Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "soft X-ray" wg kryterium: Wszystkie pola

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Wideband spectral emission measurements from laser-produced plasma EUV/SXR source based on a double gas puff target
    Autorzy:
    Arikkatt, Antony Jose
    Wachulak, Przemysław
    Fiedorowicz, Henryk
    Bartnik, Andrzej
    Czwartos, Joanna
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1849155.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    Plasma Spectroscopy
    X-ray coherence tomography
    soft X-ray
    Opis:
    We present spectral emission characteristics from laser-plasma EUV/SXR sources produced by irradiation of < 1 J energy laser pulse on eleven different double stream gas puff targets, with most intense electronic transitions identified in the spectral range from 1 nm to 70 nm wavelength which corresponds to photon energy from 18 eV to 1240 eV. The spectra were obtained using grazing incidence and transmission spectrographs from laser-produced plasma emission, formed by the interaction of a laser beam with a double stream gas puff target. Laser pulses with a duration of 4 ns and energy of 650 mJ were used for the experiment. We present the results obtained from three different spectrometers in the wavelength ranges of SXR (1-5.5 nm), SXR/EUV (4-15.5 nm), and EUV (10-70 nm). In this paper, detailed information about the source, gas targets under investigation, the experimental setup, spectral measurements and the results are presented and discussed. Such data may be useful for the identification of adequate spectral emissions from gasses in the EUV and SXR wavelength ranges dedicated to various experiments (i.e. broadband emission for the X-ray coherence tomography XCT) or may be used for verification of magnetohydrodynamic plasma codes.
    Źródło:
    Metrology and Measurement Systems; 2020, 27, 4; 701-719
    0860-8229
    Pojawia się w:
    Metrology and Measurement Systems
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Elementy optyczne pracujące w widmowym zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy i miękkie promieniowanie rentgenowskie
    Optical elements for the extreme ultraviolet and soft X-ray range
    Autorzy:
    Wardzińska, Martyna
    Wachulak, Przemysław
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2203159.pdf
    Data publikacji:
    2022
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    automatyka
    elektronika i elektrotechnika
    optyka rentgenowska
    filtry optyczne
    zwierciadła wielowarstwowe
    siatki dyfrakcyjne
    płytki strefowe Fresnela
    ultrafiolet próżniowy
    miękkie promieniowanie rentgenowskie
    automation
    electronic and electrical engineering
    soft X-ray
    extreme ultraviolet
    optical elements
    optical filters
    multilayer mirrors
    diffraction gratings
    Fresnel zone plates
    Opis:
    W artykule zawarto podstawy fizyczne i przegląd elementów optycznych do pracy w zakresie obejmującym ultrafiolet próżniowy (eUV) oraz miękkie promieniowanie rentgenowskie (SXr). Pierwszy rozdział obejmuje wprowadzenie do analizowanej tematyki i podstawy fizyczne. W drugim rozdziale przedstawione zostały podstawy działania optyki związanej z zakresem eUV/SXr wraz z wyróżnieniem jej wad oraz zalet. W trzecim rozdziale szczegółowo omówiono elementy optyczne, takie jak: filtry optyczne, zwierciadła (m.in. wielowarstwowe), siatki dyfrakcyjne, płytki strefowe Fresnela oraz rozwiązania hybrydowe. rozdział czwarty przedstawia szeroki obszar zastosowań optyki eUV/SXr. W ostatnim rozdziale znajduje się podsumowanie przedstawionych wcześniej informacji.
    The article presents the physical basis and overview of optical elements for the range including extreme ultraviolet (eUV) and soft X-ray (SXr). The first chapter contains an introduction to the subject under review and physical fundamentals. The second chapter presents the basics of optics for the eUV/SXr range, along with highlighting its advantages and disadvantages. The third chapter discusses in detail optical components such as optical filters, mirrors (including multilayers), diffraction gratings, Fresnel zone plates, and hybrid solutions. The fourth chapter presents a wide range of applications of eUV/SXr optics. The final chapter summarises the information presented earlier.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 49--83
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies