Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Żuk, S." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    III-V Quantum Dots in Dielectrics Made by Ion Implantation and Flash Lamp Annealing
    Autorzy:
    Prucnal, S.
    Turek, M.
    Gao, K.
    Zhou, S.
    Pyszniak, K.
    Droździel, A.
    Żuk, J.
    Skorupa, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1400484.pdf
    Data publikacji:
    2013-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    78.30.Fs
    78.67.Hc
    81.05.Ea
    81.07.Ta
    81.15.Lm
    Opis:
    Different semiconductor nanocrystals synthesized in dielectrics on silicon are very interesting for applications in non-volatile memories and photovoltaics. In this paper we present an overview of microstructural and opto-electronic properties of different III-V quantum dots embedded in $SiO_2$ and $Si_3N_4$ made by sequential ion implantation and millisecond range flash lamp annealing. It is shown that within 20 ms post-implantation annealing high quality crystalline III-V quantum dots can be formed in different matrices. Formation of crystalline III-V quantum dots was confirmed by cross-section transmission electron microscopy, photoluminescence and μ-Raman spectroscopy. Flash lamp annealing is essentially a single-flash-single-wafer technique whose main attributes are the ease and control of processing over large wafer batches.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 935-938
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Influence of Hot Implantation on Residual Radiation Damage in Silicon Carbide
    Autorzy:
    Rawski, M.
    Żuk, J.
    Kulik, M.
    Droździel, A.
    Lin, L.
    Prucnal, S.
    Pyszniak, K.
    Turek, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1504145.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.72.U-
    78.30.-j
    61.05.Np
    63.50.-x
    79.20.Rf
    81.70.Fy
    Opis:
    Remarkable thermomechanical and electrical properties of silicon carbide (SiC) make this material very attractive for high-temperature, high-power, and high-frequency applications. Because of very low values of diffusion coefficient of most impurities in SiC, ion implantation is the best method to selectively introduce dopants over well-defined depths in SiC. Aluminium is commonly used for creating p-type regions in SiC. However, post-implantation radiation damage, which strongly deteriorates required electric properties of the implanted layers, is difficult to anneal even at high temperatures because of remaining residual damage. Therefore implantation at elevated target temperatures (hot implantation) is nowadays an accepted method to decrease the level of the residual radiation damage by avoiding ion beam-induced amorphization. The main objective of this study is to compare the results of the Rutherford backscattering spectroscopy with channeling and micro-Raman spectroscopy investigations of room temperature and 500°C $Al^{+}$ ion implantation-induced damage in 6H-SiC and its removal by high temperature (up to 1600°C) thermal annealing.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 192-195
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Optical Pattern Fabrication in Amorphous Silicon Carbide with High-Energy Focused Ion Beams
    Autorzy:
    Tsvetkova, T.
    Takahashi, S.
    Sellin, P.
    Gomez-Morilla, I.
    Angelov, O.
    Dimova-Malinovska, D.
    Zuk, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1503892.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    41.75.Ak
    42.70.Ln
    68.37.Uv
    73.61.Jc
    Opis:
    Topographic and optical patterns have been fabricated in a-SiC films with a focused high-energy (1 MeV) $H^{+}$ and $He^{+}$ ion beam and examined with near-field techniques. The patterns have been characterized with atomic force microscopy and scanning near-field optical microscopy to reveal local topography and optical absorption changes as a result of the focused high-energy ion beam induced modification. Apart of a considerable thickness change (thinning tendency), which has been observed in the ion-irradiated areas, the near-field measurements confirm increases of optical absorption in these areas. Although the size of the fabricated optical patterns is in the micron-scale, the present development of the technique allows in principle writing optical patterns up to the nanoscale (several tens of nanometers). The observed values of the optical contrast modulation are sufficient to justify the efficiency of the method for optical data recording using high-energy focused ion beams.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 56-59
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies