Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Domaradzki, J." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Photocatalytic properties of Ti–V oxides thin films
    Autorzy:
    Domaradzki, J
    Mazur, M
    Sieradzka, K
    Wojcieszak, D
    Adamiak, B
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/174210.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    titanium dioxide (TiO2)
    thin films
    magnetron sputtering
    vanadium
    photocatalysis
    Opis:
    In this work, the photocatalytic properties of Ti–V oxides thin films with 19 and 23 at.% of vanadium addition have been outlined. The films were deposited by the high energy reactive magnetron sputtering method. X-ray photoelectron spectroscopy measurements were done in order to determine the chemical composition and binding energy of the elements on the samples surface. Additionally, based on wettability measurements, the water contact angles were evaluated and were equal to ca. 94° and 55° for thin films with 19 and 23 at.% of V, respectively. This testifies about hydrophilic and hydrophobic properties, respectively. Photoactivity of thin films was determined by percent decomposition of phenol for 5 hours during UV–vis radiation exposure. The highest photocatalytic activity of 6.2%/cm2 was obtained for thin films with 19 at.% of V. It has been found that an increase in V amount in Ti–V oxides thin films to 23 at.% results in lowered to 3%/cm2 photocatalytic activity.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2013, 43, 1; 153-162
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering
    Badanie właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw TiO2:(Eu, Pd) wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Kaczmarek, D.
    Domaradzki, J.
    Prociow, E. L.
    Wojcieszak, D.
    Michalec, B.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192413.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    TiO2
    cienkie warstwy
    warstwa cienka
    rozpylanie magnetronowe
    thin films
    magnetron sputteing
    Opis:
    In this study the results on TiO2 thin films doped with europium and palladium at the amount of 0.9 at. % and 5.8 at. % respectively have been presented. For thin films deposition the high energy (HE) magnetron sputtering method was used. Some samples were subjected to the post-processed annealing. X-Ray Diffraction (XRD) results have shown that after deposition nanocrystalline TiO2 - rutile structure was obtained. After additional annealing at 800°C average crystallites sizes increased about twofold (from 9 to 16 nm). The XRD results were confirmed using atomic force microscope. Optical properties of thin films were examined using optical transmission method. They have shown that doping with Eu and Pd has decreased the transmission level by about 15% and shifted absorption edge to the longer wavelength range (from 330 to 450 nm) compared to pure TiO2. The width of optical bandgap of TiO2:(Eu, Pd) thin film decreased to ca. 1.7 eV, i.e. twofold, when compared to 3.35 eV of undoped-TiO2. The photoluminescence results have shown that examined thin film has strong red luminescence from standard Eu3+ emission lines.
    W pracy przedstawiono wyniki badań cienkich warstw TiO2 domieszkowanych europem i palladem, w ilości odpowiednio 0,9 % at. i 5,8 % at. Do nanoszenia cienkich warstw zastosowano wysokoenergetyczny proces (High Energy) rozpylania magnetronowego. Wybrane próbki poddano dodatkowemu poprocesowemu wygrzewaniu. Wyniki dyfrakcji rentgenowskiej (X-Ray Difrraction - XRD) wykazały, że bezpośrednio po naniesieniu otrzymano nanokrystaliczną warstwę TiO2 o strukturze rutylu. Po dodatkowym wygrzewaniu w temperaturze 800°C średnia wielkość krystalitów wzrosła około dwukrotnie (z 9 do 16 nm). Wyniki badań XRD zostały potwierdzone za pomocą badań wykonanych za pomocą mikroskopu sił atomowych. Właściwości optyczne cienkich warstw określono na podstawie wyników badań metodą transmisji światła. Uzyskane wyniki wykazały, że domieszkowanie Eu i Pd spowodowało spadek przezroczystości warstwy o ~ 15% i przesunięcie krawędzi absorpcji optycznej w stronę dłuższych fal (z 330 do 450 nm) w porównaniu do warstwy niedomieszkowanego TiO2. Szerokość optycznej przerwy zabronionej dla cienkiej warstwy TiO2:(Eu, Pd) po naniesieniu wynosiła 1,7 eV i była około dwukrotnie mniejsza w porównaniu do 3,35 eV dla warstwy TiO2. Wyniki badań foto-luminescencji pokazały, że badana warstwa wykazuje silną czerwoną luminescencję odpowiadającą standardowym linią emisyjnym Eu3+.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 3, 3; 117-127
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Influence of the structural and surface properties on photocatalytic activity of TiO2:Nd thin films
    Autorzy:
    Wojcieszak, D.
    Mazur, M.
    Kaczmarek, D.
    Morgiel, J.
    Poniedziałek, A.
    Domaradzki, J.
    Czeczot, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/779688.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie. Wydawnictwo Uczelniane ZUT w Szczecinie
    Tematy:
    TiO2
    neodymium
    thin films
    magnetron sputtering
    photocatalysis
    phenol decomposition
    Opis:
    Titanium dioxide thin films doped with the same amount of neodymium were prepared using two different magnetron sputtering methods. Thin films of anatase structure were deposited with the aid of Low Pressure Hot Target Magnetron Sputtering, while rutile coatings were manufactured using High Energy Reactive Magnetron Sputtering process. The thin films composition was determined by energy dispersive spectroscopy and the amount of the dopant was equal to 1 at. %. Structural properties were evaluated using transmission electron microscopy and revealed that anatase films had fibrous structure, while rutile had densely packed columnar structure. Atomic force microscopy investigations showed that the surface of both films was homogenous and consisted of nanocrystalline grains. Photocatalytic activity was assessed based on the phenol decomposition. Results showed that both thin films were photocatalytically active, however coating with anatase phase decomposed higher amount of phenol. The transparency of both thin films was high and equal to ca. 80% in the visible wavelength range. The photoluminescence intensity was much higher in case of the coating with rutile structure.
    Źródło:
    Polish Journal of Chemical Technology; 2015, 17, 2; 103-111
    1509-8117
    1899-4741
    Pojawia się w:
    Polish Journal of Chemical Technology
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies