Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Wachnicki, L." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-5 z 5
    Tytuł:
    ZnO dla fotowoltaiki
    ZnO for Photovoltaics
    Autorzy:
    Godlewski, M.
    Łuka, G.
    Pietruszka, R.
    Wachnicki, Ł.
    Witkowski, B.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/159146.pdf
    Data publikacji:
    2014
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Elektrotechniki
    Tematy:
    fotowoltaika
    tlenek cynku
    photovoltaics
    zinc oxide
    Opis:
    Mimo znaczącej redukcji kosztów paneli fotowoltaicznych (PV), cena energii wytwarzanej przez baterie słoneczne ciągle jest za wysoka. Możliwe są dwie strategie rozwiązania tej sytuacji – (a) podniesienie wydajności konwersji światła w komórkach fotowoltaicznych lub/i (b) obniżenie kosztów paneli PV poprzez zastosowanie tańszych materiałów lub technologii. W referacie omówione są prace mające na celu: (a) zastąpienie zbyt drogiego ITO warstwami ZnO o przewodnictwie metalicznym, (b) uproszczenie konstrukcji komórek PV oraz (c) znalezienie alternatywnych materiałów.
    Despite of a large reductions of costs energy produced by solar panels is still too expensive. There are two approaches to change this situation: by (a) increase of device output and/or (b) reduction of device costs by use of cheaper alternative materials. In this article we discuss the latter approach – (a) replacement of ITO by ZnO with metallic conductivity, (b) change of device architecture, and (c) use of alternative materials.
    Źródło:
    Prace Instytutu Elektrotechniki; 2014, 264; 5-13
    0032-6216
    Pojawia się w:
    Prace Instytutu Elektrotechniki
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Barriers in Miniaturization of Electronic Devices and the Ways to Overcome Them - from a Planar to 3D Device Architecture
    Autorzy:
    Godlewski, M.
    Guziewicz, E.
    Gierałtowska, S.
    Łuka, G.
    Krajewski, T.
    Wachnicki, Ł.
    Kopalko, K.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1807598.pdf
    Data publikacji:
    2009-12
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    85.35.-p
    73.40.Lq
    73.40.Qv
    81.05.Dz
    81.15.-z
    Opis:
    We witness a new revolution in electronic industry - a new generation of integrated circuits uses as a gate isolator $HfO_{2}$. This high-k oxide was deposited by the atomic layer deposition technique. The atomic layer deposition, due to a high conformality of deposited films and low growth temperature, has a large potential to be widely used not only for the deposition of high-k oxides, but also of materials used in solar cells and semiconductor/organic material hybrid structures. This opens possibilities of construction of novel memory devices with 3D architecture, photovoltaic panels of the third generation and stable in time organic light emitting diodes as discussed in this work.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2009, 116, S; S-19-S-21
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Hybrid Organic/ZnO p-n Junctions, with n-Type ZnO, Grown by Atomic Layer Deposition
    Autorzy:
    Łuka, G.
    Krajewski, T.
    Szczerbakow, A.
    Łusakowska, E.
    Kopalko, K.
    Guziewicz, E.
    Wachnicki, Ł.
    Szczepanik, A.
    Godlewski, M.
    Fidelus, J.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1811956.pdf
    Data publikacji:
    2008-11
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    68.55.J-
    73.40.Lq
    81.05.Lg
    Opis:
    We report on fabrication of hybrid inorganic-on-organic thin film structures with polycrystalline zinc oxide films grown by atomic layer deposition technique. ZnO films were deposited on two kinds of thin organic films, i.e. pentacene and poly(dimethylosiloxane) elastomer with a carbon nanotube content (PDMS:CNT). Surface morphology as well as electrical measurements of the films and devices were analyzed. The current density versus voltage (I-V) characteristics of ITO/pentacene/ZnO/Au structure show a low-voltage switching phenomenon typical of organic memory elements. The I-V studies of ITO/PDMS:CNT/ZnO/Au structure indicate some charging effects in the system under applied voltages.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2008, 114, 5; 1229-1234
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    ZnO by ALD - Advantages of the Material Grown at Low Temperature
    Autorzy:
    Guziewicz, E.
    Godlewski, M.
    Krajewski, T.
    Wachnicki, Ł.
    Łuka, G.
    Paszkowicz, W.
    Domagała, J.
    Przeździecka, E.
    Łusakowska, E.
    Witkowski, B.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1791286.pdf
    Data publikacji:
    2009-11
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    73.61.Ga
    78.66.Hf
    72.80.Ey
    Opis:
    The 3D-architecture is a prospective way in miniaturization of electronic devices. However, this approach can be realized only if metal paths are placed not only at the top, but also beneath the electronic parts, which imposes drastic temperature limitations for the electronic device processing. Therefore last years a lot of investigations are focused on materials which can be grown at low temperature with electrical parameters appropriate for electronic applications. Zinc oxide grown by the atomic layer deposition method is one of the materials of choice. We obtained ZnO-ALD films at growth temperature range between 100°C and 200°C, and with controllable electrical parameters. Free carrier concentration was found to scale with deposition temperature, so it is possible to grow ZnO films with desired conductivity without any intentional doping. We used correlation of electrical and optical parameters to optimize the deposition process. Zinc oxide layers obtained in that way have free carrier concentration as low as $10^{16} cm^{-3}$ and high mobility ($10-50 cm^{2}$/(Vs)), which satisfies requirements for a material used in three-dimensional memories.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2009, 116, 5; 814-817
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Properties and Characterization of ALD Grown Dielectric Oxides for MIS Structures
    Autorzy:
    Gierałtowska, S.
    Sztenkiel, D.
    Guziewicz, E.
    Godlewski, M.
    Łuka, G.
    Witkowski, B. S.
    Wachnicki, Ł.
    Łusakowska, E.
    Dietl, T.
    Sawicki, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2048118.pdf
    Data publikacji:
    2011-05
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Instytut Fizyki PAN
    Tematy:
    81.15.Gh
    77.55.-g
    77.84.Bw
    81.05.Ea
    Opis:
    We report on an extensive structural and electrical characterization of undergate dielectric oxide insulators Al$\text{}_{2}$O$\text{}_{3}$ and HfO$\text{}_{2}$ grown by atomic layer deposition. We elaborate the atomic layer deposition growth window for these oxides, finding that the 40-100 nm thick layers of both oxides exhibit fine surface flatness and required amorphous structure. These layers constitute a base for further metallic gate evaporation to complete the metal-insulator-semiconductor structure. Our best devices survive energizing up to ≈ 3 MV/cm at 77 K with the leakage current staying below the state-of-the-art level of 1 nA. At these conditions the displaced charge corresponds to a change of the sheet carrier density of 3 × 10$\text{}^{13}$ cm$\text{}^{-2}$, which promises an effective modulation of the micromagnetic properties in diluted ferromagnetic semiconductors.
    Źródło:
    Acta Physica Polonica A; 2011, 119, 5; 692-695
    0587-4246
    1898-794X
    Pojawia się w:
    Acta Physica Polonica A
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-5 z 5

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies