- Tytuł:
-
Badania nad technologią otrzymywania cienkich warstw emitera metodą rozpylania magnetronowego dla zastosowań w ogniwach CIGS
Research on the technology of obtaining thin layers of emitter in CIGS photovoltaic cells by using magnetron sputtering process - Autorzy:
-
Pietraszek, J.
Gułkowski, S. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/105005.pdf
- Data publikacji:
- 2017
- Wydawca:
- Politechnika Rzeszowska im. Ignacego Łukasiewicza. Oficyna Wydawnicza
- Tematy:
-
CIGS
CdS
warstwa buforowa
ogniwa fotowoltaiczne
kąpiel chemiczna
CBD
rozpylanie magnetronowe
ogniwa cienkowarstwowe
buffer layer
photovoltaic cells
chemical bath deposition
magnetron sputtering
thin film cell - Opis:
-
Cienkowarstwowe ogniwa fotowoltaiczne wykonane na bazie struktury CIGS
(mieszaniny pierwiastków miedzi, indu, galu oraz selenu) należą do II generacji
ogniw fotowoltaicznych. Wykazują one efektywność na poziomie zbliżonym do
ogniw I generacji, lecz ze względu na niższe zużycie materiału, coraz częściej wypierają
z rynku ogniwa krzemowe Artykuł przedstawia rezultaty badań dotyczących
sposobu otrzymywania warstwy buforowej CdS (siarczku kadmu), zastosowanej
w cienkowarstwowych ogniwach fotowoltaicznych typu CIGS. Przyjęto
dwa rozwiązania technologii nanoszenia: warstwa okna CdS uzyskana metodą
rozpylenia magnetronowego oraz warstwa okna CdS uzyskana metodą kąpieli
chemicznej (CBD– Chemical Bath Deposition). Struktura ta powinna posiadać odpowiednią
wielkość przerwy energetycznej, która pozwali na większą absorpcję
fotonów, a także wymaga się, aby była cienka (mniej niż 100 nm) i jednolita. Warstwy
CdS zostały nałożone przez osadzanie w kąpieli chemicznej CBD na szklanych
podłożach pokrytych Mo/CIGS (naniesione warstwy metodą sputteringu magnetronowego).
Uzyskano dzięki temu warstwę emitera o grubości 80 nm po czasie
osadzania 35 minut. Dla porównania warstwy CdS zostały nałożone poprzez
sputtering magnetronowy na podłożu Mo/CIGS, uzyskanym tą samą metodą. Następnie
oba rozwiązania zostały przebadane pod względem morfologii powierzchni
na elektronowym mikroskopie skaningowym, jak również przeprowadzono analizy
składu pierwiastkowego warstw. Zarówno jedna, jak i druga metoda prowadzi do
otrzymania warstwy emitera CdS dla zastosowań w ogniwach CIGS.
Thin-film photovoltaic cells created based on the structure of CIGS (a mixture of the elements copper, indium, gallium and selenium) belong to the second generation of photovoltaic cells. They show the effectiveness of a level similar to the cells of the first generation, but due to lower material consumption, they increasingly forcing out silicon solar cells. The article presents the results of research of the method for obtaining a CdS buffer layer, used in thin-film CIGS photovoltaic cells. Two technology solutions of application were adopted: layer of CdS window obtained by the magnetron sputtering and layer of CdS obtained by chemical method (CBD- Chemical Bath Deposition). CdS layer has been imposed by the deposition in the chemical bath on glass substrates covered with Mo/CIGS (layers applied by magnetron sputtering). Allowing an emitter layer having a thickness of 80 cm after 35 minutes of deposition time. For comparison, a CdS layer was applied by magnetron sputtering on the substrate Mo/CIGS obtained by the same method. Subsequently, both solutions were examined in the SEM microscope to check the surface morphology, and also to analysis the elemental composition of the layers. Both methods leads to receive CdS emitter layer for use in CIGS cells. - Źródło:
-
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury; 2017, 64, 1; 173-180
2300-5130
2300-8903 - Pojawia się w:
- Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł