- Tytuł:
-
Analiza wpływu trawienia powierzchni w procesie sputteringu magnetronowego
Etching effect analysis in the process of magnetron sputtering - Autorzy:
-
Grudniewski, T.
Chodyka, M.
Lubańska, Z. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/250398.pdf
- Data publikacji:
- 2015
- Wydawca:
- Instytut Naukowo-Wydawniczy TTS
- Tematy:
-
trawienie powierzchni
sputtering magnetronowy
surface etching
sputtering magnetron - Opis:
-
W prezentowanym artykule, autorzy starają się zwrócić uwagę na proces wstępnego przygotowania próbek do nanoszenia warstw metodą sputteringu magnetronowego. Wykorzystywaną metodą w urządzeniu, na którym przeprowadzono badania proces ten polega na bombardowaniu powierzchni próbki plazmą i wytrawianiu jej górnych warstw. Autorzy postanowili zatem zbadać jaki wpływ ma trawienie na próbkę oraz czy wybite z próbki atomy materiału mogą być osadzone na innym podłożu. Dodatkowo przeanalizowano jedną z możliwości modyfikacji kształtu plazmy poprzez wprowadzenie, do komory roboczej, bardzo silnych magnesów.
In this paper, the authors pay attention to the pre-treatment process for creating layers by magnetron sputtering. The method used by the device on which the study was conducted involves bombarding the sample surface plasma and etching the upper layers. The authors therefore decided to investigate what impact the digestion of the sample has and whether the sample atoms knocked out of the material can be embedded on other substrates. In addition, one possible modification of the plasma shape was analyzed by introducing very strong magnets into the working chamber. - Źródło:
-
TTS Technika Transportu Szynowego; 2015, 12; 624-626, CD
1232-3829
2543-5728 - Pojawia się w:
- TTS Technika Transportu Szynowego
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł