Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Hejduk, J." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-6 z 6
    Tytuł:
    Porównanie składu pokarmowego uszatek asio otus zimujących w Starych Skoszewach (Park Krajobrazowy Wzniesień Łódzkich) w latach 2001-2002 i 2015
    Diet comparison of Long-eared Owl Asio otus wintering in Stare Skoszewy (Lodz Hills Landscape Park) in 2001-2002 and 2015
    Autorzy:
    Kaminski, M.
    Gach, K.
    Zieleniak, A.
    Hejduk, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/881935.pdf
    Data publikacji:
    2016
    Wydawca:
    Szkoła Główna Gospodarstwa Wiejskiego w Warszawie. Leśny Zakład Doświadczalny. Centrum Edukacji Przyrodniczo-Leśnej w Rogowie
    Tematy:
    ptaki
    sowy
    sowa uszata
    Asio otus
    wypluwki
    sklad pokarmu
    analiza porownawcza
    Park Krajobrazowy Wzniesien Lodzkich
    Źródło:
    Studia i Materiały Centrum Edukacji Przyrodniczo-Leśnej; 2016, 18, 4[49A]
    1509-1414
    Pojawia się w:
    Studia i Materiały Centrum Edukacji Przyrodniczo-Leśnej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Notatki przyrodnicze. Ssaki.
    Autorzy:
    Bargiel, R
    Radzicki, G.
    Hejduk, J.
    Kowalski, M.
    Gwardjan, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/33009.pdf
    Data publikacji:
    1999
    Wydawca:
    Mazowiecko-Świętokrzyskie Towarzystwo Ornitologiczne
    Tematy:
    zebielek karliczek
    Nizina Mazowiecka
    Crocidura suaveolens
    ssaki
    lodz
    nietoperze
    Nizina Podlaska
    mroczek posrebrzany
    Vespertilio murinus
    Źródło:
    Kulon; 1999, 04, 1-2; 85-87
    1427-3098
    Pojawia się w:
    Kulon
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Reżim opadów i przepływów w zlewni rzeki Zagożdżonki po profile Płachty Stare i Czarna
    Precipitation and discharge regime in Zagożdżonka catchment at Płachty Stare and Czarna Gauge stations
    Autorzy:
    Hejduk, A.
    Kaznowska, E.
    Hejduk, L.
    Gładecki, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/338996.pdf
    Data publikacji:
    2018
    Wydawca:
    Instytut Technologiczno-Przyrodniczy
    Tematy:
    niżówki
    opady
    przepływy
    rzeka Zagożdżonka
    wezbrania
    zlewnia nizinna
    discharge
    flood
    lowland catchment
    precipitations
    streamflow drought
    Zagożdżonka River
    Opis:
    Celem pracy jest ocena reżimu opadów i przepływów w okresie 2011–2015 na tle lat 1963–2015 (opady) i 1991–2015 (przepływy) w zlewni rzeki Zagożdżonki po profile Płachty Stare i Czarna. Okres badawczy obejmuje realizację w wyżej wymienionej zlewni dwóch projektów badawczych finansowanych przez Narodowe Centrum Nauki dotyczących wezbrań zimowych i niżówek. Charakterystyki opadów dokonano na podstawie analizy sum dobowych, miesięcznych, półrocznych i rocznych. Do oceny zmienności sum opadów miesięcznych i rocznych zastosowano kryterium KACZOROWSKIEJ [1962]. Wartości przepływów dobowych z wielolecia, odnotowanych w profilach pomiarowych Płachty Stare (1963–2015) i Czarna (1991–2015) stanowiły podstawę charakterystyki hydrologicznej. Stosując kryterium hydrologiczne zaproponowane przez OZGĘ-ZIELIŃSKĄ [1990], na hydrogramach przepływów wyodrębniono niżówki i wezbrania. Za dolną granicę wezbrania przyjęto przepływ NWQ (najniższy z maksymalnych przepływów rocznych), zaś za granicę niżówek przyjęto przepływ SNQ (średni z najniższych przepływów rocznych). Charakterystyki hydrologiczne lat 2011– 2015 odniesiono do wielolecia 1963–2015.
    The aim of the study was to evaluate precipitation and hydrological conditions in the period 2011–2015 against the background of long term data collected in the Zagożdżonka River catchment. Precipitation characteristics are based on the analysis of daily, monthly, semi-annual and annual totals. The criterion presented by KACZOROWSKA [1962] was used to evaluate the variability of monthly and yearly precipitation totals. Hydrological characteristic was based on daily flows data recorded in Płachty Stare (1963–2015) and Czarna (1992–2015) gauging station. Two extreme phenomena as flood and drought were identified using daily hydrograph. The threshold of SNQ (mean of the lowest annual flows) was used for flood identification, as well as the threshold of NWQ flow (the lowest of the highest annual flows) was used to identify droughts.
    Źródło:
    Woda-Środowisko-Obszary Wiejskie; 2018, 18, 1; 37-55
    1642-8145
    Pojawia się w:
    Woda-Środowisko-Obszary Wiejskie
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wieloletnia zmienność odpływu z małej zlewni rzecznej w regionie Puszczy Kozienickiej
    Long-term variability of runoff from a small catchment in the region of the Kozienice Forest
    Autorzy:
    Banasik, K.
    Hejduk, L.
    Hejduk, A.
    Kaznowska, E.
    Banasik, J.
    Byczkowski, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/994346.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Polskie Towarzystwo Leśne
    Tematy:
    lesnictwo
    Puszcza Kozienicka
    zlewnie rzek
    zlewnie male
    zlewnia Zagozdzonki
    opady atmosferyczne
    zmiennosc opadow
    odplyw wody
    zmiennosc odplywu
    forested watershed
    climate change
    runoff decrease
    trend analysis
    Opis:
    Kozienice Forest (central Poland) belongs to very valuable areas from touristic and ecological point of view. Water resources are important factor of further development of this region. Analysis of 49−year (1963−2011) annual and seasonal rainfall and runoff characteristics from a small (82 km²) catchment of Zagożdżonka River, with forestation ratio of 0.40, indicated a statistically significant decrease for six of the nine considered parameters. Mann−Kendall test was used for trend analysis. Decreased trend was indicated for annual runoff and annual runoff coefficient, median discharge, summer half−year runoff coefficient, median summer discharge and for low mean 30−day discharge. No trend was detected for annual precipitation and summer half year precipitation nor for summer half year runoff.
    Źródło:
    Sylwan; 2013, 157, 08; 578-586
    0039-7660
    Pojawia się w:
    Sylwan
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Obliczanie przepływów maksymalnych rocznych o określonym prawdopodobieństwie przewyższenia w małej zlewni z zastosowaniem metod statystycznych oraz metod pośrednich
    Estimation of probable flood flows in small catchments with the use of direct (statistical) and indirect methods
    Autorzy:
    Banasik, K.
    Byczkowski, A.
    Hejduk, L.
    Gładecki, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/339584.pdf
    Data publikacji:
    2012
    Wydawca:
    Instytut Technologiczno-Przyrodniczy
    Tematy:
    charakterystyki hydrologiczne
    małe zlewnie
    przepływy prawdopodobne
    hydrological characteristics
    small watershed
    T-year flood flows
    Opis:
    W pracy przedstawiono wyniki obliczeń przepływów maksymalnych rocznych prawdopodobnych (WQp), określonych metodami statystycznymi oraz metodami pośrednimi, w małej zlewni rzeki Zagożdżonka, położonej na Równinie Radomskiej, ok. 100 km na południe od Warszawy. Dane do obliczeń statystycznych pochodzą z własnych badań hydrologicznych, prowadzonych przez Katedrę Inżynierii Wodnej SGGW (d. Katedrę Budownictwa Wodnego) od 1962 r. Wyniki porównań wykazują znaczne różnice między wartościami WQp, określonymi różnymi metodami. Uzasadnia to potrzebę doskonalenia metod pośrednich wyznaczania przepływów maksymalnych prawdopodobnych w małych zlewniach rzecznych.
    Direct (statistical) and indirect methods have been applied for estimating T-year flood flows at the gauging station of a small lowland river Zagożdżonka located in Radom Plain ca. 100 km south of Warsaw. River flow data used for statistical analysis were collected by the Department of Water Engineering, Warsaw University of Life Sciences - SGGW since 1962. Comparison of the study results showed significant differences of T-year flood flows estimated with various methods. This confirms the need to continue the improvement of indirect methods for small catchments.
    Źródło:
    Woda-Środowisko-Obszary Wiejskie; 2012, 12, 3; 17-26
    1642-8145
    Pojawia się w:
    Woda-Środowisko-Obszary Wiejskie
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Azotek krzemu stosowany w technologii planarnych fotodiod wykonanych na bazie InP
    Silicon nitride for InP based planar photodiode applications
    Autorzy:
    Zynek, J.
    Hejduk, K.
    Klima, K.
    Możdżonek, M.
    Stonert, A.
    Turos, A.
    Rzodkiewicz, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192312.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    azotek krzemu
    PECVD
    fotodioda planarna
    InP
    silicon nitride
    planar photodiode
    Opis:
    Przeprowadzono badania warstw azotku krzemu osadzonych na płytkach z fosforku indu metodą PECVD (Plasma Enhanced Chemical Yapor Deposition) z wykorzystaniem do wytwarzania plazmy dwóch generatorów pracujących na różnych częstotliwościach. Celem badań było ustalenie warunków wytwarzania warstw azotku krzemu stosowanych w technologii planarnych fotodiod wykonanych na bazie InP, w których obszarem absorpcyjnym są studnie kwantowe z InxGa1-xAs. Warstwy azotku krzemu były osadzane w temperaturach pomiędzy 250°C i 300°C. Podstawą do oceny wytworzonych warstw były wyniki badań: ich składu chemicznego, struktury, współczynnika załamania, poziomu naprężeń, rezystywności, wytrzymałości dielektrycznej, stałej dielektrycznej i efektywnej gęstości powierzchniowej ładunków elektrycznych. Stwierdzono, że warstwy osadzane w temperaturze 250°C mają najlepszą strukturę, dobrze spełniają rolę maski w procesie selektywnej dyfuzji cynku, a właściwości elektryczne umożliwiają wykorzystanie ich do pasywacji powierzchni bocznych złącz p-n, pod warunkiem zastosowania odpowiedniego cyklu wygrzewań po procesie osadzania.
    Silicon nitride films, deposited on InP wafers by the PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method, have been investigated in terms of their applicability in the technology of InP based planar photodiodes with the InxGa1-xAs quantum well absorption region. In order to compensate the mechanical stress in the films, the plasma was excited by two radio-frequency sources operating at frequencies of 13,56 MHz and 100 kHz. The films were deposited at different temperatures in the range of 250 - 300°C. The chemical composition of all examined films, determined by the RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry) method, is very close to that of stoichiometric Si3N4. The films contain a large amount of hydrogen. The hydrogen content, evaluated by the NRA (Nuclear Reactions Analysis) technique, exceeds 30 %. The silicon nitride films deposited at 300°C have grown much faster on InP wafers than on Si wafers placed beside these and the structure of both films is different. As the films deposited on Si are amorphous with smooth surfaces, the films deposited on InP are heterogeneous with rough surfaces. These last ones exhibit lower Si-N bond concentration, lower refractive index, higher extinction coefficient, lower resistivity and lower dielectric breakdown strength than the films deposited on silicon. Deterioration of the film quality is caused probably by the reaction of phosphorus, released from the InP substrate at the beginning of the deposition process, with deposited SiNx:H. Such films should not be used in the fabrication of InP based planar photodiodes. When the deposition temperature decreases, the properties of silicon nitride films improve. Their structure becomes more homogeneous and the Si-N bond concentration increases. The silicon nitride films deposited on InP at 250°C have the same amorphous structure and the same Si-N bond concentration, determined from FTIR (Fourier Transform Infrared Spectroscopy) absorption characteristics, as the films deposited on silicon. They exhibit the highest refractive index, the lowest extinction coefficient, the highest resistivity and the highest dielectric breakdown strength. These films are continuous, they do not crack during thermal processes and they can be applied as masking layers for the selective Zn diffusion used to form the p-n junctions. Unfortunately the films deposited at 250°C have the highest hydrogen content and the highest effective charge density. These films cannot be applied directly to passivate the p-n junction side surfaces. Measurements of hydrogen depth profiles and of FTIR absorption characteristics have revealed that the amount of hydrogen and of Si-N, Si-H and N-H bonds changed during annealing. An analysis of C-V characteristics of Al/Si3N4:H/InP MIS capacitors containing these films has shown, that annealing of the Si3N4:H films reduced the electronic defect state density at the Si3N4:H/InP interface. It is possible to take advantage of the thermal instability of silicon nitrides deposited by the PECVD method and to reduce the trap state density and the effective charge density by proper annealing processes. These investigations have enabled us to achieve reverse current values as low as 4 - 15 pA at the voltage of - 5 V and 200 - 500 pA at the voltage of -50 V for planar InP diodes with the 320 um diameter p-n junction. A high yield of 90 % is obtained. These results make a good base for development of planar photodiodes with InxGa1-xAs quantum wells inserted into the depletion region of the InP p-n junction.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 4, 4; 95-113
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-6 z 6

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies