Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "oxidation process" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-4 z 4
Tytuł:
Integration of advanced oxidation process with nanofiltration for dairy effluent treatment
Autorzy:
Stanisławek, E.
Kowalik-Klimczak, A.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/115501.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Fundacja na Rzecz Młodych Naukowców
Tematy:
advanced oxidation process
dairy effluent treatment
Fenton reaction
nanofiltration
zaawansowany proces utleniania
oczyszczanie ścieków mlecznych
reakcja Fentona
nanofiltracja
Opis:
The paper presents the research results on the possibility of the integration of advanced oxidation process (AOP) involving Fenton reaction with nanofiltration (NF) for dairy effluent treatment. It has been found that Fenton oxidation reduces organic compounds, total phosphorus and total nitrogen. However, NF enables high ions retention derived from both effluent and Fenton oxidation components. As a result, it was possible to obtain water, which, without any harmful effects, could be discharged into environment. This water also fulfilled most of the requirements to be reused in dairy industrial plant.
Źródło:
Challenges of Modern Technology; 2017, 8, 2; 3-6
2082-2863
2353-4419
Pojawia się w:
Challenges of Modern Technology
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Novel Bleaching of Linen Fabrics Using Ultraviolet Irradiation
Nowy sposób bielenia tkanin lnianych z zastosowaniem napromieniowania UV
Autorzy:
Perincek, S
Duran, K.
Korlu, A. E.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/232001.pdf
Data publikacji:
2015
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Biopolimerów i Włókien Chemicznych
Tematy:
advanced oxidation process
bleaching
finishing
H2O2/UV
linen
ultraviolet radiation
zaawansowany proces utleniania
bielenie
wykańczanie
len
promieniowanie ultrafioletowe
Opis:
The bleaching of greige linen woven fabric using ultraviolet irradiation on hydrogen peroxide impregnated samples was studied. The effect of a photoinitiator, sodium hydroxide, sodium peroxydisulphate for hydrogen peroxide, the irradiation time and distance between the fabric and ultraviolet light lamp on the samples’ whiteness, lightness, weight loss, moisture sorption and wettability properties was investigated. The UV/H2O2 bleaching process was optimised with the aid of Box-Behnken experimental design and three optimum recipes were achieved. As a result of the study, a novel bleaching process using ultraviolet irradiation and hydrogen peroxide for greige linen woven fabric was developed which saves on energy and time.
Badano bielenie tkanin lnianych impregnowanych nadtlenkiem wodoru z zastosowaniem promieniowania ultrafioletowego. Badano wpływ fotoinicjatora, wodorotlenku sodu, nadsiarczanu sodu, nadtlenku wodoru, czasu naświetlania i odległości pomiędzy tkaniną a lampą UV na stopień bieli, jasność, utratę masy, sorpcję wilgoci i właściwości zwilżające. Proces bielenia UV/H2O2 zoptymalizowano przy pomocy metody Box-Behnkena. Uzyskano trzy optymalne receptury. W wyniku badań opracowano nowy proces bielenia tkanin lnianych, który pozwala na oszczędność energii i czasu.
Źródło:
Fibres & Textiles in Eastern Europe; 2015, 2 (110); 107-115
1230-3666
2300-7354
Pojawia się w:
Fibres & Textiles in Eastern Europe
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Removal of organic compounds from wastewater originating from the production of printed circuit boards by UV-Fenton method
Usuwanie związków organicznych ze ścieków pochodzących z produkcji obwodów drukowanych metodą UV-Fentona
Autorzy:
Thomas, M.
Białecka, B.
Zdebik, D.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/204873.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
advanced oxidation process
response surface methodology
printed circuits board
wastewater
UV-Fenton
zaawansowany proces utleniania
metodologia powierzchni odpowiedzi
płyta z obwodami drukowanymi
ścieki
Opis:
The possibility of removing organic compounds from wastewater originating from the photochemical production of printed circuit boards by use of waste acidification and disposal of precipitated photopolymer in the first stage and the UV-Fenton method in a second stage has been presented. To optimize the process of advanced oxidation, the RSM (Response Surface Methodology) for three independent factors was applied, i.e. pH, the concentration of Fe(II) and H2O2 concentration. The use of optimized values of individual parameters in the process of wastewater treatment caused a decrease in the concentration of the organic compounds denoted as COD by approx. 87% in the first stage and approx. 98% after application of both processes. Precipitation and the decomposition of organic compounds was associated with a decrease of wastewater COD to below 100 mg O2/L whereas the initial value was 5550 mg O2/L. Decomposition of organic compounds and verification of the developed model of photopolymers removal was also carried out with use of alternative H2O2 sources i.e. CaO2, MgO2, and Na2CO3·1,5H2O2.
Przedstawiono możliwość usuwania związków organicznych ze ścieków pochodzących z fotochemicznej produkcji obwodów drukowanych przez zastosowanie w pierwszym etapie zakwaszania ścieków i usuwaniem wytrąconego fotopolimeru, a w drugim etapie metody UV-Fentona. Do optymalizacji procesu pogłębionego utleniania zastosowano metodę powierzchni odpowiedzi dla trzech czynników niezależnych, tj.: pH, stężenia Fe(II) oraz stężenia H2O2. Zastosowanie zoptymalizowanych wartości poszczególnych parametrów w procesie oczyszczania ścieków spowodowało zmniejszenie stężania związków organicznych oznaczanych jako COD o ok. 87% w pierwszym etapie oraz ok. 98% po zastosowaniu obu procesów. Wytrącanie oraz rozkład związków organicznych związane były ze zmniejszeniem się COD ścieków do poniżej 100 mg O2/L, przy początkowej wartości wynoszącej 5550 mg O2/L. Rozkład związków organicznych oraz weryfi kację opracowanego modelu procesu usuwania fotopolimerów przeprowadzono także z zastosowaniem alternatywnych źródeł H2O2, tj.: CaO2, MgO2, i Na2CO3·1,5H2O2.
Źródło:
Archives of Environmental Protection; 2017, 43, 4; 39-49
2083-4772
2083-4810
Pojawia się w:
Archives of Environmental Protection
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Removal efficiency of anionic surfactants from water during UVC photolysis and advanced oxidation process in H2O2/UVC system
Efektywność usuwania surfaktantów anionowych z wody przy zastosowaniu promieniowania UVC i zaawansowanego utleniania w układzie H2O2/UVC
Autorzy:
Ríos, F.
Olak-Kucharczyk, M.
Gmurek, M.
Ledakowicz, S.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/204800.pdf
Data publikacji:
2017
Wydawca:
Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
Tematy:
advanced oxidation process
anionic surfactants
ether carboxylic derivate
H2O2/UVC system
linear alkyl benzene sulfonate
UVC photolysis
surfakanty
degradacja surfakantów
zaawansowany proces utleniania
anionowe środki powierzchniowo czynne
eter karboksylowy
system H2O2 / UVC
fotoliza
Opis:
Surfactants after their use are discharged into aquatic ecosystems. These compounds may be harmful to fauna and flora in surface waters or can be toxic for microorganisms of the activated sludge or biofilm in WWTP. In order to determine effectiveness of different advanced oxidation processes on the degradation of surfactants, in this study the degradation of anionic surfactants in aqueous solution using photolysis by 254 nm irradiation and by advanced oxidation process in a H2O2/UVC system was investigated. Two representatives of anionic surfactants, linear alkyl benzene sulphonate (LAS-R11-14) and ether carboxylic derivate (EC-R12-14E10) were tested. The influence of pH, initial surfactant concentration and dose of hydrogen peroxide on the degradation was also studied. Results show outstanding effectiveness of the H2O2/UVC system in the removal of surfactant from aqueous solutions.
Surfaktanty, podobnie jak większość tego typu substancji chemicznych, po wykorzystaniu trafi ają do środowiska wodnego. Związki te mogą stwarzać zagrożenie dla fl ory i fauny zasiedlającej wody powierzchniowe, jak również mogą działać toksycznie na mikroorganizmy znajdujące się w osadzie czynnym w oczyszczalniach ścieków. W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań degradacji wybranych surfaktantów anionowych w środowisku wodnym przy zastosowaniu promieniowania UVC i zaawansowanego utleniania w układzie H2O2/UVC. Zbadano wpływ następujących parametrów reakcyjnych: odczyn środowiska reakcyjnego, początkowego stężenia obiektów badań i nadtlenku wodoru na szybkość degradacji surfaktantów. Uzyskane w toku prac badawczych wyniki potwierdzają wysoką skuteczność zaawansowanego utleniania w układzie H2O2/UVC w usuwaniu badanych surfaktantów ze środowiska wodnego, które jest procesem znacznie efektywniejszym w porównaniu do procesu fotolizy. Unauthenticated
Źródło:
Archives of Environmental Protection; 2017, 43, 1; 20-26
2083-4772
2083-4810
Pojawia się w:
Archives of Environmental Protection
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-4 z 4

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies