Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Mania, R." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-7 z 7
    Tytuł:
    Computer Controlled System for the Magnetron Sputtering Deposition of the Metallic Multilayers
    Autorzy:
    Marszałek, K.
    Stępień, J.
    Mania, R.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/226224.pdf
    Data publikacji:
    2014
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    process control system
    Al-Ni
    magnetron sputtering
    Opis:
    Deposition of the metallic multilayers is a part of the scientific program on the chemical reaction leading to intermetallic compound formation. This reaction is known as self propagation high temperature synthesis (SHS). The key problem in this investigation is to produce the metallic multilayer system with good repeatability of thin films thicknesses. Thin should be thin, parallel and with low volume of intermixing region between components. Computer control system for the pulsed (mid frequency MF) magnetron sputtering equipment dedicated for metallic multilayers deposition is presented in this paper. The rotation velocity of the sample holder and the gas inlet through membrane valves are the main parameters controlled by the system. Parameters of the magnetron gun power supply, sample temperature and technological gas pressure are registered. The process cards which define all process parameters are collected for each dedicated process type. All cards are collected in a process cards library which permits for full automatization of all operations. Software was written in a graphical LabVIEW environment.
    Źródło:
    International Journal of Electronics and Telecommunications; 2014, 60, 4; 291-298
    2300-1933
    Pojawia się w:
    International Journal of Electronics and Telecommunications
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Local nonsymmetrical postbuckling equilibrium path of the thin FGM plate
    Niesymetryczna lokalna ścieżka równowagi pokrytycznej cienkiej płyty z materiału funkcjonalnie gradientowego
    Autorzy:
    Kolakowski, Z.
    Mania, R. J.
    Grudziecki, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/301161.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Polskie Naukowo-Techniczne Towarzystwo Eksploatacyjne PAN
    Tematy:
    FGM
    FEM
    Koiter’s theory
    semi-analytical method
    post-buckling path
    materiały funkcjonalnie gradientowe
    MES
    teoria Koitera
    metoda pól-analityczna
    ścieżka pokrytyczna
    Opis:
    The influence of the imperfection sign (sense) on local postbuckling equilibrium path of plates made of functionally graded materials (FGMs) has been analyzed. Koiter’s theory has been used to explain this phenomenon. In the case of local buckling, a nonsymmetrical stable equilibrium path has been obtained. The investigations focus on a comparison of the semi-analytical method (SAM) and the finite element method (FEM) applied to the postbuckling nonlinear analysis of thin-walled complex FG plated structures.
    W pracy przedstawiono analizę wpływu znaku imperfekcji wstępnej na charakterystykę lokalnej pokrytycznej ścieżki równowagi płyty wykonanej z materiału gradientowego. Do wyjaśnienia tego efektu zastosowano teorię Koitera. W przypadku lokalnej utraty stateczności uzyskano niesymetryczne stateczne ścieżki równowagi. Prezentowane badania były skoncentrowane na porównaniu wyników uzyskanych na podstawie własnej metody pół-analitycznej z wynikami uzyskanymi przy zastosowaniu metody elementów skończonych w nieliniowej analizie cienkościennych konstrukcji płytowych wykonanych z materiałów gradientowych.
    Źródło:
    Eksploatacja i Niezawodność; 2015, 17, 1; 135-142
    1507-2711
    Pojawia się w:
    Eksploatacja i Niezawodność
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Stability and load carrying capacity of multi-cell thin-walled columns of rectangular cross-sections
    Stateczność i nośność wielokomorowych cienkościennych słupów o prostokątnych przekrojach poprzecznych
    Autorzy:
    Królak, M.
    Kowal-Michalska, K.
    Mania, R. J.
    Świniarski, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/281743.pdf
    Data publikacji:
    2009
    Wydawca:
    Polskie Towarzystwo Mechaniki Teoretycznej i Stosowanej
    Tematy:
    stability
    ultimate load
    thin-walled
    multi-cell column
    Opis:
    The paper concerns theoretical, numerical and experimental analysis of the stability and ultimate load of multi-cell thin-walled columns of rectangular and square cross-sections subjected to axial compression (uniform shortening of the column). The theoretical analysis deals with the local and global stability of multi-cell orthotropic columns of a rectangular profile with rectangular cells. It has been shown that for a multi-cell column made of the same material and having the same cross-section area, the value of local buckling stress of the column walls grows rapidly with an increase of the cell number. The experiment conducted for isotropic columns has also proved a significant growth of the ultimate load with the increase of the cell number. The paper gives some conclusions which can be useful in design of thin-walled box columns.
    Praca poświęcona jest teoretycznej, numerycznej i doświadczalnej analizie stateczności i nośności granicznej wielokomorowych cienkościennych słupów o prostokątnych i kwadratowych przekrojach poprzecznych poddanych osiowemu ściskaniu (odpowia- dającemu równomiernemu skróceniu słupa). Rozważania teoretyczne dotyczą lokalnej i globalnej utraty stateczności wielokomorowych ortotropowych słupów o obrysie prostokątnym, z prostokątnymi komorami. Wykazano, że dla wielokomorowego słupa wykonanego z tego samego materiału i o takim samym polu przekroju poprzecznego wartości lokalnego naprężenia krytycznego ścian słupa wzrastają gwałtownie wraz ze wzrostem liczby komór. Doświadczenia przeprowadzone dla izotropowych słupów potwierdziły wzrost zarówno naprężeń krytycznych, jak i nośności badanych modeli wraz ze wzrostem komór. W pracy podano pewne wnioski, które mogą być przydatne przy projektowaniu cienkościennych słupów o przekrojach skrzynkowych.
    Źródło:
    Journal of Theoretical and Applied Mechanics; 2009, 47, 2; 435-456
    1429-2955
    Pojawia się w:
    Journal of Theoretical and Applied Mechanics
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Elaboration of magnetron deposition conditions of TiN/Si3N4 nanocomposite coatings
    Opracowanie warunków otrzymywania warstw nano-kompozytowych z wykorzystaniem techniki magnetronowej
    Autorzy:
    Morgiel, J.
    Major, Ł.
    Grzonka, J.
    Mania, R.
    Rakowski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/258107.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    nanokrystality
    nanokompozyty
    TiN/Si3N4
    rozpylanie magnetronowe
    nanocrystallites
    nanocomposites
    magnetron sputtering
    Opis:
    The TiN/Si3N4 coatings were deposited by reactive single target magnetron sputtering. The TiSi10 and TiSi6 targets were prepared from titanium and silicon elemental powders. The transmission electron microscopy helped to confirm the nanocomposite nanocrystalline TIN/ amorphous Si3N4 microstructure of coatings. The experiments helped to determine the critical coatings thickness at close to 1 žm. The micro-hardness of such coatings deposited on high speed steel was estimated at 11.9 - 13 GPa and characterized by critical loading in the range of 13 - 14 N. The measurements of chemical compositions of coatings showed that the ratio of silicon to titanium was at least twice as high as those in the targets, what might have lowered the coatings mechanical properties.
    Powłoki TiN/Si3N4 naniesiono techniką rozpylania magnetronowego przy użyciu targetu o składzie TiSi10 lub TiSi6 (% at.). Targety te zostały przygotowane na drodze spiekania na gorąco proszków krzemu i tytanu. Analizę mikrostruktury nanokompozytowych nanokrystalicznych powłok TiN/Si3N4 o krytycznej grubości delaminacji zbliżonej do l žm, przeprowadzono przy użyciu mikroskopu transmisyjnego. Mikrotwardość powłok na podłożu ze stali szybkotnącej określono na poziomie 11.9 - 13 GPa. Analiza składu chemicznego powłok wykonana techniką EDS wykazała, że stosunek zawartości krzemu do tytanu jest dwa razy większy niż w targetach, co może stanowić przyczynę ich niższej od oczekiwań twardości.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 2; 33-42
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Duplex type coatings from Ti-Si-N system applied on WC cutting plates
    Powłoki typu "duplex" z układu Ti-Si-N zastosowane na płytkach frezarskich z WC
    Autorzy:
    Mania, R.
    Morgiel, J.
    Grzonka, J.
    Zimowski, S.
    Dąbrowski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/256735.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    powłoka duplex
    warstwa TiN/Si3N4
    płytka skrawająca WC
    duplex coating
    TiN/Si3N4 layer
    WC cutting plate
    Opis:
    The observations of microstructure as well as the results of work test of duplex type coated WC cutting plates are presented. The buffer hard TiN layer was deposited using PUSK-83 Arc system, while the ultra-hard composite TiN/Si3N4 layer was deposited using WM-50 planar magnetron system equipped with the TiSi4% at. target. The transmission electron microscopy observations indicated that the buffer layer is a columnar, relatively coarse crystalline, while the top layer is characterised also by columnar microstructure but of much finer crystallites. It was confirmed that buffer layer is filling up WC cracks and other surface roughness presenting much better deposition condition for the ultra-hard top layer. The work test showed that duplex coating extends the plates life by 60%. Additionally, the cutting plates' lifetime was correlated with their hardness.
    W pracy przedstawiono wyniki badań eksploatacyjnych płytek frezarskich TPKN 1603PPR SM 25T/P25 wykonanych z węglików spiekanych pokrytych powłoką typu "duplex" złożoną z twardej warstwy buforowej TiN oraz ultratwardej krystaliczno-amorficznej TiN/Si3N4. Warstwa buforowa TiN nanoszona była metodą łukową na stanowisku PUSK-83, a warstwę wierzchnią TiN/Si3N4 naniesiono z użyciem magnetronu planarnego WM-50 ze specjalnym targetem wykonanym ze spieku TiSi4% at. Badania mikrostruktury powłok z użyciem mikroskopu transmisyjnego wykazały, że warstwa buforowa ma znacznie bardziej grubokrystaliczną budowę w stosunku do kompozytowej warstwy wierzchniej. Równocześnie zastosowanie warstwy buforowej TiN prowadzi do wypełnienia pęknięć i zagłębień na powierzchni płytek oraz wygładzenia powierzchni pod warstwę TiN/Si3N4. Płytki z powłoką "duplex" porównywano z takimi samymi pokrytymi jedynie tzw. warstwą buforową TiN, jak też z płytkami bez pokrycia. Potwierdzono istnienie korelacji pomiędzy trwałością ostrzy badanych płytek a twardością naniesionej warstwy oraz możliwość wydłużenia czasu pracy płytek z powłokami typu "duplex" o 60%.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 81-90
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    XRD and TEM heating of large period Ni/Al multilayer coatings
    Autorzy:
    Świątek, Z.
    Gradys, A.
    Maj, Ł.
    Morgiel, J.
    Marszałek, K.
    Mania, R.
    Szlezynger, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1113635.pdf
    Data publikacji:
    2016-10
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    68.65.Ac
    68.37.Lp
    Opis:
    The Ni/Al multilayer coating of λ ≈100 nm was deposited onto (001)-oriented monocrystalline silicon substrate using double target magnetron sputtering system equipped with rotating sample holder. The thicknesses of alternating layers were adjusted in the way to preserve the chemical composition ratio close to 50%Al:50%Ni (at.%). The in situ X-ray diffraction and in situ transmission electron microscopy heating experiments were carried out at relatively low heating rates (20°C/min) in order to study the phase transformation sequence. The investigations revealed that the reaction between Ni and Al multilayers starts at ≈200°C with precipitation of Al₃Ni phase, while above 300°C dominates precipitation of Ni₃Al and NiAl intermetallic phases. Both the X-ray and electron diffractions acquired at 450°C confirmed presence of the Ni₃Al and NiAl intermetallics, but the former pointed at still lasting traces of Ni(Al) solid solution.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2016, 130, 4; 880-883
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Cartographic and remote-sensing data as a source of landscape ecological information on the Poznan metropolitan area
    Autorzy:
    KIjowski, A.
    Kubiak, J.
    Lawniczak, R.
    Mania, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/85928.pdf
    Data publikacji:
    2010
    Wydawca:
    Polska Asocjacja Ekologii Krajobrazu
    Źródło:
    Problemy Ekologii Krajobrazu; 2010, 28
    1899-3850
    Pojawia się w:
    Problemy Ekologii Krajobrazu
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-7 z 7

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies