Autor: Roszkiewicz, A. - Katalog OPAC zbiorów

Skocz do pozycji: 1.

Tytuł:: Extraordinary optical transmission and vortex excitation by periodic arrays of Fresnel zone plates
Autorzy:: Roszkiewicz, A.
Nasalski, W.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/202304.pdf
Data publikacji:: 2013
Wydawca:: Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:: Fresnel zone plates
focusing
cross-polarisation coupling
optical vortices
Opis:: Extraordinary optical transmission and good focusing properties of a two-dimensional scattering structure is presented. The structure is made of Fresnel zone plates periodically arranged along two orthogonal directions. Each plate consists of two ring-shaped waveguides supporting modes that match the symmetry of a circularly polarized incident plane wave. High field concentration at the focal plane is obtained with the short transverse and long longitudinal foci diameters. Optical vortex excitation in a paraxial region of the transmitted field is also observed and analysed in terms of cross-polarisation coupling. The structure presented may appear useful in visualization, trapping and precise manipulations of nanoparticles.
Źródło:: Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences; 2013, 61, 4; 855-861
0239-7528
Pojawia się w:: Bulletin of the Polish Academy of Sciences. Technical Sciences
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Skocz do pozycji: 2.

Tytuł:: A note on optical materials for photolithography applications
Autorzy:: Jain, A.
Roszkiewicz, A.
Nasalski, W.
Powiązania:: https://bibliotekanauki.pl/articles/31342991.pdf
Data publikacji:: 2018
Wydawca:: Instytut Podstawowych Problemów Techniki PAN
Tematy:: optical lithography
photoresist
graphene
photonic
fotolitografia
fotorezyst
grafen
fotonika
Opis:: Optical lithography or photolithography is well-established optical tool for patterning of substrates, layers or photonic crystals. Therefore, the materials involved in these processes play an important role, especially for the possibility of their further advancements and optimisation. In this review article, we discuss on the role and significance of photoresist materials from various perspectives like their performance in photonic applications and their dependence on various physical and chemical parameters. Further, several emerging now two-dimensional materials like graphene has also been discussed from photonic point of view. We aim to give a short overview of recent developments of such materials in this field.
Fotolitografia jest dobrze znanym procesem pozwalającym na tworzenie wzorów na podłożach, warstwach czy kryształach fotonicznych. W związku z tym materiały wykorzystywane w tym procesie pełnią istotną rolę, zwłaszcza ze względu na dalszy możliwy rozwój dziedziny oraz optymalizację procesu. W tym artykule przeglądowym omawiamy rolę i znaczenie fotorezystu z różnych perspektyw, np. jego wydajność w zastosowaniach fotonicznych czy zależność od różnych parametrów fizycznych i chemicznych. Ponadto, omawiamy wiele powstających obecnie dwuwymiarowych materiałów, jak grafen, z punktu widzenia fotoniki. Naszym celem jest przedstawienie krótkiego przeglądu ostatnich osiągnięć w dziedzinie tego typu materiałów wykorzystywanych w fotolitografii.
Źródło:: IPPT Reports on Fundamental Technological Research; 2018, 3; 1-41
2299-3657
Pojawia się w:: IPPT Reports on Fundamental Technological Research
Dostawca treści:: Biblioteka Nauki

Artykuł

Zmień widok

na półce

Informacja

Wyszukujesz frazę "Roszkiewicz, A." wg kryterium: Autor

Źródło danych

Dostawca treści

Kolekcja

Rok wydania

Wydawca

Temat

Autor

Typ dokumentu

Język