Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Andreev, D." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-2 z 2
    Tytuł:
    Cast Intermetallic Alloys by SHS Under High Gravity
    Autorzy:
    Sanin, V.
    Andreev, D.
    Ikornikov, D.
    Yukhvid, V.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1503724.pdf
    Data publikacji:
    2011-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.05.Bx
    81.05.Mh
    81.20.Ka
    Opis:
    Pilot-scale series of cast Ti-Al, Ti-Al-Nb, $(Ni, Co, Mn)Al_x$, Ni-Cr-Al-Si-C, and Co-V-Al-Si-C alloys were produced by thermit-type SHS under high gravity for their potential use as heat-resistant materials, master alloys, precursors for catalysts, etc.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 120, 2; 331-335
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Modification of MIS Devices by Irradiation and High-Field Electron Injection Treatments
    Autorzy:
    Andreev, D.
    Bondarenko, G.
    Andreev, V.
    Maslovsky, V.
    Stolyarov, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1030209.pdf
    Data publikacji:
    2017-08
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    72.20.Ht
    72.20.Jv
    73.20.At
    73.40.Qv
    73.40.Ty
    77.22.Jp
    77.55.-g
    Opis:
    Methods to modify gate dielectrics of MIS structures by irradiation treatments and high-field electron injection into dielectric are considered. In addition, distinctive features of these methods used to correct parameters of MIS devices are studied. It was found out that negative charge, accumulating in the thin film of phosphosilicate glass (PSG) of the MIS structure having a two-layer gate dielectric SiO_2-PSG under the high-field injection or during the irradiation treatment can be used to correct the threshold voltage to improve the charge stability and raise the voltage of breakdown for the MIS devices. It is proved that the density of electron traps rises with the increasing thickness of the PSG film. In this paper a method to modify electrophysical characteristics of MIS structures by the high-field tunnel injection of electrons into the gate dielectric under the mode of controlled current stress is proposed. The method allows to monitor changing of MIS structure parameters directly during the modification process.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2017, 132, 2; 245-248
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-2 z 2

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies