates with different magnetic properties versus iron-nickel film electrodeposition
Autorzy:
Białostocka, Anna M.
Klekotka, Marcin
Klekotka, Urszula
Żabiński, Piotr R.
Kalska-Szostko, Beata
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/31342692.pdf
Data publikacji:
2023
Wydawca:
Towarzystwo Chemii i Inżynierii Ekologicznej
Tematy:
electrodeposition
magnetic field
magnetohydrodynamics
substrate
thin films
iron-nickel alloys
elektroosadzanie
pole magnetyczne
magnetohydrodynamika
substrat
cienkie warstwy
stopy żelazo-nikiel
Opis:
The hereby work presents the iron-nickel alloys electroplated on the different metallic substrates (aluminium, silver, brass) using galvanostatic deposition, with and without presence of the external magnetic field (EMF). The films were obtained in the same electrochemical bath composition - mixture of iron and nickel sulphates (without presence of additives) in the molar ratio of 2 : 1 (Ni : Fe), the electric current density (50.0 mA/cm2), and the time (3600 s). The mutual alignment of the electric (E) and magnetic field (B) was changeable - parallel and perpendicular. The source of EMF was a set of two permanent magnets (magnetic field strength ranged from 80 mT to 400 mT). It was analysed the surface microstructure, composition, morphology, thickness and the mechanical properties (roughness, work of adhesion). The surface morphology and the thickness of films were observed by Scanning Electron Microscopy (SEM) and Confocal Laser Scanning Microscopy (CLSM). The elemental composition of all FeNi films was measured using Wavelength Dispersive X-Ray Fluorescence (WDXRF). The crystalographic analysis of the deposits was carried out by X-Ray Diffraction. Depending on the used substrate, modified external magnetic field orientation influenced the tribological and physio-chemical properties of the deposited layers. The diamagnetic substrates and EMF application reduced the FeNi thickness and the average crystallites size, in contrast to the paramagnetic substrate. Parallel EMF increased the value of the tribological parameters for CuZn and Ag but decreased for Al. The content of FeNi structure was rising in the case of diamagnetic substrate and the dependence was opposite on the paramagnetic substrate.
Źródło:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology; 2023, 28, 1-2; 157-170
2084-4506
Pojawia się w:
Chemistry-Didactics-Ecology-Metrology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw WOx wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego i analiza ich współczynnika doskonałości
Electrical and optical properties of the WOx thin films, prepared by magnetron sputtering, and analysis of their highest value
Autorzy:
Dybała, Julia
Mazur, Michał
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2203160.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
rozpylanie magnetronowe
cienkie warstwy
tlenek wolframu
właściwości optyczne
właściwości elektryczne
magnetron sputtering
thin films
tungsten oxide
optical properties
electrical properties
Opis:
W artykule przeanalizowano właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu. Jest to materiał często stosowany między innymi w inteligentnych oknach, lustrach antyparowych i czujnikach gazów. zbadano pięć serii cienkich warstw tlenku wolframu, które zostały wytworzone w procesach rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny gazu roboczego (ar) oraz reaktywnego (O2) o różnej zawartości tlenu, tj. od 5% do 15%. Każdy z procesów przeprowadzany był przy tej samej wartości ciśnienia, odległości target - podłoże oraz w tym samym czasie. Grubość cienkich warstw zmierzona za pomocą profilometru optycznego wynosiła około 160 nm. zauważono, że wraz ze zwiększaniem się udziału gazu reaktywnego w procesie próbki zmieniały barwę od metalicznej, przez ciemnogranatową, po błękitną, jednocześnie stając się coraz bardziej przezroczyste. Pomiary właściwości elektrycznych wykonane za pomocą sondy czteroostrzowej, a także właściwości optycznych przeprowadzone z użyciem spektrofotometru wykazały, że zwiększanie udziału tlenu w procesie powodowało wzrost średniej transmisji światła w zakresie widzialnych długości fal oraz rezystywności cienkich warstw. W artykule przeanalizowano również współczynniki Figure of Merit określające jakość badanej próbki. Największą wartość współczynnika doskonałości otrzymano dla cienkiej warstwy tlenku wolframu, odznaczającej się stosunkowo dużą średnią transmisją światła w zakresie widzialnym przy niskiej wartości rezystywności. Przeprowadzone badania wykazały, że atmosfera gazowa podczas procesu rozpylania magnetronowego istotnie wpływa na właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu, co stwarza możliwość projektowania cienkowarstwowych powłok przeznaczonych do stosowania w transparentnej elektronice.
In this article, optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, prepared by magnetron sputtering in the atmosphere of various oxygen content, were analysed. Tungsten oxide is a material, which is widely used in modern applications such as smart windows, antisteam mirrors, and gas sensors. Five sets of tungsten oxide thin films were deposited by magnetron sputtering in the mixed argon-oxygen atmosphere composed of various content of reactive gas, i.e., from 5% to 15%. In each case, other deposition process parameters were the same. The thickness of the thin films was ca. 160 nm and it was measured with the optical profilometer. it was noticed that along with the increase in the proportion of reactive gas in the process, thin film samples changed their colour from metallic, through navy blue to blue and simultaneously they became increasingly transparent. Measurements of electrical properties, made using the four-point probe and optical properties, performed with the aid of a spectrophotometer showed that increasing the proportion of oxygen in the process increased the average transmission in the visible wavelength range and the resistivity of the prepared WOx thin films. in the article, the Figure of Merit (FoM) coefficients are also presented, which determine the quality of the thin film samples. it was shown that the highest value of the FoM was observed for WOx thin film characterised by a relatively high average transmission in the visible wavelength range and low value of resistivity. The performed measurements showed that the gas atmosphere during magnetron sputtering process leads to the tailoring of the optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, which in turn makes it possible to design and apply such thin film coatings in transparent electronics.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 15--25
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
A simple semi-analytical model for the Kink effect for the intrinsic n-channel polysilico thin film transistors
Autorzy:
Siddiqui, M. J.
Qureshi, S.
Alshariff, S. M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/378435.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Tematy:
cienkie warstwy
tranzystory
jonizacja
pole elektryczne
model analityczny
efekt Kinka
polisilikon
thin films
tranzistors
ionization
electric field
analylical model
Kink effect
polysilicon
Opis:
In order to improve the modeling of Polysilicon thin film transistors (Poly-Si-TFTs) a precise evaluation of the excess current due to impact ionization is needed. In this paper we have proposed a simple model for the excess current resulting from the impact ionization occurring at high drain biases. Model is based on the estimation of the electric field in the saturated part of the channel. The electric field in the saturated region is obtained by the solution of the two- dimensional Poisson's equation. The model is semi-analytical and uses only one fitting parameter which is desirable for circuit simulation. The simulation results with the developed impact ionization current model are in excellent agreement with the available experimental output characteristics of the intrinsic n-channel Poly-Si-TFTs.
Źródło:
Electron Technology : Internet Journal; 2007, 39, 1; 1-4
1897-2381
Pojawia się w:
Electron Technology : Internet Journal
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Wpływ wygrzewania na wybrane właściwości mieszanych tlenków miedzi i tytanu
Influence of annealing on selected properties of mixed copper and titanium oxides
Autorzy:
Mańkowska, Ewa
Mazur, Michał
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2203162.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
Tematy:
elektronika
czujniki wodoru
mieszaniny tlenków miedzi i tytanu
cienkie warstwy
rozpylanie magnetronowe
electronics
hydrogen gas sensor
mixed copper and titanium oxides
thin films
magnetron sputtering
Opis:
Praca poświęcona jest badaniom wpływu wygrzewania poprocesowego na morfologię mieszanych tlenków miedzi i tytanu, a także na ich właściwości elektryczne i czujnikowe. Cienkie warstwy (Cu,Ti)Ox naniesiono za pomocą rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej oraz na podłoża ceramiczne ze zintegrowanymi elektrodami. Dodatkowo zastosowano termiczną obróbkę poprocesową w temperaturach 200°C oraz 250°C. Zmianę struktury w procesie utleniania termicznego badano za pomocą dyfrakcji rentgenowskiej, natomiast dzięki profilometrowi optycznemu określono morfologię powierzchni cienkich warstw. W celu określenia właściwości elektrycznych zmierzono charakterystyki prądowo-napięciowe oraz termoelektryczne, na podstawie których wyznaczono rezystancję oraz typ przewodnictwa. Cienkie warstwy (Cu,Ti)Ox poddane obróbce poprocesowej charakteryzowały się dziurowym typem przewodnictwa, a co więcej silnie reagowały na obecność wodoru w atmosferze pomiarowej.
This work presents an investigation of the effects of post-process annealing on the morphology of mixed copper and titanium oxides and on their electrical and hydrogen sensing properties. (CuTi)Ox thin films were deposited by magnetron sputtering on amorphous silica and ceramic substrates with interdigitated electrodes. In addition, post-process thermal treatment was applied at the temperatures of 200°C and 250°C. The transformation of the thin film structure during the thermal oxidation process was studied by X-ray diffraction, while the morphology of the thin films was determined using an optical profilometer. Current-voltage and thermoelectric characteristics were measured to determine electrical properties, from which the resistance and conduction type were determined. The post-treatment (CuTi)Ox thin films exhibited hole-type conduction and, additionally, strongly responded to hydrogen atmosphere.
Źródło:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 41--48
1234-5865
Pojawia się w:
Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł

Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies