Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Ratajczak, P." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-7 z 7
    Tytuł:
    Definicja i elementy budowy tzw. czapy gipsowej na przykładzie badań czap struktur solnych Wapna i Mogilna
    Definition and structure of a cap-rock based on the investigations of Wapno and Mogilno salt domes
    Autorzy:
    Jaworska, J.
    Ratajczak, R.
    Wilkosz, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/183791.pdf
    Data publikacji:
    2010
    Wydawca:
    Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Wydawnictwo AGH
    Tematy:
    czapa gipsowa
    wysady solne Wapna i Mogilna
    budowa geologiczna
    wiek geologiczny
    cap-rok
    Wapno and Mogilno salt domes
    geological structure
    geological age
    Opis:
    Badania tzw. czap gipsowych wysadów solnych Wapna i Mogilna wykazały, że stanowią one złożone obiekty, zarówno ze względu na materiał (skład petrograficzny), jak i na późniejsze etapy ich formowania (ewolucja diagenetyczna, tektoniczna). W skład czap wchodzą: - materiał pochodzący z rozpuszczenia soli kamiennej (rezyduum), - porwaki skał - bezpośredniego otoczenia wysadu solnego oraz towarzyszących soli kamiennej, - zwietrzelina czapy, - brekcje gipsowo-ilaste (różnej genezy), - nowe składniki wytrącone z roztworów krążących w czapie. - dodatkowym problemem jest określenie wieku samej czapy.
    Cap-rocks of Wapno and Mogilno salt domes have been investigated. The cap-rock is a complex object, both because of the material (petrographic composition), and the later stages of its formation (diagenetic and tectonic evolution). The cap rock consists of: - material from dissolution of the rock salt (residuum), - detached blocks of rocks surrounding salt dome or accompanying rock salt, - weathering waste of cap-rock, - gypsum-clay breccia (of various genesis), - new minerals precipitated from solutions circulating with the cap-rock. Additional problem is to determine the cap-rock age.
    Źródło:
    Geologia / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie; 2010, 36, 4; 505-511
    0138-0974
    Pojawia się w:
    Geologia / Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Stopping Power and Energy Straggling of Channeled He-Ions in GaN
    Autorzy:
    Turos, A.
    Ratajczak, R.
    Pągowska, K.
    Nowicki, L.
    Stonert, A.
    Caban, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1504098.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.82.Fk
    61.85.+p
    68.55.Ln
    68.35.Dv
    Opis:
    GaN epitaxial layers are usually grown on sapphire substrates. To avoid disastrous effect of the large lattice mismatch a thin polycrystalline nucleation layer is grown at 500°C followed by the deposition of thick GaN template at much higher temperature. Remnants of the nucleation layer were visualized by transmission electron microscopy as defect agglomeration at the GaN/sapphire interface and provide a very useful depth marker for the measurement of channeled ions stopping power. Random and aligned spectra of He ions incident at energies ranging from 1.7 to 3.7 MeV have been measured and evaluated using the Monte Carlo simulation code McChasy. Impact parameter dependent stopping power has been calculated for channeling direction and its parameters have been adjusted according to experimental data. For virgin, i.e. as grown, samples, the ratio of channeled to random stopping power is constant and amounts to 0.7 in the energy range studied. Defects produced by ion implantation largely influence the stopping power. For channeled ions the variety of possible trajectories leads to different energy loss at a given depth, thus resulting in much larger energy straggling than that for the random path. Beam energy distributions at different depths have been calculated using the McChasy code. They are significantly broader than those predicted by the Bohr formula for random direction.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 163-166
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Resonant Photoemission Spectroscopy Study on the Contribution of the Yb 4f States to the Electronic Structure of ZnO
    Autorzy:
    Demchenko, I.
    Melikhov, Y.
    Konstantynov, P.
    Ratajczak, R.
    Barcz, A.
    Guziewicz, E.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1030972.pdf
    Data publikacji:
    2018-04
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    77.55.hf
    74.25.Jb
    33.60.+q
    Opis:
    The electronic structure of Yb implanted ZnO has been studied by the resonant photoemission spectroscopy. The contribution of the Yb 4f partial density of states is predominant at binding energy about 7.5 and ≈11.7 eV below the VB maximum. At photon energy about 182 eV the multiplet structure around 11.7 eV shows the strongest resonance that corresponds to the ¹I multiplet which is almost exclusively responsible for this resonance, while ³H and ³F states are responsible for the resonance around 7.5 eV. It was also found that the Yb 4f partial density of states distribution shows some similarity to Yb₂O₃.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2018, 133, 4; 907-909
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    On the Question of Ferromagnetism in Proton and He-Irradiated Carbon
    Autorzy:
    Szczytko, J.
    Juszyński, P.
    Teliga, L.
    Twardowski, A.
    Stonert, A.
    Ratajczak, R.
    Korman, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1811995.pdf
    Data publikacji:
    2008-11
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    75.20.Ck
    75.50.Dd
    Opis:
    We tried to repeat the observation of the ferromagnetic response in proton and He-irradiated carbon made by the group of Esquinazi et al. We used $He^+$ and $H^+$ beams focused on graphite sample. The amount of charge deposited in the sample was comparable to the amount of charge used by Esquinazi. Magnetic measurements were performed in SQUID magnetometer. The magnetization of the samples before and after irradiation was compared. We did not observe any ferromagnetic enhancement of magnetization of our irradiated samples. Even if experiment was not the same as Esqinazi's one, we can exclude some of the mechanisms of ferromagnetism proposed by Esquinazi.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1387-1390
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    RBS/Channeling and TEM Study of Damage Buildup in Ion Bombarded GaN
    Autorzy:
    Pągowska, K.
    Ratajczak, R.
    Stonert, A.
    Turos, A.
    Nowicki, L.
    Sathish, N.
    Jóźwik, P.
    Muecklich, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1504096.pdf
    Data publikacji:
    2011-07
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    61.82.Fk
    61.85.+p
    68.55.Ln
    68.35.Dv
    Opis:
    A systematic study on structural defect buildup in 320 keV Ar-ion bombarded GaN epitaxial layers has been reported, by varying ion fluences ranged from 5 × $10^{12}$ to 1 × $10^{17}$ at./$cm^2$. 1 μm thick GaN epitaxial layers were grown on sapphire substrates using the metal-organic vapor phase epitaxy technique. Rutherford backscattering/channeling with 1.7 $MeV^4He$ beam was applied for analysis. As a complementary method high resolution transmission electron microscopy has been used. The later has revealed the presence of extended defects like dislocations, faulted loops and stacking faults. New version of the Monte Carlo simulation code McChasy has been developed that makes it possible to analyze such defects on the basis of the bent channel model. Damage accumulation curves for two distinct types of defects, i.e. randomly displaced atoms and extended defects (i.e. bent channel) have been determined. They were evaluated in the frame of the multistep damage accumulation model, allowing numerical parameterization of defect transformations occurring upon ion bombardment. Displaced atoms buildup is a three-step process for GaN, whereas extended defect buildup is always a two-step process.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 1; 153-155
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wpływ trawienia podłoży 4H-SiC na epitaksje GaN
    The influence of the 4H-SiC substrats etching on GaN epitaxy
    Autorzy:
    Caban, P.
    Kościewicz, K.
    Strupiński, W.
    Pągowska, K.
    Ratajczak, R.
    Wójcik, M.
    Gaca, J.
    Turos, A.
    Szmidt, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192222.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    LP MOVPE
    GaN
    4H-SiC
    Opis:
    Przedstawiono wyniki prób osadzania azotku galu na podłożach z węglika krzemu w technologii epitaksji ze związków metalorganicznych w fazie pary w obniżonym ciśnieniu (LP MOVPE). W szczególności zbadano wpływ trawienia podłoży oraz ich odchylenia od osi (0001) na morfologię powierzchni oraz strukturę krystalograficzną osadzanego GaN. Stwierdzono, że trawienie podłoży ma wpływ na chropowatość powierzchni warstw epitaksjalnych, ale również poprawia strukturę krystalograficzną. Warstwy GaN zostały scharakteryzowane przy wykorzystaniu pomiarów AFM, HRXRD, RBS oraz pomiaru efektu Hall'a. Zaobserwowano, że najbardziej odpowiednim z analizowanych podłoży do epitaksji GaN jest 4H-SJC są te, które nie mają odchylenia od osi kryształu (0001).
    The influence of surface preparation and off-cut of 4H-SiC substrates on morphological and structural properties of GaN grown by low pressure metalorganic vapour phase epitaxy was studied. Substrate etching has an impact on the surface roughness of epilayers and improves its crystal quality. The GaN layers were characterized by AFM, HRXRD, RBS/channelling and Hall effect measurements. It was observed that on-axis 4H-SiC is most suitable for GaN epitaxy and that substrate etching improves the surface morphology of epilayer.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 4, 4; 5-16
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wpływ zastosowania wysokotemperaturowej warstwy zarodkowej AIN na właściwości GaN osadzanego na podłożach szafirowych
    The effect of implementation of high-temperature AIN nucleation layer on properties of GaN grown on sapphire substrates
    Autorzy:
    Lenkiewicz, D.
    Strupiński, W.
    Zdunek, K.
    Ratajczak, R.
    Stonert, A.
    Borysiuk, J.
    Caban, P.
    Dumiszewska, E.
    Kościewicz, K.
    Wesołowski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192297.pdf
    Data publikacji:
    2007
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Opis:
    Warstwy epitaksjalne związków półprzewodnikowych typu AIII-N są szeroko stosowane w przyrządach optoelektronicznych i mikrofalowych między innymi takich jak diody elektroluminescencyjne, detektory UV i tranzystory HEMT. Wskutek niedopasowania sieciowego pomiędzy warstwą a podłożem szafirowym istnieje konieczność stosowania przejściowej niskotemperaturowej warstwy zarodkowej. Typowa temperatura wzrostu warstwy zarodkowej (~550°C) jest znacznie niższa od temperatury wzrostu dalszych warstw aplikacyjnych przyrządu (≥ 1070C). Podczas zwiększania temperatury, w warstwie zarodkowej zachodzi przemiana struktury kubicznej w heksagonalną, której towarzyszy tworzenie się defektów strukturalnych (błędów ułożenia), co prowadzi do pogorszenia się parametrów przyrządu. Niniejsza praca koncentruje się na otrzymaniu warstwy zarodkowej w wyższej temperaturze z pominięciem niekorzystnego etapu zmiany struktury. Zastosowanie takiej warstwy zarodkowej z A1N pozwala na otrzymanie stabilnej struktury heksagonalnej o niskiej gęstości defektów strukturalnych oraz otwiera możliwość natychmiastowego dwuwymiarowego wzrostu warstwy aplikacyjnej GaN. Analizowane warstwy GaN charakteryzują się znacznie mniejszą szerokością połówkową rentgenowskiego widma dyfrakcyjnego dla promieniowania odbitego w kierunku <0002> oraz znacznie wyższą rezystywnością w porównaniu do warstw GaN otrzymanych metodą dwuetapową. W pracy przedstawiono wyniki badań wysokotemperaturowej warstwy zarodkowej oraz wpływu warunków jej wzrostu na strukturę krystaliczną i właściwości elektryczne warstw GaN. Zaprezentowano możliwość uzyskania wysokorezystywnych warstw GaN na podłożach szafirowych. Zaobserwowano znaczący wpływ temperatury wzrostu na właściwości heterostruktur wykorzystujących związki typu GaN.
    The III-N compounds are widely used for manufacturing optoelectronic and microwave devices such as electroluminescent diodes, UV detectors and HEMTs. Application of the lattice-mismatched sapphire substrates requires using low-temperature transition nucleation layers. Typically, the growth temperature of a nucleation layer is 550°C and highly differs from that of the subsequent application layer equal to 1070°C. The temperature increase has a detrimental effect on the structure of the nucleation layer. As a result, more lattice defects, such as interstitials, dislocations and stacking faults are formed in the application layer leading in consequence to deterioration of the device parameters. Present work concentrates on the development of a high-temperature nucleation layer and elimination of the harmful effect of the high temperature. The application of such A1N nucleation layer allows us to obtain a stable hexagonal structure with lower defect density, and it opens up also a possibility for an immediate two-dimensional growth of GaN application layer. The studies of high-temperature nucleation layers properties, their growth conditions and structural and electrical parameters of GaN application layers have been performed. The possibility to obtain the GaN layers with a high-resistivity using sapphire substrates and the AIN nucleation layers has been shown.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2007, T. 35, nr 3-4, 3-4; 5-18
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-7 z 7

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies