Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Wilczyński, M." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-5 z 5
    Tytuł:
    Zastosowanie cienkich warstw Ni-Fe w ekranowaniu pól elektromagnetycznych
    Application of Ni-Fe thin films for shieldings of electromagnetic fields
    Autorzy:
    Ozimek, M.
    Wilczyński, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159044.pdf
    Data publikacji:
    2009
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    rozpylanie magnetronowe
    skuteczność ekranowania
    cienkie warstwy Ni-Fe
    pole elektromagnetyczne
    Opis:
    W pracy przedstawiono wyniki badań tłumienia promieniowania elektromagnetycznego przez cienkie warstwy Ni-Fe naniesione na włókninę polipropylenową 160 (gramatura 160 gm^-2). Magnetyczny target zamocowany na wyrzutni magnetronowej WMK-100 został rozpylony w atmosferze czystego argonu. Zbadano szybkość osadzania warstw w zależności od wybranych parametrów procesu rozpylania magnetronowego (moc wydzielona na targecie oraz ciśnienie gazu roboczego). Wykonano badania morfologii powierzchni i strukturalne za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) oraz dyfrakcji rentgenowskiej X-ray. Tłumienie promieniowania elektromagnetycznego wyznaczono w oparciu o amerykańską normę MIL-STD 285. Zakres częstotliwości roboczej zawierał się w przedziale od 300 do 1000 MHz. Stwierdzono wpływ parametrów rozpylania na skuteczność ekranowania.
    In this study the results of measurement of electromagnetic wave attenuation by Ni-Fe thin films deposited on polypropylene nonwoves 160 (basis weight 160 gźm^-2) were presented. Magnetic target fitted on magnetron gun of the WMK-100 type was sputtered in pure argon atmosphere. The rates of the materials depositions were presented in regards to most important physical quantities relevant to pulse magnetron processing (power dissipated into target, flow rates of gas background). The surface morphology and microstructure were analyzed using scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction. Measurements of screening attenuation were made according to the MIL-STD 285 American standard. The measurements were carried out in frequency band of 300 MHz - 1000 MHz. The influence of chosen parameters on shielding effectiveness was noticeable.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2009, 241; 39-50
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Nanoscopic Investigation of Magnetic Thin Films by Means of Magnetic Force Microscopy Technique
    Autorzy:
    Sikora, A.
    Ozimek, M.
    Wilczyński, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1398987.pdf
    Data publikacji:
    2016-06
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.15.Cd
    68.37.Rt
    75.70.Kw
    Opis:
    In the article the results of the research aimed at the recognition of the correlation between the Ni-Fe film thickness and its magnetic domain structures are described. Magnetic thin films were prepared by pulse magnetron sputtering. Obtained thin film thicknesses were in the range of 47.6-326.0 nm. Magnetic domain structures were imaged using magnetic force microscopy. In order to obtain quantitative description of magnetic domains images, the algorithms designed for topography parameters determination were applied, enabling the comparison of specific factors related to the magnetic properties of the samples. Utilized approach provided the analysis of the impact of sputtering parameters on the morphological and magnetic properties of obtained films.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2016, 129, 6; 1226-1229
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Ocena korelacji pomiędzy grubością a magnetyczną strukturą domenową cienkich warstw NIFe
    Estimation of correlation of film thickness and magnetic domain structures of NIFe thin films
    Autorzy:
    Ozimek, M.
    Sikora, A.
    Wilczyński, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/158627.pdf
    Data publikacji:
    2012
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    rozpylanie magnetronowe
    domeny magnetyczne
    mikroskop sił magnetycznych
    magnetron sputtering
    magnetic domain
    magnetic force microscopy
    Opis:
    Cienkie warstwy NiFe są powszechnie wykorzystywane jako magnetyczne nośniki danych oraz czujniki. Szczególnie znany jest stop Ni83Fe17. Jedną z najpowszechniej wykorzystywanych metod otrzymywania cienkich warstw magnetycznych jest rozpylanie magnetronowe. Fizyczne i elektryczne właściwości cienkich warstw silnie zależą od wielu czynników, takich jak struktura krystalograficzna, orientacja, skład oraz rodzaj podłoża na którym warstwa została osadzona. Ponadto, w przypadku warstw magnetycznych, ich właściwości magnetyczne są określane poprzez magnetyczną strukturę domenową. W artykule przedstawiono wyniki badań mających na celu poznanie korelacji pomiędzy grubością, a magnetyczną strukturą domenową cienkich warstw NiFe. W celu uzyskania ilościowego opisu uzyskanych wyników, z powodzeniem zastosowano algorytmy przeznaczone do analizy parametrów topografii.
    NiFe alloy thin films are commonly used in the area of memory devices for computers, magnetic recording media, sensor industry and microelectromechanical systems. In particular, Permalloy (Ni83Fe17) is well known group of thin films, because of its high magnetic saturation, low coercivity and low magnetization. One of the methods of providing high quality soft magnetic thin films is magnetron sputtering. Physical and electrical properties of thin films strongly depend on many parameters such as crystallographic structure, orientation, composition or the type of substrate. In addition, in the case of magnetic layers, their magnetic properties are determined by obtaining domain structure. In the article we’ve described results of the research aimed on recognition of correlation of film thickness and magnetic domain structures. In order to obtain quantitative description of obtained results, we’ve successfully applied algorithms designed for topography parameters determination.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2012, 259; 83-84
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Nanokrystaliczne, dwufazowe magnesy izotropowe otrzymywane metodą wysokoenergetycznego rozdrabniania - etap I
    Nanocrystalline two phase isotropic magnets produced by HEBM method - stage I
    Autorzy:
    Lipiec, W.
    Gaworska-Koniarek, D.
    Ozimek, M.
    Wilczyński, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/160264.pdf
    Data publikacji:
    2010
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    magnes nanokrystaliczny
    Nd-Fe-B
    rozdrabnianie wysokoenergetyczne
    odkształcanie na gorąco
    Opis:
    W artykule przedstawiono wyniki wstępnych prac wytwarzania nanokrystalicznych proszków metodą wysokoenergetycznego rozdrabniania. Wykorzystano je następnie jako surowiec do wytwarzania nanokrystalicznych magnesów neodymowych jednofazowych. Określono wpływ parametrów procesu mielenia, w dostępnym młynku kulowo-planetarnym, na morfologię i właściwości magnetyczne wytworzonych próbek magnesów. Wyniki prac pokazały, że stosując długotrwałe mielenie stopu Nd-Fe-B w młynku planetarno-kulowym możliwe jest wytworzenie proszków nanokrystalicznych, a nawet o amorficznej budowie cząstek. Nadmierne rozdrobnienie cząstek proszku i jego amorfizacja wpływa niekorzystnie na gęstość i właściwości magnetyczne magnesów otrzymywanych metodą zagęszczania na gorąco.
    The paper presents the results of preliminary work of production process of nanocrystalline powders by high-energy ball milling. These powders then were used as raw materials for the manufacturing of single-phase nanocrystalline Nd-Fe-B magnets. The influence of the milling process parameters on the morphology and magnetic properties of produced magnets were examined. The results of the work have shown that applying long-term milling of Nd-Fe-B alloy allows to obtain nanocrystalline powders or even powders with amorphous structure of particles. However, overmilling of powder, which result is its amorphousation, adversely affects the density and magnetic properties of magnets produced with the use of hot densification method.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2010, 248; 97-114
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    The accuracy of loss prediction in magnetic materials
    Autorzy:
    Szczygłowski, J.
    Kopciuszewski, P.
    Chwastek, K.
    Najgebauer, M.
    Wilczyński, W.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/141336.pdf
    Data publikacji:
    2011
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    materiały magnetycznie miękkie
    predykcja strat
    technika bootstrapowa
    metoda bootstrapowa
    soft magnetic materials
    loss prediction
    bootstrap technique
    Opis:
    The paper presents a formula useful for prediction of loss density in soft magnetic materials, which takes into account multi-scale energy dissipation. A universal phenomenological P(Bm, f) relationship is used for loss prediction in chosen soft magnetic materials. A bootstrap method is used to generate additional data points, what makes it possible to increase the prediction accuracy. A substantial accuracy improvement for estimated model parameters is obtained in the case, when additional data points are taken into account. The proposed description could be useful both for device designers and researchers involved in computational electromagnetism.
    Źródło:
    Archives of Electrical Engineering; 2011, 60, 1; 59-66
    1427-4221
    2300-2506
    Pojawia się w:
    Archives of Electrical Engineering
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-5 z 5

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies