Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Dłużewska, K." wg kryterium: Wszystkie pola


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Lattice Deformation Studies in Silicon Implanted with High-Energy Protons
Autorzy:
Wieteska, K.
Dłużewska, K.
Wierzchowski, W.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1945258.pdf
Data publikacji:
1996-03
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.10.-i
61.80.-x
Opis:
The deformation of crystal lattice in silicon implanted with protons of energy 1.6-9 MeV was studied by means of X-ray topography and double-crystal rocking curve measurements. The samples were investigated as-implanted and after thermal and electron annealing. The surface relief of the implanted part of the crystal was also revealed with optical methods. As-implanted wafers exhibited spherical bending being convex at the implanted side. Thermal and electron annealing caused a dramatic increase in bending of the implanted part while the bending of the remaining part of the sample was reduced. A characteristic behaviour of a double-crystal topographic contrast in the annealed crystals was explained due to bending of the shot-through layer along the Gaussian profile.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1996, 89, 3; 395-400
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Interference Fringes in Synchrotron Section Topography of Implanted Silicon with a Very Large Ion Range
Autorzy:
Wieteska, K.
Wierzchowski, W.
Graeff, W.
Dłużewska, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1964180.pdf
Data publikacji:
1997-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.10.-i
61.80.-x
Opis:
Silicon crystals implanted with 9 MeV protons to the dose of 5×10$\text{}^{17}$ cm$\text{}^{-2}$ were studied with X-ray topographic methods using both conventional and synchrotron radiation sources. After the implantation the crystals were thermally and electron annealed. The implantation produced large 600 μm thick shot-through layer while the total thickness of the samples was 1.6 mm. It was confirmed by means of double crystal topography that the whole crystal was elastically bent. The transmission section patterns revealed both parts of the implanted crystal separated by strong contrasts coming from the most damaged layer and distinct interference fringes which appeared on one side of the topograph only. The location of the fringes changed when the beam entered the other side of the sample. The mechanism of fringe formation was studied with numerical integration of the Takagi-Taupin equations, especially studying the intensity distribution in the diffraction plane. The simulations reproduced the location of the fringes in different geometries and indicate that they can be caused both by variable crystal curvature and variable ion dose.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1997, 91, 5; 1021-1024
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies