Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Thin Film" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
    Autorzy:
    Szindler, Marek
    Szindler, Magdalena M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1835965.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    atomic layer deposition
    titanium dioxide
    Opis:
    Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon wafers substrates by an atomic layer deposition (ALD) method. There optical parameters were investigated by spectroscopic ellipsometry and UV/VIS spectroscopy. A material with a refractive index of 2.41 was obtained. Additionally, in a wide spectral range it was possible to reduce the reflection from the silicon surface below 5%. The Raman spectroscopy method was used for structural characterization of anatase TiO2 thin films. Their uniformity and chemical composition are confirmed by a scanning electron microscope (SEM) energy dispersive spectrometer (EDS).
    Źródło:
    Optica Applicata; 2020, 50, 4; 663-670
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
    Autorzy:
    Dobrzanski, L. A.
    Szindler, M.
    Hajduk, B.
    Kotowicz, S.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/173801.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    aluminum oxide
    atomic layer deposition
    Opis:
    This paper presents some results of investigations on aluminum oxide Al2O3 thin films prepared by the atomic layer deposition method on polished monocrystalline silicon. It has been described how the technological parameters of the deposition process, like the number of cycles and substrate temperature, influenced the optical properties and morphology of prepared thin films. Their physical and optical properties like thickness, uniformity and refractive index have been investigated with spectroscopic ellipsometry, atomic force microscopy and UV/vis optical spectroscopy.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2015, 45, 4; 573-583
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Application of Al2O3, ZnO, and TiO2 ALD thin films as antireflection coating in the silicon solar cells
    Autorzy:
    Szindler, Marek
    Szindler, Magdalena
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/27315697.pdf
    Data publikacji:
    2023
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
    Tematy:
    optical thin film
    antireflection coating
    atomic layer deposition
    solar cells
    Opis:
    The article describes the results of a research on the surface morphology and optical properties of Al₂O₃, ZnO, and TiO₂ thin films deposited by atomic layer deposition (ALD) for applications in silicon solar cells. The surface topography and elemental composition were characterised using a scanning electron microscope, and thickness was determined using an optical reflectometer. The samples were structurally examined using a Raman spectrometer. The structural variant was identified: for Al₂O₃ it is sapphire, for TiO₂ it is anatase, and for ZnO it is wurtzite. Possibilities of minimising light reflection using single and double thin film systems below 5% were presented. For the first time, the effectiveness of these thin films on the current-voltage characteristics and electrical parameters of manufactured silicon solar cells was examined and compared. The solar cell with the highest efficiency of converting solar radiation into electricity was obtained for Al₂O₃/TiO₂ and the efficiency of such a photovoltaic device was 18.74%.
    Źródło:
    Opto-Electronics Review; 2023, 31, 4; art. no. e148223
    1230-3402
    Pojawia się w:
    Opto-Electronics Review
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies