Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Wroczyński." wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-2 z 2
    Tytuł:
    Raman modular system with fibre-optic probes for remote monitoring of CVD process
    Modułowy system ramanowski z sondami światłowodowymi do zdalnego monitorowania procesów CVD
    Autorzy:
    Gnyba, M.
    Bogdanowicz, R.
    Wroczyński, P.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/256741.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    spektroskopia ramanowska
    monitoring in-situ
    sonda światłowodowa
    CVD
    cienka warstwa diamentowa
    Raman spectroscopy
    in-situ monitoring
    fibre-optic probe
    chemical vapour deposition
    diamond thin film
    Opis:
    Dedicated Raman system was designed for in-situ monitoring of thin film growth in CVD (chemical vapour deposition) process. Review of monitoring requirements and limiting factors is given in this paper. Computer simulation of laser beam propagation in the CVD chamber and the thin film was carried out. Components for Raman optical probes and their configuration were selected using results of the modelling. Ex-situ investigation of the thin films enabled determination of the Raman scattering intensity. The prototype of the modular Raman system using fibre-optic probes was built. Efficiency of optical signal transmission through the probes was tested.
    W artykule przedstawiono projekt systemu ramanowskiego do monitorowania in-situ wzrostu cienkich warstw w procesie CVD i analizę związanych z tym problemów metrologicznych. Na podstawie wyników modelowania komputerowego wprowadzania wiązki laserowej do komory i jej propagacji w cienkiej warstwie wytypowano optymalną konfigurację optyczną systemu ramanowskiego i określono parametry optyczne jego elementów. Zbudowano prototyp modułowego wyposażonego w sondy światłowodowe. Wykonano pomiary wstępne obejmujące badania ex-situ generacji sygnału ramanowskiego w wybranych materiałach oraz testy sondy nadawczej na stole optycznym.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 115-127
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD
    Optoelectronic system for control of ΜPA CVD processes
    Autorzy:
    Bogdanowicz, R.
    Gnyba, M.
    Wroczyński, P.
    Leśniewski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/153808.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
    Tematy:
    spektroskopia emisyjna
    spektroskopia ramanowska
    CVD
    diagnostyka optyczna in-situ
    warstwy diamentopodobne
    optical emission spectroscopy
    Raman spectroscopy
    in situ optical diagnostics
    diamond-like carbon films
    Opis:
    Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
    Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process.
    Źródło:
    Pomiary Automatyka Kontrola; 2008, R. 54, nr 3, 3; 87-90
    0032-4140
    Pojawia się w:
    Pomiary Automatyka Kontrola
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-2 z 2

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies