Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Szindler, M. M." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    The optical parameters of TiO2 antireflection coating prepared by atomic layer deposition method for photovoltaic application
    Autorzy:
    Szindler, Marek
    Szindler, Magdalena M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/1835965.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    atomic layer deposition
    titanium dioxide
    Opis:
    Titanium dioxide thin films have been deposited on silicon wafers substrates by an atomic layer deposition (ALD) method. There optical parameters were investigated by spectroscopic ellipsometry and UV/VIS spectroscopy. A material with a refractive index of 2.41 was obtained. Additionally, in a wide spectral range it was possible to reduce the reflection from the silicon surface below 5%. The Raman spectroscopy method was used for structural characterization of anatase TiO2 thin films. Their uniformity and chemical composition are confirmed by a scanning electron microscope (SEM) energy dispersive spectrometer (EDS).
    Źródło:
    Optica Applicata; 2020, 50, 4; 663-670
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Titanium dioxide nanoparticles and thin films deposited by an atomization method
    Autorzy:
    Machalska, G.
    Noworolnik, M.
    Szindler, M.
    Sitek, W.
    Babilas, R.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/379058.pdf
    Data publikacji:
    2019
    Wydawca:
    Stowarzyszenie Komputerowej Nauki o Materiałach i Inżynierii Powierzchni w Gliwicach
    Tematy:
    sol-gel
    nanoparticles
    thin film
    titanium dioxide
    atomization
    zol-żel
    nanocząsteczki
    cienka powłoka
    dwutlenek tytanu
    atomizacja
    Opis:
    Purpose: The article presents the results of research on titanium dioxide synthesized by a sol-gel method that is an easy process enabling the control of the shape and size of particles The purpose of this article is to examine titanium dioxide nanoparticles and thin films deposited by an atomization method. Design/methodology/approach: Titanium dioxide sol was synthesized by using titanium isopropoxide as a precursor. Optical properties were measured by a UV-Vis spectrometer. Structural studies were performed by Raman spectroscopy. Qualitative analysis was performed by the EDS. Surface morphology of nanoparticles and thin films was performed by the SEM technique. Findings: The sol-gel method allows the formation of uniform nanoparticles and thin films of titanium dioxide. The atomization method is a successful method for the deposition of sol to the surface of substrates. Research limitations/implications: The next step in the research will be to investigate the obtained thin films in dye-sensitized solar cells as a semiconductive layer. Practical implications: Unique properties of produced titanium dioxide nanostructural materials have caused the interest in them in such fields as optoelectronics, photovoltaics, medicine and decorative coatings. Originality/value: Titanium dioxide thin films and nanoparticles were synthesized using the sol-gel method and then deposited by the atomization method.
    Źródło:
    Archives of Materials Science and Engineering; 2019, 100, 1/2; 34-41
    1897-2764
    Pojawia się w:
    Archives of Materials Science and Engineering
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films
    Autorzy:
    Dobrzanski, L. A.
    Szindler, M.
    Hajduk, B.
    Kotowicz, S.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/173801.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
    Tematy:
    thin film
    aluminum oxide
    atomic layer deposition
    Opis:
    This paper presents some results of investigations on aluminum oxide Al2O3 thin films prepared by the atomic layer deposition method on polished monocrystalline silicon. It has been described how the technological parameters of the deposition process, like the number of cycles and substrate temperature, influenced the optical properties and morphology of prepared thin films. Their physical and optical properties like thickness, uniformity and refractive index have been investigated with spectroscopic ellipsometry, atomic force microscopy and UV/vis optical spectroscopy.
    Źródło:
    Optica Applicata; 2015, 45, 4; 573-583
    0078-5466
    1899-7015
    Pojawia się w:
    Optica Applicata
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies