Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Adamczewska, A." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Hydrostatic Pressure Effect on Oxygen Precipitates in Silicon Single Crystal
Autorzy:
Misiuk, A.
Adamczewska, J.
Bąk-Misiuk, J.
Härtwig, J.
Morawski, A.
Witczak, Z.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1890764.pdf
Data publikacji:
1991-09
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
61.70.At
61.70.-r
81.40.-z
Opis:
The effect of hydrostatic pressure on some properties of Cz-Si with oxygen precipitates is investigated. The observed phenomena are discussed in terms of misfit between the precipitates and Si matrix.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1991, 80, 3; 317-320
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Changes of GaP: N Defect Structure under Hydrostatic Pressure
Autorzy:
Bąk-Misiuk, J.
Domagała, J.
Kozankiewicz, B.
Misiuk, A.
Adamczewska, J.
Skibska, M.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/1924323.pdf
Data publikacji:
1993-01
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
65.70.+y
Opis:
The changes of defect structure of GaP:N epitaxial layers subjected to hydrostatic pressures up to 1.8 GPa are investigated by X-ray diffraction and photoluminescence. The observed changes are more pronounced at higher pressures and depend on the nitrogen concentration, c$\text{}_{N}$, and on initial defect structure. Especially complex hydrostatic pressure induced properties are observed for the sample with c$\text{}_{N}$ > 10$\text{}^{20}$ at. cm$\text{}^{-3}$. The model explaining the hydrostatic pressure induced defect structure changes is proposed.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 1993, 83, 1; 87-93
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
X-ray Study of Strain Relaxation in Heteroepitaxial AlGaAs Layers Annealed under High Hydrostatic Pressure
Autorzy:
Bąk-Misiuk, J.
Adamczewska, J.
Misiuk, A.
Regiński, K.
Wierzchowski, W.
Wieteska, K.
Kozanecki, A.
Kuritsyn, D.
Glukhanyuk, W.
Trela, J.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2030644.pdf
Data publikacji:
2002-05
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
Tematy:
81.40.-z
68.55.Ln
Opis:
The effect of treatment at up to 1270 K under hydrostatic argon pressure, up to 1.2 GPa, on strain relaxation of AlGaAs layers was investigated by X-ray diffraction and related methods. The 1.5μm thick AlGaAs layers were grown by molecular beam epitaxy method on 001 oriented semi-insulating GaAs substrate at 950 K. An increase in intensity of X-ray diffuse scattering, originating from hydrostatic pressure-induced misfit dislocations, was observed for all treated samples. For the samples treated at 920 K during 1 h under 0.6 GPa, the diffuse scattering was confined to the [110] crystallographic direction perpendicular to the direction of dislocations. For the samples treated at 1.2 GPa at the same temperature and time conditions as for 0.6G Pa, a different behaviour is observed, namely the diffuse scattering extends along all azimuthal directions, indicating that dislocations are created in both [110] and [¯110] directions. The change of strain after the treatment was most pronounced for the samples treated at 1.2 GPa for 1 h at 920 K.
Źródło:
Acta Physica Polonica A; 2002, 101, 5; 689-699
0587-4246
1898-794X
Pojawia się w:
Acta Physica Polonica A
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies