Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "73.90.+f" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Electrical Behaviour of Nanostructured Porous Silicon
Autorzy:
Azim-Araghi, M.
Ashrafabadi, S.
Kanjuri, F.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1419847.pdf
Data publikacji:
2012-07
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
73.30.+y
73.40.Sx
73.50.-h
73.90.+f
73.63.Rt
68.37.Hk
Opis:
The electrical behaviour of porous silicon layers has been investigated on one side of p-type silicon with various anodization currents, electrolytes, and times. Electron microscopy reveals the evolution of porous silicon layer morphology with variation in anodization time. In this work electrical conductivity of bulk silicon and porous layer which is formed by electrochemical etching is compared due to I-V measurements and calculation of activation energy. We have also studied the dependence of porous silicon conductivity on fabrication conditions. Also the effect of the temperature on conduction of porous silicon at different frequencies is investigated. At last dependence of capacitance on the temperature was probed at $10^2 - 10^5$ Hz frequency range.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 122, 1; 170-173
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Structure and Some Physical Properties of Chemically Deposited Nickel Sulfide Thin Films
Autorzy:
Hammad, A.
ElMandouh, Z.
Elmeleegi, H.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1400567.pdf
Data publikacji:
2015-04
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.05.cp
68.37.Hk
68.55.jd
68.55.J-
78.20.Ci
78.68.+m
73.50.Lw
73.90.+f
Opis:
$Ni_2S_{2-x}$ thin films with x=0, 0.5, and 1 were prepared by chemical bath deposition technique. Amorphous structure was discovered by XRD for x=1, while α-Ni₇S₆ and NiS phases were discovered for x=0, and x=0.5 respectively. SEM graphs of the studied films have confirmed the XRD results. Optical band gap values increase from 0.845 to 0.912 eV, with increase of the composition x from 0 to 1. Activation energy values increase in the range from x=0 to x=0.5 and does not change for x=1.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2015, 127, 4; 901-903
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies