Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "reactive magnetron sputtering" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-7 z 7
    Tytuł:
    Solar cells based on copper oxide and titanium dioxide prepared by reactive direct-current magnetron sputtering
    Autorzy:
    Wisz, Grzegorz
    Sawicka-Chudy, Paulina
    Sibiński, Maciej
    Starowicz, Zbigniew
    Płoch, Dariusz
    Góral, A.
    Bester, Mariusz
    Cholewa, M.
    Woźny, Janusz
    Sosna-Głębska, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1818195.pdf
    Data publikacji:
    2021
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
    Tematy:
    solar cells
    copper oxide
    titanium dioxide
    reactive magnetron sputtering
    Opis:
    In this study, solar cells based on copper oxide and titanium dioxide were successfully manufactured using the reactive direct-current magnetron sputtering (DC-MS) technique with similar process parameters. TiO₂/CuO, TiO₂/Cu₂O/CuO/Cu₂O, and TiO₂/Cu₂O solar cells were manufactured via this process. Values of short-circuit current efficiencies, short-circuit current density, open-circuit voltage, and maximum power of PV devices were investigated in the range of 0.02÷0.9%, 75÷350 µA, 75÷350 µA/cm², 16÷550 mV, and 0.6÷27 µW, respectively. The authors compare solar cells reaching the best and the worst conversion efficiency results. Thus, only the two selected solar cells were fully characterized using I-V characteristics, scanning electron microscopy, X-ray diffraction, ellipsometry, Hall effect measurements, and quantum efficiency. The best conversion efficiency of a solar cell presented in this work is about three times higher in comparison with the authors’ previous PV devices.
    Źródło:
    Opto-Electronics Review; 2021, 29, 3; 97--104
    1230-3402
    Pojawia się w:
    Opto-Electronics Review
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    aaSolar cells based on copper oxide and titanium dioxide prepared by reactive direct-current magnetron sputtering
    Autorzy:
    Wisz, G.
    Sawicka-Chudy, P.
    Sibiński, M.
    Starowicz, Z.
    Płoch, D.
    Góral, A.
    Bester, M.
    Cholewa, M.
    Woźny, J.
    Sosna-Głębska, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1818199.pdf
    Data publikacji:
    2021
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Stowarzyszenie Elektryków Polskich
    Tematy:
    solar cells
    copper oxide
    titanium dioxide
    reactive magnetron sputtering
    Opis:
    In this study, solar cells based on copper oxide and titanium dioxide were successfully manufactured using the reactive direct-current magnetron sputtering (DC-MS) technique with similar process parameters. TiO₂/CuO, TiO₂/Cu₂O/CuO/Cu₂O, and TiO₂/Cu₂O solar cells were manufactured via this process. Values of short-circuit current efficiencies, short-circuit current density, open-circuit voltage, and maximum power of PV devices were investigated in the range of 0.02÷0.9%, 75÷350 µA, 75÷350 µA/cm², 16÷550 mV, and 0.6÷27 µW, respectively. The authors compare solar cells reaching the best and the worst conversion efficiency results. Thus, only the two selected solar cells were fully characterized using I-V characteristics, scanning electron microscopy, X-ray diffraction, ellipsometry, Hall effect measurements, and quantum efficiency. The best conversion efficiency of a solar cell presented in this work is about three times higher in comparison with the authors’ previous PV devices.
    Źródło:
    Opto-Electronics Review; 2021, 29, 3; 97--104
    1230-3402
    Pojawia się w:
    Opto-Electronics Review
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Nanokompozyty osadzane metodą rozpylania magnetronowego i ich zastosowania
    Nanocomposites deposited by reactive magnetron sputtering and their applictaions
    Autorzy:
    Tadaszak, K.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159596.pdf
    Data publikacji:
    2012
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    reaktywne rozpylanie magnetronowe
    nanokompozyty cienkie
    reactive magnetron sputtering
    nanocomposites
    thin films
    Opis:
    Cienkie warstwy nanokompozytów ze względu na ciekawe właściwości znajdują coraz szersze zastosowanie w najróżniejszych gałęziach przemysłu, od elektroniki, przez mechanikę (warstwy odporne na ścieranie) po fotowoltaikę. W pracy zostały przedstawione możliwości wykorzystania technologii reaktywnego osadzania magnetronowego do nanoszenia warstw kompozytów o rozmiarach charakterystycznych 10 – 300 nm (jest to rozmiar ziarna lub pojedynczej warstwy). Zmierzone zostały właściwości kompozytów – mieszanin tlenków i azotków z metalami (Al2O3-Al, AlN-Al, TiO2-Ti, TiN-Ti). Badania przeprowadzono z użyciem niezbalansowanego magnetronu WMK-50. Korzystano w nich z targetów tytanowych i glinowych o średnicy 50 mm, które rozpylano w obecności mieszaniny gazu roboczego – argonu i gazu reaktywnego – tlenu lub azotu. W badaniach wykorzystywano metaliczny mod pracy magnetronu, nie dopuszczano do zatrucia powierzchni targetu związkiem. Umożliwiało to osadzanie warstw związków i wtrąceń metalicznych bez konieczności długotrwałego oczyszczania powierzchni rozpylanej. Właściwości elektryczne i optyczne tych warstw zostały porównane z czystymi tlenkami i azotkami bez wtrąceń metalicznych, a następnie wstępnie scharakteryzowane pod kątem możliwych zastosowań.
    Nanocomposite thin films are more and more popular in various industries, from electronics, mechanics (wear resistant films) to photovoltaics, because of their unusual properties. In this paper, the possibility of deposition of composite with characteristic size 10 to 300 nm (grains or single layers) with use of reactive magnetron sputtering technology was presented. The properties of mixture of oxides or nitrides with metal (Al2O3-Al, AlN-Al, TiO2-Ti, TiN-Ti) were measured. In presented research the unbalanced WMK-50 magnetron was used. The titanium and aluminum target with 50 mm in diameter was sputtered in mixture of working gas – argon and reactive gas – oxygen or nitride. The metallic mode of magnetron work was applied to ensure clean target surface without poisoning (with oxide or nitride). Keeping metal surface uncovered enabled to deposit nanocomposite without need of long-term cleaning of sputtering surface. The electrical and optical properties of nanocomposites were compared with those of clean oxides and nitrides (without the metal parts) and then pre-characterized in terms of possible applications.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2012, 259; 101-102
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    ZnO films: propeties determined by electronic microscopy and ellipsometry
    Autorzy:
    Rakov, M.
    Poperenko, L.
    Tkach, V.
    Yurgelevich, I.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/385183.pdf
    Data publikacji:
    2009
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Przemysłowy Instytut Automatyki i Pomiarów
    Tematy:
    reactive magnetron sputtering
    Beattie’s method
    semi-infinite medium
    AFM
    SEM
    nanostructures
    Opis:
    Zinc oxide is a good material for application in nanoand optoelectronics due to its notable features, for example, large band gap. In this work ZnO films deposited by reactive magnetron sputtering at various pressure of residual gases and different temperatures of the substrate are investigated. The spectral dependences of ellipsometric parameters and of the films are determined by ellipsometry. The effective values of optical constants and are calculated. The roughness and the texture of the surfaces are obtained by Atomic-Force Microscopy (AFM) and Scanning Electronic Microscopy (SEM). One indicates that the refractive index decreases when reducing the pressure of residual gases, and the roughness decreases when elevating the temperature of the substrate. Thus, the behavior of some properties of the films at various conditions of deposition is determined.
    Źródło:
    Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems; 2009, 3, 4; 112-114
    1897-8649
    2080-2145
    Pojawia się w:
    Journal of Automation Mobile Robotics and Intelligent Systems
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Reactive pulsed magnetron sputtering of titanium : influence of process parameters on resistivity and optical properties
    Reaktywne impulsowe rozpylanie tytanu : wpływ parametrów procesu na rezystywność i właściwości optyczne
    Autorzy:
    Tadaszak, K.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159255.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    reactive magnetron sputtering
    titanium nitride
    titanium oxide
    reaktywne rozpylanie magnetronowe
    azotek tytanu
    tlenek tytanu
    Opis:
    Cienkie warstwy azotku i tlenku tytanu osadzane były z procesie impulsowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Przeanalizowano wpływ ciśnienia cząstkowego gazów reaktywnych na właściwości tych materiałów. Kontrola procesu oparta była na śledzeniu zmian parametru zasilacza – mocy krążącej. Zaprezentowana technologia umożliwia dowolne modyfikowanie składu chemicznego, od warstw z nadmiarową zawartością tytanu, przez składy stechiometryczne, po nadstechiometryczne, co jest powodem obserwowanych zmian w mierzonych charakterystykach związków tytanu. Zbadano elektryczne i optyczne właściwości warstw, a następnie oceniono je pod względem możliwych zastosowań. Dzięki specjalnemu źródłu zasilania i kontroli procesu, możliwe było nanoszenie materiałów o niskiej rezystywności, bez dodatkowego podgrzewania podłoża i z wysoką szybkością osadzania. Zaprezentowana technologia może zostać wykorzystana do pokrywania podłoży nieodpornych na wysokie temperatury.
    Titanium nitride and titanium oxide thin films were deposited by pulsed DC reactive magnetron sputtering. In this paper the influence of reactive gas partial pressure on the properties has been studied. The process control was realized by tracking the changes in the power supply parameter – circulating power. Presented technology enables free modification in the chemical composition, from titanium–rich to stoichiometric and overstoichiometric materials. The electrical and optical properties of titanium compounds were measured and then evaluated for possible electrode applications. Thanks to the special power supply and process control, it was possible to deposit low resistivity thin films without additional substrate heating and with high deposition rate. Presented technology is suitable for substrates with low temperature resistance.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2013, 261; 5-13
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    High rate deposition of thin film compounds - modeling of reactive magnetron sputtering process
    Wydajne osadzanie cienkich warstw związków chemicznych – modelowanie procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Tadaszak, K.
    Paprocki, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159030.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    reactive magnetron sputtering
    thin films
    modeling of magnetron sputering
    reaktywne rozpylanie magnetronowe
    cienkie warstwy
    model procesu rozpylania
    Opis:
    Deposition of compound thin films with reactive magnetron sputtering method causes a lot of difficulties, of which the main ones are the instability of the process and decrease of the deposition rate. Computer simulations were performed using Berg’s model assumptions. Firstly, effect of basic process parameters on aluminum oxide deposition was examined, also theoretical characteristics of the deposition of Al2O3, AlN, TiO2, TiN were compared. Next, the parameters for efficient deposition of titanium oxide were determined. Simulations were confirmed by the results of experimental work. The purpose of presented work was to define, with Berg’s model, mechanisms which enable deposition, in metallic mode of magnetron work, of oxides with properties near to stochiometric. Presented analysis results were compared to real process parameters observed during reactive sputtering .
    Osadzanie cienkich warstw związków metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego sprawia wiele trudności, spośród których głównymi są niestabilność procesu i spadek szybkości osadzania. Komputerowe symulacje wykonano wykorzystując założenia modelu Berga. W pierwszej kolejności sprawdzono wpływ podstawowych parametrów procesu na osadzanie tlenku glinu. Porównano również teoretyczne charakte-rystyki osadzania Al2O3, AlN, TiO2, TiN. Następnie określono parametry umożliwiające wydajne osadzanie tlenku tytanu. Symulacje potwierdzono wynikami prac eksperymentalnych. Głównym celem pracy była próba określenia mechanizmów umożliwiających osadzanie w modzie metalicznym tlenków o właściwościach zbliżonych do warstw o składzie stechio-metrycznym.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2013, 263; 95-104
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Sterowanie procesem reaktywnego rozpylania magnetronowego
    Process control of reactive magnetron sputtering
    Autorzy:
    Stec, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/156298.pdf
    Data publikacji:
    2005
    Wydawca:
    Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
    Tematy:
    reaktywne rozpylanie
    magnetron
    reactive sputtering
    Opis:
    W pracy przedstawiono wybrane zagadnienia związane ze sterowaniem procesem rektywnego rozpylania magnetronowego. Omówiono najczęściej stosowane metody sterowania. Przedstawiono zależność opisującą charakterystykę prądowo-napięciową oraz sposób modelowania dynamiki procesu związanego z reaktywnym rozpylaniem. Zaproponowano układ regulacji do pracy w trybie przejściowym.
    Some aspects of reactive sputtering process control are presented. Most popular control methods are described. current-voltage relation and modelling dynamics of reactive sputtering are presented. Block diagram of a feedback system is proposed.
    Źródło:
    Pomiary Automatyka Kontrola; 2005, R. 51, nr 1, 1; 53-55
    0032-4140
    Pojawia się w:
    Pomiary Automatyka Kontrola
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-7 z 7

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies