Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Mech, R." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-4 z 4
    Tytuł:
    Cu thin films deposited by DC Magnetron sputtering for contact surfaces on electronic components
    Otrzymywanie cienkich powłok Cu dla elektroniki metodą stałoprądowego rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Mech, K.
    Kowalik, R.
    Żabiński, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/352685.pdf
    Data publikacji:
    2011
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    powłoki
    rozpylanie magnetronowe
    kontakt elektroniczny
    DC magnetron sputtering
    Cu films
    electronic contact
    Opis:
    The results of the DC magnetron sputtering of copper thin films with different parameters of deposition are presented. The main aim of studies was to determine the influence of current value, time of deposition and target-substrate distance on morphology and grain size of obtained copper thin films. The effects of film's thickness on the resistivity of copper thin films were investigated. The influence of parameters on the rate of deposition was also determined. The possibility of application of resulting films for contact surface in electronic components was discussed. The morphology was characterized by AFM method, the size of Cu deposited grains was calculated using Scherrer's method. The WDXRF method was used for estimate of thickness of sputtered films. The resistivity of obtained films was measured using four probe method.
    W pracy przedstawiono wyniki badan nad wpływem parametrów napylania magnetronowego cienkich warstw Cu na ich własnosci. Głównym celem przeprowadzonych badan było okreslenie wpływu natezenia pradu, czasu osadzania, odległosci pomiedzy targetem a napylana powierzchnia na wielkosc ziarna oraz morfologie cienkich warstw. Przeprowadzono równiez badania nad wpływem grubosci warstwy na jej opór własciwy. Omówiona została mozliwosc stosowania warstw nanoszonych ta metoda w przemysle elektronicznym. Morfologie otrzymanych warstw charakteryzowano przy uzyciu mikroskopu AFM. Wielkosc ziarna oszacowana została na podstawie wzoru Scherrera. Grubosc warstw wyznaczono technika WDXRF. Do pomiarów oporu własciwego wykorzystano metode pomiaru czteropunktowego.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2011, 56, 4; 903-908
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Electrodeposition of catalytically active Ni-Mo alloys
    Elektroosadzanie aktywnych katalitycznie stopów Ni-Mo
    Autorzy:
    Mech, K.
    Żabiński, P.
    Mucha, M.
    Kowalik, R.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/350840.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    stopy Ni-Mo
    elektroosadzanie
    wydzielanie wodoru
    Ni-Mo alloys
    electrodeposition
    hydrogen evolution reaction
    Opis:
    The work presents results of researches over the deposition of Ni-Mo alloys through the electrolysis conducted in galvanostatic conditions. In order to improve adhesion and aesthetic properties of the deposited alloys, SLS was added to the bath as a surface active agent. The influence of electrolyte pH was tested as well as concentrations of particular components on the composition, structure, cathodic current efficiency of the electrolysis process and catalytic activity of alloys in the process of hydrogen evolution. A positive influence of addition of molybdenum on catalytic activity was observed occurring in lowering the Tafel’s slope within the activation control range from 122 mV/dec (Ni) to 21 mV/dec (Ni-28.5Mo) for a reaction of water molecules reduction in 8 M NaOH at 90°C.
    W pracy zaprezentowano wyniki badań nad otrzymywaniem stopów Ni-Mo na drodze elektrolizy prowadzonej w warunkach galwanostatycznych. Celem poprawy przyczepności oraz walorów estetycznych otrzymywanych stopów do kąpieli dodano SLS w roli środka powierzchniowo czynnego. Przebadano wpływ pH elektrolitu oraz stężenia poszczególnych składników na skład, strukturę, katodową wydajność prądowa procesu elektrolizy oraz właściwości katalityczne stopów w procesie wydzielania wodoru. Zaobserwowano pozytywny wpływ dodatku molibdenu na aktywność katalityczną przejawiający się w spadku nachylenia Tafela w zakresie kontroli aktywacyjnej z 122mV/dec (Ni) do 21 mV/dec (Ni-28.5Mo) dla reakcji redukcji cząsteczek wody w 8 M NaOH w 90 C.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2013, 58, 1; 227-229
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Electrowinning Of Tellurium From Acidic Solutions
    Otrzymywanie telluru metodą elektrochemiczną z roztworów kwaśnych
    Autorzy:
    Kowalik, R.
    Kutyła, D.
    Mech, K.
    Tokarski, T.
    Żabiński, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/351491.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    tellurium
    electrolysis
    electrodeposition
    cyclic voltammetry
    electrochemical quartz microbalance
    tellur
    elektroliza
    elektroosadzanie
    woltamperometria cykliczna
    elektrochemiczne mikrowagi kwarcowe
    Opis:
    The process of electrochemical deposition of tellurium was studied. Preliminary researches embrace the voltammetry and microgravimetric measurements. According to the results the electrolysis of tellurium was conducted under potentiostatic conditions. There was no deposition of tellurium above potential −0.1 vs. Ag/AgCl electrode in 25°C. The process of deposition is observed in the range of potentials −0.1 to −0.3 V vs. Ag/AgCl. The presence of tellurium was confirmed by XRF and XRD. The obtained deposits were homogenous and compact. Below potential −0.3 V vs. Ag/AgCl the Faradaic efficiency of the tellurium deposition decreased due to reduction of Te to H2Te and hydrogen evolution.
    Przeprowadzono badania obejmujące możliwość otrzymywania telluru z roztworów kwaśnych metodą elektrochemiczną. Badania wstępne obejmowały analizę mechanizmu osadzania telluru z wykorzystaniem cyklicznej woltamperometrii oraz elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej. Na podstawie otrzymanych wyników przeprowadzono proces elektrolizy w warunkach potencjostatycznych. W temperaturze 25°C powyżej potencjału −0.1 V względem elektrody chlorosrebrowej nie zachodzi proces osadzania telluru. W zakresie potencjałów od −0.1 do −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej następuje jego osadzanie na katodzie. Obecność tellury była potwierdzona metodami XRD i XRF. Osady otrzymane w omawianym zakresie parametrów charakteryzowały się zwartą i jednorodną budową. Poniżej potencjału −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej wydajność oraz szybkość procesu osadzania telluru ulegają obniżeniu w wyniku występowania reakcji konkurencyjnych: redukcji Te do H2Te oraz wydzielania wodoru.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 591-596
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Electrochemical codeposition of molybdenum and selenium
    Elektrochemiczne osadzanie molibdenu z selenem
    Autorzy:
    Kowalik, R.
    Kutyła, D.
    Mech, K.
    Wróbel, M.
    Tokarski, T.
    Żabiński, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/263887.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie. Wydawnictwo AGH
    Tematy:
    electrodeposition
    molybdenum
    selenium
    transition metal chalcogenides
    elektroosadzanie
    molibden
    selen
    chalkogenki metali przejściowych
    Opis:
    The electrodeposition of Mo-Se thin films from a sulfate solution containing Na2MoO4 and H2SeO3 was studied. The process of deposition was conducted under potentiostatic conditions on a copper electrode. The effect of potential value, pH, and time of deposition were examined. The deposits were characterized by X-ray diffraction, X-ray fluorescence, and scanning electron microscopy. The obtained results have shown the possibility of co-deposition of molybdenum and selenium with different stoichiometric ratios.
    Przeprowadzono badania dotyczące procesu elektrochemicznego osadzania molibdenu z selenem z roztworów siarczanowych zawierających Na2Mo4 i H2SeO3. Proces osadzania przeprowadzono w warunkach potencjostatycznych na elektrodach miedzianych. Zbadano wpływ potencjału, pH elektrolitu oraz długości czasu osadzania na jakość otrzymanych powłok. Otrzymane warstwy były badane z wykorzystaniem dyfrakcji rentgenowskiej, spektrofluorymetrii rentgenowskiej oraz skaningowego mikroskopu elektronowego. Wykazano możliwość otrzymania powłok o różnym stosunku molibdenu do selenu
    Źródło:
    Metallurgy and Foundry Engineering; 2015, 41, 1; 7-16
    1230-2325
    2300-8377
    Pojawia się w:
    Metallurgy and Foundry Engineering
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-4 z 4

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies