GaInN/AlInN multiple quantum wells were grown by RF plasma-assisted molecular beam epitaxy on (0001) GaN/sapphire substrates. The strain-engineering concept was applied to eliminate cracking effect and to improve optical parameters of intersubband structures grown on GaN substrates. The high quality intersubband structures were fabricated and investigated as an active region for applications in high-speed devices at telecommunication wavelengths. We observed the significant enhancement of intersubband absorption with an increase in the barrier thickness. We attribute this effect to the better localization of the second electron level in the quantum well. The strong absorption is very important on the way to intersubband devices designed for high-speed operation. The experimental results were compared with theoretical calculations which were performed within the electron effective mass approximation. A good agreement between experimental data and theoretical calculations was observed for the investigated samples.
Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies
Informacja
SZANOWNI CZYTELNICY!
UPRZEJMIE INFORMUJEMY, ŻE BIBLIOTEKA FUNKCJONUJE W NASTĘPUJĄCYCH GODZINACH:
Wypożyczalnia i Czytelnia Główna: poniedziałek – piątek od 9.00 do 19.00