Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Temperature distribution" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Temperature distribution changes analysis based on Gr¨unwald-Letnikov space derivative
Analiza zmian rozkładu temperatur w oparciu o definicje¸ pochodnej Grünvalda-Letnikova w przestrzeni
Autorzy:
Raszkowski, Tomasz
Samson, Agnieszka
Zubert, Mariusz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/699888.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Łódzkie Towarzystwo Naukowe
Tematy:
Dual-Phase-Lag model, approximation, Grünwald-Letnikov, fractional derivatives, temperature distribution, numerical computation
Opis:
https://doi.org/10.26485/0459-6854/2018/68.3/10 W pracy zaprezentowano numeryczne przybliżenie modelu Dual-Phase-Lag. Schemat aproksymacyjny bazuje na wykorzystaniu definicji pochodnej temperatury niecałkowitego rzędu Grünvalda-Letnikova. Definicja ta została zastosowana do pochodnej przestrzennej temperatury w klasycznym modelu Fouriera-Kirchhoffa w celu wyznaczenia aproksymacji modelu Dual-Phase-Lag. W celu uzyskania numerycznej postaci rozwiązania, wykorzystano metodę różnic skończonych. Wszystkie otrzymane wzory aproksymacyjne zostały zaprezentowane i dokładnie opisane w niniejszym artykule. Dodatkowo zamieszczono przykłady rozkładu temperatury otrzymane za pomocą nowoskonstruowanego modelu. Wyznaczono ponadto wzór aproksymujący model Dual-Phase-Lag za pomocą zmodyfikowanego modelu Fouriera-Kirchhoffa uwzględniającego zamianę klasycznej pochodnej przestrzennej definicję pochodnej Grünvalda-Letnikova.
https://doi.org/10.26485/0459-6854/2018/68.3/10 In this paper, the numerical approximation of the Dual-Phase-Lag (DPL) model has been presented. The approximation scheme is based on the Gr¨unwald-Letnikov (GL) definition of fractional derivatives. Moreover, that definition has been applied to the space derivative of the temperature in Fourier-Kirchhoff (FK) model. Then, the Dual-Phase-Lag model has been approximated based on the prepared modification of FK model, which has been called the space GL FK model. Furthermore, the finite difference method methodology for the approximation of the considered thermal model has also been employed. All mathematical formulas obtained during the determination of the approximation scheme are presented in the paper. Numerical examples of temperature distributions obtained in the case of new space GL FK model are also included in the paper. Moreover, the behavior of the model based on order parameter values has also been investigated.
Źródło:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations; 2018, 68, 3
1895-7838
2450-9329
Pojawia się w:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Comparison of temperature distribution in nanosized transistors using modern heat transfer thermal model
Porównanie rozkładów temperatury w nanotranzystorach przy użyciu nowoczesnego modelu termicznego
Autorzy:
Raszkowski, Tomasz
Raszkowska, Agnieszka
Zubert, Mariusz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1837636.pdf
Data publikacji:
2021-08-12
Wydawca:
Łódzkie Towarzystwo Naukowe
Tematy:
Dual-Phase-Lag model
nanosized structures
FinFETs
temperaturę distribution
Fourier-Kirchhoff model
model Dual-Phase-Lag
struktury nanometryczne
tranzystor FinFET
rozkład temperatury
model Fouriera-Kirchhoffa
Opis:
In this paper two modern electronic structures have been presented. The structures are prototypical Fin Field Effect Transistors. One of them is design in 5 nm technology node while the second one is manufactured by the 12 nm technology node. The temperaturę distribution in these nanosized structures has been determined and compared between each other. Furthermore, to obtain the temperature distribution in considered electronic structures, the Dual-Phase-Lag model has been applied. This methodology is appropriate for electronic structures produced in nanometric. Apart from that, the comparison to the Fourier-Kirchhoff model has also been prepared. All results have been described and final conclusions have also been presented
W pracy przedstawiono porównanie rozkładów temperatur w dwóch nanometrycznych strukturach elektronicznych. Pierwszą z nich jest prototypowy tranzystor FinFET zaprojektowany w procesie technologicznym 5nm. Drugą rozważaną strukturą jest tranzystor FinFET wykonany w procesie technologicznym 12 nm. W celu wyznaczenia rozkładu temperatury w analizowanych strukturach wykorzystano nowoczesny model termiczny Dual-Phase-Lag. Dodatkowo, wszystkie otrzymane wyniki porównane zostały z temperaturami uzyskanymi przy użyciu klasycznego modelu Fouriera-Kirchhoffa. Zaprezentowane wyniki zostały szczegółowo opisane w artykule. Przedstawiono ponadto najważniejsze wnioski w formie krótkiego podsumowania
Źródło:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations; 2020, 70, 1; 115-127
1895-7838
2450-9329
Pojawia się w:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Dual-Phase-Lag Model order reduction using Krylov subspace method for 2-dimensional structures
Redukcja rzędu modelu dual-phase-lag przy uzżyciu metody podprzestrzeni Krylova dla struktur dwuwymiarowych
Autorzy:
Raszkowski, Tomasz
Samson, Agnieszka
Zubert, Mariusz
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/699780.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Łódzkie Towarzystwo Naukowe
Tematy:
Dual-Phase-Lag model, Fourier-Kirchhoff model, heat transfer, Krylov subspace, order reduction, electronic structures, nanotechnology, temperaturę distribution
równanie Dual-Phase-Lag, model Fouriera-Kirchhoff, przepływ ciepła, podprzestrzenie Krylova, redukcja rzędu modelu, struktury elektroniczne, nanotechnologia, rozkład temperatury
Opis:
https://doi.org/10.26485/0459-6854/2018/68.1/4 W pracy rozważono rozkład temperatury w strukturach nanometrycznych. Zaprezentowane analizy dotyczą struktury dwuwymiarowej o prostokątnym kształcie. Rezultaty otrzymane zostały przy użyciu modelu termicznego Dual-Phase-Lag. W celu zmniejszenia złożoności problemu, dokonano redukcji rzędu modelu opartą na metodzie podprzestrzeni Krylova. Generacja macierzy redukcyjnych bazuje na wykorzystaniu algorytmu Arnoldiego. Ponadto, porównano także rezultaty otrzymane za pomocą zredukowanego oraz pełnego modelu termicznego dla różnej liczby punktów dyskretyzacyjnych oraz różnych punktów w czasie. Dodatkowo, przedstawiono również analizę błędu względnego wyznaczenia modelu zredukowanego. Finalnie, obszernie opisano najważniejsze wnioski z przedstawionych analiz.
https://doi.org/10.26485/0459-6854/2018/68.1/4 In this paper the temperature distribution of nanoscale structure is investigated. Presented analyses focus on two-dimensional rectangular structure. The problem has been solved using the Dual-phase-Lag heat transfer model. In order to reduce the complexity of the problem, the reduction methodology based on Krylov subspace has been used. The reduced-order model matrices generation has been based on the one-sided Arnoldi algorithm. Moreover, comparison of results received using both reduced and full thermal models for different number of discretization mesh nodes and different time instants have been demonstrated. Furthermore, the relative error of generation of reduced thermal model from full model has been considered. Finally, the most important conclusions from the presented research have been also included.
Źródło:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations; 2018, 68, 1
1895-7838
2450-9329
Pojawia się w:
Bulletin de la Société des Sciences et des Lettres de Łódź, Série: Recherches sur les déformations
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies