Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Shrivastava, N." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
The shRNA-mediated silencing of VEGF-C illustrates its role in proliferation, chemosensitization, tumour colonization, and anchorage independence
Autorzy:
Tambe, P.
Purohit, I.
Suneja, D.
More, S.
Desai, P.
Shrivastava, N.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/80325.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
vascular endothelial growth factor
gene expression
endothelial cell
breast cancer
lymphangiogenesis
metastasis
proliferation
chemosensitivity
tumour cell
RNAi
Źródło:
BioTechnologia. Journal of Biotechnology Computational Biology and Bionanotechnology; 2015, 96, 3
0860-7796
Pojawia się w:
BioTechnologia. Journal of Biotechnology Computational Biology and Bionanotechnology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Effect of the Plasma Deposition Parameters on the Properties of Ti/TiC Multilayers for Hard Coatings Applications
Autorzy:
Saoula, N.
Henda, K.
Kesri, R.
Shrivastava, S.
Erasmus, R.
Comins, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1490973.pdf
Data publikacji:
2012-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.15.Cd
68.35.Ct
68.55.-a
68.37.Ps
Opis:
Titanium carbide (TiC) hard coatings have been obtained on steel and silicon substrates by rf magnetron sputtering process. Two layer coatings have been deposited in order to improve adhesion on steel. The lower layer was titanium metal and the upper TiC layer was obtained by reactive sputtering of the titanium target in Ar and methane gas mixture. The study confirmed that the TiC layer composition depends on the reactive sputtering gas composition and substrate bias voltage. Film microhardness was measured by microindentation. Measurement results showed that the hardness coating depends on the microstructure of our coatings and the polarization of bias substrate is an important parameter to control the microstructure.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2012, 121, 1; 172-174
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies