- Tytuł:
-
System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD
Optoelectronic system for control of ΜPA CVD processes - Autorzy:
-
Bogdanowicz, R.
Gnyba, M.
Wroczyński, P.
Leśniewski, M. - Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/153808.pdf
- Data publikacji:
- 2008
- Wydawca:
- Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
- Tematy:
-
spektroskopia emisyjna
spektroskopia ramanowska
CVD
diagnostyka optyczna in-situ
warstwy diamentopodobne
optical emission spectroscopy
Raman spectroscopy
in situ optical diagnostics
diamond-like carbon films - Opis:
-
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process. - Źródło:
-
Pomiary Automatyka Kontrola; 2008, R. 54, nr 3, 3; 87-90
0032-4140 - Pojawia się w:
- Pomiary Automatyka Kontrola
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł