Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "SOI" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Grain boundary effect on the anisotropy piezoresistance of laser-recrystallized polysilicon layers in SOI-structures
Autorzy:
Pankov, Y.
Druzhinin, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/307640.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
SOI
polysilicon layers
MLR
Opis:
A physical model of grain boundary influence on the piezoresistive effect of p-type conductivity of polysilicon layers in SOI-structures is developed. Software calculating piezoresistive properties of boron-doped p-type polysilicon layers has been developed. These properties may be calculated over wide concentration and temperature ranges with anisotropy taken into account and with the average grain size as a parameter. The potential barrier regions around the grain boundaries influence the deformation changes of anisotropy resistance in the fine-grained non-recrystallized SOI-structures doped with boron up to 3ź10(19)cm(-3) only.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 46-48
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
On possibility to extend the operation temperature range of SOI sensors with polysilicon piezoresistors
Autorzy:
Druzhinin, A.
Lavitska, E.
Maryamova, I.
Kogut, I.
Khoverko, Y.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/307642.pdf
Data publikacji:
2001
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
SOI
mechanical sensors
poly-Si piezoresistor
ZMR
Opis:
The aim of this work was to study the possibilities of developing mechanical sensors with poly-Si piezoresistors on insulating substrate for operation in different temperature ranges (low, elevated and high temperatures). Laser recrystallization is used as a technological tool to adjust the electrical and piezoresistive parameters of the polysilicon layer. For this purpose a set of studies including numerical simulation and experimental work has been carried out. The main three directions of the studies are considered: problems of thermal stabilization of the pressure sensor performance at elevated and high temperatures; problem of sensor operation at cryogenic temperatures; development of a multifunctional pressure-temperature sensor.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2001, 1; 40-45
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies