Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Mech, R." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-6 z 6
Tytuł:
Co-Mo and Co-Mo-C alloys deposited in a magnetic field of high intensity and their electrocatalytic properties
Stopy Co-Mo oraz Co-Mo-C osadzane w polu magnetycznym o wysokim natężeniu oraz ich właściwości elektrokatalityczne
Autorzy:
Żabiński, P. R.
Mech, K.
Kowalik, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/354557.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
wydzielanie wodoru
właściwości elektrokatalityczne
elektroosadzanie
stopy Co-Mo
stopy Co-Mo-C
magnetoelektrochemia
hydrogen evolution
electrocatalytic properties
electrodeposition
Co-Mo alloys
Co-Mo-C alloys
magnetoelectrochemistry
Opis:
The article presents results of tests on electrodeposition in a magnetic field of Co-Mo and Co-Mo-C alloys characterised by low overvoltage of hydrogen evolution. Addition of molybdenum and carbon was to lower the values of overvoltage of hydrogen evolution on cobalt. The influence of a magnetic field of high intensity (1 - 12 T) on the deposits composition, structure and morphology was determined. The deposition was conducted in a magnetic field of parallel orientation of the magnetic field forces lines in relation to the working electrode. Electrocatalytic properties of the obtained alloy coatings within the range of hydrogen evolution were tested in a concentrated solution of NaOH. The obtained alloys were analysed with the XRD method, their composition was tested with the WDXRF technique and they underwent observation applying scanning electron microscopy (SEM). The comparison of electrocatalytic properties of Co-Mo alloys with properties of Co-Mo-C ones enabled determining the influence of carbon presence in cathodic deposits on the overvoltage value of hydrogen evolution on them.
W artykule przedstawione zostały wyniki badań nad elektroosadzaniem w polu magnetycznym stopów Co-Mo oraz Co-Mo-C charakteryzujących się niskim nadnapięciem wydzielania wodoru. Dodatek molibdenu oraz węgla miałna celu obniżenie wartości nadnapięcia wydzielania wodoru na kobalcie. Określony zostałwpływ pola magnetycznego o wysokim natężeniu (1 - 12 T) na skład, strukturę oraz morfologię osadów. Osadzanie prowadzone było w polu magnetycznym o równoległej orientacji linii siłpola magnetycznego względem elektrody pracującej. Właściwości elektrokatalityczne otrzymanych powłok stopowych w zakresie wydzielania wodoru badano w gorącym stężonym roztworze NaOH. Otrzymane stopy poddano analizie XRD, analizie składu z wykorzystaniem techniki WDXRF oraz obserwacjom z wykorzystaniem skaningowej mikroskopii elektronowej (SEM). Porównanie właściwości elektrokatalitycznych stopów Co-Mo z właściwościami stopów Co-Mo-C pozwoliło na określenie wpływu obecności węgla w osadach katodowych na wartość nadnapięcia wydzielania na nich wodoru.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2012, 57, 1; 127-133
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Electrochemical synthesis of tetragonal SnO2 phase
Elektrochemiczna synteza SnO2 o strukturze tetragonalnej
Autorzy:
Mech, K.
Kowalik, R.
Fitzner, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/351445.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
dwutlenek cyny
synteza elektrochemiczna
elektrochemia
elektrograwimetria
tin dioxide
electrochemical synthesis
electrodeposition
electrogravimetry
Opis:
The main aim of this research was to determine parameters of deposition of tetragonal SnO2 phase by electrochemical method. The influence of different parameters like potential of a working electrode, the electrolyte composition and time of deposition on the morphology of the electrodeposited SnO2 was determined by LSV and QCM techniques. The mechanism of the oxide formation is also discussed. The morphology and structure of films was characterized by AFM and XRD technique.
Celem badań było określenie parametrów osadzania SnO2 o strukturze tetragonalnej metodą elektrochemiczną. Określony został wpływ parametrów takich jak: potencjał elektrody pracującej, skład elektrolitu oraz czas trwania elektrolizy na morfologię osadzonego SnO2. Badania prowadzono z wykorzystaniem technik LSV oraz QCM. W artykule omówiony został również mechanizm tworzenia się SnO2. Do charakterystyki morfologii uzyskanych cienkich warstw wykorzystano mikroskop AFM. Badania strukturalne wykonano metodą XRD.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2011, 56, 3; 659-663
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Cu thin films deposited by DC Magnetron sputtering for contact surfaces on electronic components
Otrzymywanie cienkich powłok Cu dla elektroniki metodą stałoprądowego rozpylania magnetronowego
Autorzy:
Mech, K.
Kowalik, R.
Żabiński, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/352685.pdf
Data publikacji:
2011
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
powłoki
rozpylanie magnetronowe
kontakt elektroniczny
DC magnetron sputtering
Cu films
electronic contact
Opis:
The results of the DC magnetron sputtering of copper thin films with different parameters of deposition are presented. The main aim of studies was to determine the influence of current value, time of deposition and target-substrate distance on morphology and grain size of obtained copper thin films. The effects of film's thickness on the resistivity of copper thin films were investigated. The influence of parameters on the rate of deposition was also determined. The possibility of application of resulting films for contact surface in electronic components was discussed. The morphology was characterized by AFM method, the size of Cu deposited grains was calculated using Scherrer's method. The WDXRF method was used for estimate of thickness of sputtered films. The resistivity of obtained films was measured using four probe method.
W pracy przedstawiono wyniki badan nad wpływem parametrów napylania magnetronowego cienkich warstw Cu na ich własnosci. Głównym celem przeprowadzonych badan było okreslenie wpływu natezenia pradu, czasu osadzania, odległosci pomiedzy targetem a napylana powierzchnia na wielkosc ziarna oraz morfologie cienkich warstw. Przeprowadzono równiez badania nad wpływem grubosci warstwy na jej opór własciwy. Omówiona została mozliwosc stosowania warstw nanoszonych ta metoda w przemysle elektronicznym. Morfologie otrzymanych warstw charakteryzowano przy uzyciu mikroskopu AFM. Wielkosc ziarna oszacowana została na podstawie wzoru Scherrera. Grubosc warstw wyznaczono technika WDXRF. Do pomiarów oporu własciwego wykorzystano metode pomiaru czteropunktowego.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2011, 56, 4; 903-908
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Electrodeposition of catalytically active Ni-Mo alloys
Elektroosadzanie aktywnych katalitycznie stopów Ni-Mo
Autorzy:
Mech, K.
Żabiński, P.
Mucha, M.
Kowalik, R.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/350840.pdf
Data publikacji:
2013
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
stopy Ni-Mo
elektroosadzanie
wydzielanie wodoru
Ni-Mo alloys
electrodeposition
hydrogen evolution reaction
Opis:
The work presents results of researches over the deposition of Ni-Mo alloys through the electrolysis conducted in galvanostatic conditions. In order to improve adhesion and aesthetic properties of the deposited alloys, SLS was added to the bath as a surface active agent. The influence of electrolyte pH was tested as well as concentrations of particular components on the composition, structure, cathodic current efficiency of the electrolysis process and catalytic activity of alloys in the process of hydrogen evolution. A positive influence of addition of molybdenum on catalytic activity was observed occurring in lowering the Tafel’s slope within the activation control range from 122 mV/dec (Ni) to 21 mV/dec (Ni-28.5Mo) for a reaction of water molecules reduction in 8 M NaOH at 90°C.
W pracy zaprezentowano wyniki badań nad otrzymywaniem stopów Ni-Mo na drodze elektrolizy prowadzonej w warunkach galwanostatycznych. Celem poprawy przyczepności oraz walorów estetycznych otrzymywanych stopów do kąpieli dodano SLS w roli środka powierzchniowo czynnego. Przebadano wpływ pH elektrolitu oraz stężenia poszczególnych składników na skład, strukturę, katodową wydajność prądowa procesu elektrolizy oraz właściwości katalityczne stopów w procesie wydzielania wodoru. Zaobserwowano pozytywny wpływ dodatku molibdenu na aktywność katalityczną przejawiający się w spadku nachylenia Tafela w zakresie kontroli aktywacyjnej z 122mV/dec (Ni) do 21 mV/dec (Ni-28.5Mo) dla reakcji redukcji cząsteczek wody w 8 M NaOH w 90 C.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2013, 58, 1; 227-229
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Electrowinning Of Tellurium From Acidic Solutions
Otrzymywanie telluru metodą elektrochemiczną z roztworów kwaśnych
Autorzy:
Kowalik, R.
Kutyła, D.
Mech, K.
Tokarski, T.
Żabiński, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/351491.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
tellurium
electrolysis
electrodeposition
cyclic voltammetry
electrochemical quartz microbalance
tellur
elektroliza
elektroosadzanie
woltamperometria cykliczna
elektrochemiczne mikrowagi kwarcowe
Opis:
The process of electrochemical deposition of tellurium was studied. Preliminary researches embrace the voltammetry and microgravimetric measurements. According to the results the electrolysis of tellurium was conducted under potentiostatic conditions. There was no deposition of tellurium above potential −0.1 vs. Ag/AgCl electrode in 25°C. The process of deposition is observed in the range of potentials −0.1 to −0.3 V vs. Ag/AgCl. The presence of tellurium was confirmed by XRF and XRD. The obtained deposits were homogenous and compact. Below potential −0.3 V vs. Ag/AgCl the Faradaic efficiency of the tellurium deposition decreased due to reduction of Te to H2Te and hydrogen evolution.
Przeprowadzono badania obejmujące możliwość otrzymywania telluru z roztworów kwaśnych metodą elektrochemiczną. Badania wstępne obejmowały analizę mechanizmu osadzania telluru z wykorzystaniem cyklicznej woltamperometrii oraz elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej. Na podstawie otrzymanych wyników przeprowadzono proces elektrolizy w warunkach potencjostatycznych. W temperaturze 25°C powyżej potencjału −0.1 V względem elektrody chlorosrebrowej nie zachodzi proces osadzania telluru. W zakresie potencjałów od −0.1 do −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej następuje jego osadzanie na katodzie. Obecność tellury była potwierdzona metodami XRD i XRF. Osady otrzymane w omawianym zakresie parametrów charakteryzowały się zwartą i jednorodną budową. Poniżej potencjału −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej wydajność oraz szybkość procesu osadzania telluru ulegają obniżeniu w wyniku występowania reakcji konkurencyjnych: redukcji Te do H2Te oraz wydzielania wodoru.
Źródło:
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 591-596
1733-3490
Pojawia się w:
Archives of Metallurgy and Materials
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Electrochemical codeposition of molybdenum and selenium
Elektrochemiczne osadzanie molibdenu z selenem
Autorzy:
Kowalik, R.
Kutyła, D.
Mech, K.
Wróbel, M.
Tokarski, T.
Żabiński, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/263887.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Wydawnictwo AGH
Tematy:
electrodeposition
molybdenum
selenium
transition metal chalcogenides
elektroosadzanie
molibden
selen
chalkogenki metali przejściowych
Opis:
The electrodeposition of Mo-Se thin films from a sulfate solution containing Na2MoO4 and H2SeO3 was studied. The process of deposition was conducted under potentiostatic conditions on a copper electrode. The effect of potential value, pH, and time of deposition were examined. The deposits were characterized by X-ray diffraction, X-ray fluorescence, and scanning electron microscopy. The obtained results have shown the possibility of co-deposition of molybdenum and selenium with different stoichiometric ratios.
Przeprowadzono badania dotyczące procesu elektrochemicznego osadzania molibdenu z selenem z roztworów siarczanowych zawierających Na2Mo4 i H2SeO3. Proces osadzania przeprowadzono w warunkach potencjostatycznych na elektrodach miedzianych. Zbadano wpływ potencjału, pH elektrolitu oraz długości czasu osadzania na jakość otrzymanych powłok. Otrzymane warstwy były badane z wykorzystaniem dyfrakcji rentgenowskiej, spektrofluorymetrii rentgenowskiej oraz skaningowego mikroskopu elektronowego. Wykazano możliwość otrzymania powłok o różnym stosunku molibdenu do selenu
Źródło:
Metallurgy and Foundry Engineering; 2015, 41, 1; 7-16
1230-2325
2300-8377
Pojawia się w:
Metallurgy and Foundry Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-6 z 6

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies