Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Grzanka, A." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
High Power Continuous Wave Blue InAlGaN Laser Diodes Made by Plasma Assisted MBE
Autorzy:
Skierbiszewski, C.
Siekacz, M.
Wiśniewski, P.
Perlin, P.
Feduniewicz-Żmuda, A.
Cywiński, G.
Smalc, J.
Grzanka, S.
Grzegory, I.
Leszczyński, M.
Porowski, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2047002.pdf
Data publikacji:
2006-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
42.55.Px
85.35.Be
42.60.By
73.21.Cd
Opis:
Room temperature, continuous wave operation of InGaN multi-quantum wells laser diodes made by rf plasma assisted molecular beam epitaxy at 411 nm wavelength is demonstrated. The threshold current density and voltage were 4.2 kA/cm$\text{}^{2}$ and 5.3 V, respectively. High optical power output of 60 mW was achieved. The lifetime of these laser diodes exceeds 5 h with 2 mW of optical output power. The laser diodes are fabricated on low dislocation density bulk GaN substrates, at growth conditions which resembles liquid phase epitaxy. We demonstrate that relatively low growth temperatures (600-700°C) pose no intrinsic limitations for fabrication of nitride optoelectronic components by plasma assisted molecular beam epitaxy.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2006, 110, 3; 345-351
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Crack Free GaInN/AlInN Multiple Quantum Wells Grown on GaN with Strong Intersubband Absorption at 1.55μm
Autorzy:
Cywiński, G.
Skierbiszewski, C.
Feduniewicz-Żmuda, A.
Siekacz, M.
Nevou, L.
Doyennette, L.
Julien, F. H.
Prystawko, P.
Kryśko, M.
Grzanka, S.
Grzegory, I.
Porowski, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2046911.pdf
Data publikacji:
2006-08
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
68.65.Fg
78.66.-w
78.67.De
78.40.Fy
81.15.Hi
Opis:
Crack free GaInN/AlInN multiple quantum wells were grown by rf plasma-assisted molecular beam epitaxy on (0001) GaN/sapphire substrates. The strain-engineering concept was applied to eliminate cracking effect for growth of intersubband structures on GaN. Indium contained ternary compounds of barrier and well layers are contrary strained to the substrate material. A series of crack free GaInN/AlInN intersubband structures on (0001) GaN was fabricated and investigated. The assumed composition and layered structure were confirmed by room temperature photoluminescence and X-ray diffraction measurements. The intersubband measurements were done in multipass waveguide geometry by applying direct intersubband absorption and photoinduced intersubband absorption measurements. The optimized structure design contains forty periods of Si-doped GaInN/AlInN quantum wells and exhibits strong intersubband absorption.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2006, 110, 2; 175-181
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies