Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Witkowski, P." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Influence of Annealing on Optical Properties of ZnO Nanorods Obtained by the Microwave-Assisted Hydrothermal Process
    Autorzy:
    Materska, P.
    Witkowski, B.
    Godlewski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1185899.pdf
    Data publikacji:
    2016-11
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    78.55.-m
    61.46.-w
    61.72.Cc
    Opis:
    Optical properties of ZnO nanorods (of different sizes, grown on two different substrates) are investigated. Nanorods were grown using microwave-assisted hydrothermal process on gallium nitride or silicon substrate. To initiate nanorods growth on a silicon substrate ZnO nucleation layer was used. ZnO nanoseeds were deposited by atomic layer deposition. For GaN substrate an epitaxial relation was observed. For both substrates nanorods show a hexagonal structure, expected for wurtzite ZnO. Results of nanorods annealing are discussed.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2016, 130, 5; 1202-1204
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Struktury fotowoltaiczne oparte o heterozłącze ZnO/Si
    Photovoltaic Structures Based on Heterojunction Zno/Si
    Autorzy:
    Pietruszka, R.
    Łuka, G.
    Witkowski, B. S.
    Kopalko, K.
    Zielony, E.
    Biegański, P.
    Płaczek-Popko, E.
    Godlewski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/952439.pdf
    Data publikacji:
    2014
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    fotowoltaika
    tlenek cynku
    metoda osadzania warstw atomowych
    photovoltaic
    zinc oxide
    Opis:
    Warstwy tlenku cynku otrzymane metodą osadzania warstw atomowych ALD zostały użyte jako n-typu partner dla p-typu krzemu. Jako przezroczystą górną elektrodę wybrano warstwę tlenku cyku domieszkowaną glinem (tak zwana warstwa TCO – Transparent Conductive Oxide). Użyto tanich podłóż krzemowych o niezoptymalizowanej dla zastosowań fotowoltaicznych grubości. W niniejszej pracy badano proste struktury fotowoltaiczne ZnO/Si w celu redukcji kosztów produkcji energii elektrycznej pozyskiwanej za pomocą ogniw fotowoltaicznych. Zmierzona sprawność zoptymalizowanych częściowo (warstwy ZnO) ogniw fotowoltaicznych wyniosła 6%.
    We report on the properties of photovoltaic (PV) structures based on thin films of n-type zinc oxide grown by atomic layer deposition method on a cheap silicon substrate. Thin films of ZnO are used as n-type partner to p-type Si (110) and, when doped with Al, as a transparent electrode. PV structures with different electrical parameters and thicknesses of ZnO layers were deposited to determine the optimal performance of PV structures. The best response we obtained for the structure with ZnO layer thickness of 800 nm. The soobtained PV structures show 6% efficiency.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 264; 113-123
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Schottky Junctions Based on the ALD-ZnO Thin Films for Electronic Applications
    Autorzy:
    Krajewski, T.
    Luka, G.
    Smertenko, P.
    Zakrzewski, A.
    Dybko, K.
    Jakiela, R.
    Wachnicki, L.
    Gieraltowska, S.
    Witkowski, B.
    Godlewski, M.
    Guziewicz, E.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1492501.pdf
    Data publikacji:
    2011-12
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    68.55.ag
    73.50.-h
    73.50.Bk
    73.61.Ga
    81.15.-z
    81.15.Gh
    Opis:
    The ZnO-based Schottky diodes revealing a high rectification ratio may be used in many electronic devices. This paper demonstrates several approaches to obtain a ZnO-based Schottky junction with a high rectification ratio. The authors tested several methods such as: post-growth annealing of the ZnO layer, acceptor (nitrogen) doping, as well as the ZnO surface coating with a properly chosen dielectric material. The influence of these approaches on the diode's rectification ratio together with modeling based on the differential approach and thermionic emission theory are presented.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 6A; A-017-A-021
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies