Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Łukasiak, P." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Charge-pumping characterization of FILOX vertical MOSFETs
Autorzy:
Głuszko, G.
Łukasiak, L.
Ashburn, P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308623.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
charge-pumping
FILOX
interface traps
MOSFET
vertical MOSFET
Opis:
This paper presents for the first time the results of charge-pumping (CP) measurements of FILOX vertical transistors. The aim of these measurements is to provide information on the density of interface traps at the Si-SiO2 interface fabricated in a non-standard process. Flat-band and threshold voltage, as well as density of interface traps are determined. Good agreement between threshold-voltage values obtained from CP and I-V measurements is observed.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 73-77
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Charge-pumping characterization of SOI devices fabricated by means of wafer bonding over pre-patterned cavities
Autorzy:
Głuszko, G.
Łukasiak, L.
Kilchytska, V.
Chung, T. M.
Olbrechts, B.
Flandrie, D.
Raskin, J. P.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/308669.pdf
Data publikacji:
2007
Wydawca:
Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
Tematy:
charge-pumping
electrical characterization
interface traps
SOI
water bonding
Si layer transfer
Opis:
The quality of the silicon-buried oxide bonded interface of SOI devices created by thin Si film transfer and bonding over pre-patterned cavities, aiming at fabrication of DG and SON MOSFETs, is studied by means of chargepumping (CP) measurements. It is demonstrated that thanks to the chemical activation step, the quality of the bonded interface is remarkably good. Good agreement between values of front-interface threshold voltage determined from CP and I-V measurements is obtained.
Źródło:
Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 3; 61-66
1509-4553
1899-8852
Pojawia się w:
Journal of Telecommunications and Information Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies