Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Żmuda, M." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Enhancement of Intersubband Absorption in GaInN/AlInN Quantum Wells
Autorzy:
Cywiński, G.
Skierbiszewski, C.
Siekacz, M.
Kryśko, M.
Feduniewicz-Żmuda, A.
Gladysiewicz, M.
Kudrawiec, R.
Misiewicz, J.
Nevou, L.
Kheirodin, N.
Julien, F.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1811923.pdf
Data publikacji:
2008-11
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
78.30.Fs
78.67.De
68.65.Fg
73.21.Fg
81.15.Hi
Opis:
GaInN/AlInN multiple quantum wells were grown by RF plasma-assisted molecular beam epitaxy on (0001) GaN/sapphire substrates. The strain-engineering concept was applied to eliminate cracking effect and to improve optical parameters of intersubband structures grown on GaN substrates. The high quality intersubband structures were fabricated and investigated as an active region for applications in high-speed devices at telecommunication wavelengths. We observed the significant enhancement of intersubband absorption with an increase in the barrier thickness. We attribute this effect to the better localization of the second electron level in the quantum well. The strong absorption is very important on the way to intersubband devices designed for high-speed operation. The experimental results were compared with theoretical calculations which were performed within the electron effective mass approximation. A good agreement between experimental data and theoretical calculations was observed for the investigated samples.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1093-1099
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Crack Free GaInN/AlInN Multiple Quantum Wells Grown on GaN with Strong Intersubband Absorption at 1.55μm
Autorzy:
Cywiński, G.
Skierbiszewski, C.
Feduniewicz-Żmuda, A.
Siekacz, M.
Nevou, L.
Doyennette, L.
Julien, F. H.
Prystawko, P.
Kryśko, M.
Grzanka, S.
Grzegory, I.
Porowski, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2046911.pdf
Data publikacji:
2006-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.65.Fg
78.66.-w
78.67.De
78.40.Fy
81.15.Hi
Opis:
Crack free GaInN/AlInN multiple quantum wells were grown by rf plasma-assisted molecular beam epitaxy on (0001) GaN/sapphire substrates. The strain-engineering concept was applied to eliminate cracking effect for growth of intersubband structures on GaN. Indium contained ternary compounds of barrier and well layers are contrary strained to the substrate material. A series of crack free GaInN/AlInN intersubband structures on (0001) GaN was fabricated and investigated. The assumed composition and layered structure were confirmed by room temperature photoluminescence and X-ray diffraction measurements. The intersubband measurements were done in multipass waveguide geometry by applying direct intersubband absorption and photoinduced intersubband absorption measurements. The optimized structure design contains forty periods of Si-doped GaInN/AlInN quantum wells and exhibits strong intersubband absorption.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2006, 110, 2; 175-181
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies