Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Slowinski, M." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Production of Doubly Charged Ions Using a Hollow Cathode Ion Source with an Evaporator
Autorzy:
Turek, M.
Droździel, A.
Pyszniak, K.
Mączka, D.
Słowiński, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1400444.pdf
Data publikacji:
2013-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
07.77.Ka
34.80.Dp
61.72.uj
Opis:
The paper describes the production of doubly charged ions from solids and gases using a hollow cathode ion source with an internal evaporator heated by a spiral cathode filament and arc discharge. The obtained currents were 15 μA for $Bi^{2+}$, 10 μA for $As^{2+}$ and $Al^{2+}$, 8 μA for $Kr^{2+}$ and $Xe^{2+}$, 5 μA for $In^{2+}$ and $Ge^{2+}$, enabling moderate dose implantations ( ≈ $10^{15} cm^{-3}$) with doubly charged ions. Characteristics of the ion source are presented and discussed in order to choose the optimal working parameters. A brief presentation of numerical model of doubly and singly charged ions in the ion source is given. The calculated results (dependences of ion current on the anode voltage) are in good agreement with the experimental data.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2013, 123, 5; 843-846
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Working parameters of the electron - beam-generated ion source for ISOL facilities
Autorzy:
Yushkevich, Y. V.
Turek, M.
Mączka, D.
Pyszniak, K.
Słowiński, B.
Vaganov, Y. A.
Zubrzycki, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/146648.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Instytut Chemii i Techniki Jądrowej
Tematy:
on-line isotope separation
short-lived nuclides
nuclear spectroscopy
ion sources
Opis:
An electron-beam generated plasma (EBGP) ion source for nuclear spectroscopy purposes at YASNAPP (YAdernaya Spektroskopya NA Putchkah Protonov - nuclear spectroscopy using proton beams) isotope separation on-line facility is presented. Working conditions both in on- and off-line mode are presented and discussed. Formation of a potential trap inside a discharge chamber is an advantage of the presented construction, enabling relatively high ionization efficiencies (2-5%) even for hard-to-ionize elements like Be, Ti, V, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt. The paper presents estimation of critical values of working parameters that enable formation of the ion trap leading in consequence to high efficiency of ionization. The optimal temperature of the discharge chamber and cathode walls is found to be in the range 2600-2800 K. Calculations of the output rates of ions produced in the on-line mode are also presented as well as the constraints on the half-life time of obtained nuclides imposed by construction details like the target material and its thickness.
Źródło:
Nukleonika; 2012, 57, 3; 351-356
0029-5922
1508-5791
Pojawia się w:
Nukleonika
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Thermal Desorption Studies of $Ar^{+}$ Implanted Silicon
Autorzy:
Drozdziel, A.
Wojtowicz, A.
Turek, M.
Pyszniak, K.
Maczka, D.
Slowinski, B.
Yushkevich, Y.
Zuk, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1382778.pdf
Data publikacji:
2014-06
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.43.Vx
61.72.uf
Opis:
Thermal desorption spectrometry measurements were performed for Ar implanted Si samples. Implantation energy $E_{i}$ varied in the range 85-175 keV. The release of implanted Ar in two steps was observed in the temperature range 930-1300 K: the relatively narrow peak at lower temperature ( ≈ 930 K for implantation fluence 5 × $10^{16}$ $cm^{-2}$) is due to the release of Ar from the agglomerations (bubbles) while the broader peak observed for higher temperatures ( ≈ 950 K for implantation fluence 5 × $10^{16}$ $cm^{-2}$) comes from Ar atoms diffusing out of the sample. Inverse order of peaks is observed compared to the results for lower energy implantations (< 50 keV). Analyzing the thermal desorption spectra collected for different heating ramp rates enabled estimation of the desorption activation energy (2 eV for $E_{i}$ = 85 keV and 1.7 eV for $E_{i}$ = 115 keV).
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2014, 125, 6; 1400-1403
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies