Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "PS-PVD" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
The microstructure and thermal properties of Yb2SiO5 coating deposited using APS and PS-PVD methods
Autorzy:
Rokicki, P.
Góral, M.
Kubaszek, T.
Dychton, K.
Drajewicz, M.
Wierzbińska, M.
Ochal, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/24200542.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Stowarzyszenie Komputerowej Nauki o Materiałach i Inżynierii Powierzchni w Gliwicach
Tematy:
ytterbium monosilicate
APS
PS-PVD
EBC
Yb2SiO5
monokrzemian iterbu
Opis:
Purpose: The new ceramic material for Enviromental Barrier Coatings (EBC) on ceramic material was developed. Design/methodology/approach: The ytterbium monosilicate was deposited using two methods: atmospheric plasma spray (APS) and plasma spray physical vapour deposition (PS-PVD). Findings: Obtained coating was characterized by dense structure and columns typically formed in PS-PVD process were not observed. In comparison with APS-deposited coating, in this method, both elements segregation and formation of ytterbium oxide occurred. Research limitations/implications: The further research for production of columnar coatings will be necessary. Practical implications: Developed coatings migh be used for next generations of ceramic materials used for gas turbine and jet engine blades and vanes as a high temperature and corrosion protection. Originality/value: The first time the ytterbium monosilicate was produced bot by APS and LPPS methods.
Źródło:
Archives of Materials Science and Engineering; 2022, 114, 2; 49--57
1897-2764
Pojawia się w:
Archives of Materials Science and Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
The influence of plasma gases composition and powder feed rate on microstructure of ceramic coatings obtained by plasma spray physical vapour deposition (PS-PVD)
Wpływ składu chemicznego gazów plazmotwórczych oraz natężenia przepływu proszku na mikrostrukturę warstwy ceramicznej powłokowej bariery cieplnej wytworzonej w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej z odparowaniem w strumieniu plazmy
Autorzy:
Góral, M.
Kubaszek, T.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/175908.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
low pressure plasma spray
LPPS
PS-PVD
plasma spray physical vapour deposition
natryskiwanie plazmowe w warunkach obniżonego ciśnienia
fizyczne osadzanie z fazy gazowej z odparowaniem w strumieniu plazmy
Opis:
The article presents results of research on the influence of the chemical composition of the plasma plume and the powder feed rate on microstructure and thickness of the ceramic coating deposited on IN617 alloy substrate by Plasma Spray Physical Vapour Deposition (PS-PVD) method. There were used three powder feed rates: 2, 10 and 30 g/min and five different compositions of plasma gas (Ar, He, H2 and O2). Current – 2200 A, a sample rotation speed – 20 RPM and pressure inside of chamber – 150 Pa was fixed. The results showed that it is possible to deposit ceramic layer with lamellar and columnar structure, depends on process parameters. Columnar structure, characteristic for the PS-PVD process, is possible to obtain when the energy of plasma plume is sufficient for evaporating ceramic powder and deposit in on the substrate. The columnar-like structure coatings were obtained in the process with the highest amount of He – 60 dm3/min and lower values of powder feed rate – 2 and 10 g/min. Such effect was observed independently from the additional flow of H2 and O2. The columnar-like structure was possible to deposit also with 30 g/min feed rate. However, evaporation of ceramic powder occurred only in the process with only Ar and He in mixture – respectively 35 and 60 dm3/min and with addition only 2 dm3/min O2 to it. Nevertheless, inside the structure a lot of unmelted particles was visible.
W pracy ustalono wpływ składu chemicznego mieszaniny gazów plazmotwórczych i natężenia przepływu proszku na budowę warstwy ceramicznej na podłożu nadstopu niklu IN-617. Warstwy wytworzono w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej z odparowaniem za pomocą palnika plazmowego (Plasma Spray Physical Vapour Deposition – PS-PVD). Przyjęto natężenie przepływu proszku: 2, 10 i 30 g/min oraz różny skład chemiczny mieszaniny gazów plazmotwórczych (Ar, He, H2 i O2). Stosowano natężenie prądu palnika – 2200 A, prędkość obrotową stołu – 20 obr/min oraz ciśnienie w komorze roboczej – 150 Pa. Analiza wyników badań pozwoliła ustalić, że proces fizycznego osadzania z fazy gazowej z odparowaniem w strumieniu plazmy umożliwia wytworzenie warstwy ceramicznej o budowie lamelarnej i kolumnowej. Budowę kolumnową warstwy, charakterystyczną dla procesu PS-PVD, uzyskano dla energii strumienia plazmy zapewniającej odparowanie podawanego proszku. Warstwy takie wytworzono przy dużym natężeniu przepływu He – 60 dm3/min i małej wartości natężenia przepływu proszku – 2 i 10 g/min. Efekt ten obserwowano niezależnie od natężenia przepływu H2 oraz O2. Budowa kolumnowa warstwy możliwa jest również do wytworzenia przy największym natężeniu przepływu proszku – 30 g/min. Odparowanie i osadzenie warstwy ceramicznej stwierdzono tylko dla mieszaniny Ar + He o natężeniu przepływu – odpowiednio 35 i 60 dm3/min oraz dla mieszaniny Ar +He z dodatkowym wprowadzeniem tlenu O2 o natężeniu przepływu – 2 dm3/min. Wytworzone warstwy cechowały się wówczas występowaniem nieodparowanych cząstek proszku.
Źródło:
Advances in Manufacturing Science and Technology; 2017, 41, 2; 63-72
0137-4478
Pojawia się w:
Advances in Manufacturing Science and Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies