- Tytuł:
-
Wybrane własności wielowarstwowych układów wytworzonych metodą elektrochemiczną
Selected Properties of Multilayer Systems Produced by Electrochemical Method - Autorzy:
-
Pietrucha, Kinga
Gatner, Daria
Dziergas, Bartosz
Nowak, Anna
Kowalcze, Daria
Łoński, Wojciech
Spilka, Monika
Kciuk, Monika
Lipiński, Tomasz
Nowacki, Krzysztof - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/chapters/28328192.pdf
- Data publikacji:
- 2023-12-14
- Wydawca:
- Politechnika Częstochowska. Wydawnictwo Politechniki Częstochowskiej
- Tematy:
-
osadzanie elektrochemiczne
wielowarstwowe układy miedź/ kobalt
własności antykorozyjne
anticorrosion properties
copper/cobalt multilayer systems
electrochemical deposition - Opis:
-
W rozdziale przedstawiono wybrane własności wielowarstwowych układów miedź/kobalt o różnej liczbie i grubości warstw naniesionych metodą elektrochemiczną na podłoże ze stali niskowęglowej. Otrzymane układy poddano badaniom odporności na korozję za pomocą testów polaryzacyjnych w 3,5-proc. roztworze NaCl w temperaturze 25°C. Wyznaczono parametry elektrochemiczne metodą potencjodynamiczną oraz przeprowadzono ocenę powierzchni układów wielowarstwowych po próbach korozyjnych za pomocą skaningowej mikroskopii elektronowej (SEM) i spektroskopii z dyspersją energii (EDS). Badania elektrochemiczne próbek wykazały zróżnicowaną odporność korozyjną układów Cu/Co w zależności od liczby i grubości warstw.
The chapter presents selected properties of copper/cobalt multilayer systems with different number and thickness of layers deposited by electrochemical method on a low-carbon steel substrate. The obtained systems were subjected to corrosion resistance investigations using polarization tests in 3.5% NaCl solution at 25°C. Electrochemical parameters were determined using the potentiodynamic method. The assessment of the surface of multilayer systems after corrosion tests was carried out using scanning electron microscopy (SEM) and energy dispersive spectroscopy (EDS). Electrochemical tests of the samples showed different corrosion resistance of the Cu/Co systems depending on the number and thickness of the layers. - Źródło:
-
Potencjał innowacyjny w inżynierii materiałowej i zarządzaniu produkcją; 64-68
9788371939457 - Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł