Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Barth, W." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Piezoresistive sensors for atomic force microscopy - numerical simulations by means of virtual wafer fab
Autorzy:
Dębski, T.
Barth, W.
Rangelow, I.W.
Domański, K.
Tomaszewski, D.
Grabiec, P.
Jakubowski, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/307644.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
atomic force microscopy (AFM)
piezoresistive sensors
technology simulation
technology characterization
Opis:
An important element in microelectronics is the comparison of the modelling and measurements results of the real semiconductor devices. Our paper describes the final results of numerical simulation of a micromechanical process sequence of the atomic force microscopy (AFM) sensors. They were obtained using the virtual wafer fab (VWF) software, which is used in the Institute of Electron Technology (IET). The technology mentioned above is used for fabrication of the AFM cantilevers, which has been designed for measurement and characterization of the surface roughness, the texturing, the grain size and the hardness. The simulation are very useful in manufacturing other microcantilever sensors.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 35-39
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Fabrication and properties of the field emission array with self-alignment gate electrode
Autorzy:
Barth, W.
Dębski, T.
Rangelow, I.W.
Grabiec, P.
Studzińska, K.
Zaborowski, M.
Mitura, S.
Biehl, S.
Hudek, P.
Kostic, I.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308414.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
field-emission array
field emission display
diamond-like-carbon layers emission
silicon micromachining
self-alignment technology
Opis:
A new method for the fabrication of field emission arrays (FEA) based on bulk/surface silicon micromachining and diamond-like-carbon (DLC) coating was developed. A matrix of self-aligned electron field emitters is formed in silicon by mean anisotropic etching in alkali solution of the front silicon film through micro holes opened in silicon oxide layer. The field emission of the fabricated emitter tips is enhanced by a diamond-like-carbon film formed by chemical vapor deposition on the microtips. Back side contacts are formed by metal patterning. Detailed Raman, Auger and TEM investigations of the deposited DLC films (nanocrystalline diamond smaller than 10 nm) will be presented. In this paper we discuss the problems related to the development of field emission arrays technology. We also demonstrate examples of devices fabricated according to those technologies.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 49-52
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies