Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "silicon solar cell" wg kryterium: Temat


Wyświetlanie 1-3 z 3
Tytuł:
Temperature Effect on Performance of Different Solar Cell Technologies
Autorzy:
Adeeb, Jehad
Farhan, Alaa
Al-Salaymeh, Ahmed
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/124356.pdf
Data publikacji:
2019
Wydawca:
Polskie Towarzystwo Inżynierii Ekologicznej
Tematy:
solar cell
photovoltaics
temperature effect
multicrystalline silicon solar cell
amorphous silicon solar cell
monocrystalline
Opis:
One of the main parameters that affect the solar cell performance is cell temperature; the solar cell output decreases with the increase of temperature. Therefore, it is important to select the proper solar cell technology that performs better at a specified location considering its average temperatures. In addition, the solar cell performance is directly reflected on the overall economics of the project. This paper is proposed to evaluate the variations in the performance of different solar cell technologies related to the temperature in Amman, Jordan. Field data of weather station and three PV systems (Poly-crystalline, Mono-crystalline and Thin-film) of identical design parameters were collected from Test Field Project at Applied Science Private University, Shafa Badran, Amman, Jordan. These data were analysed in the following way. estimated specific energy yield (kWh/kWp) for the three different PV systems was calculated depending on the measured value of solar irradiance and technical specifications of the installed solar panels and inverters, then the actual energy yield at different temperatures over one year was compared with the estimated value, so the deviations could be determined and actual temperature coefficients for energy yield could be calculated, knowing that the three PV Systems have identical design parameters (tilt angle, azimuth angle, type and dimensions of mounting structure and inverter size) and same cleaning method and schedule. It was found that the thin-film solar panels are less affected by temperature with temperature coefficient of -0.0984%, and -0.109%, -0.124% for Mono-crystalline and Poly-crystalline respectively. These results can be implemented in the preliminary design steps, specifically in the selection of the solar cell technology to be installed in a specific location.
Źródło:
Journal of Ecological Engineering; 2019, 20, 5; 249-254
2299-8993
Pojawia się w:
Journal of Ecological Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Research on new process for separation of silicon wafers and glass from decommissioned photovoltaic module
Autorzy:
Zhang, Jian wen
Wang, Hai dong
Zhang, Sheng guang
Liang, Han
Guo, Hui
Tao, Si-yao
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/2175425.pdf
Data publikacji:
2022
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
crystalline silicon photovoltaic modules
decommissioned photovoltaic modules
silicon
solar cell
tempered glass
vibration separation
Opis:
In view of the disadvantages of the existing electrostatic separation process of decommissioned photovoltaic modules, which can only achieve the separation of fine silicon wafers and glass and has high energy consumption, a new process to solve the efficient dry separation of coarse silicon wafers and glass in decommissioned photovoltaic modules is proposed- the vibration separation method. Based on the theoretical analysis of the vibration separation of flaky silicon wafer and polyhedral glass particles, the effects of feed size, feed amount, vibration voltage, vibration frequency, horizontal inclination angle and longitudinal inclination angle on the product indexes of wafer and glass separation were investigated by single factor experiment. The optimal experimental conditions were obtained as follows: feed particle size +0.83mm, feed amount 0.15 t/h, vibration voltage 190 V, vibration frequency 48 Hz, horizontal inclination Angle 8°, longitudinal inclination Angle 3°. Under this optimized condition, the content of metal Si in the obtained silicon wafer product is 84.47%, the recovery rate of is 83.73%, the content of impurity SiO2 is 1.09%, and the content of SiO2 in the obtained glass product is 65.69%, and the recovery rate is 98.95%, the impurity metal Si content is 0.56%. This study provides a research idea for the industrial separation of silicon wafers and glass from decommissioned photovoltaic modules.
Źródło:
Physicochemical Problems of Mineral Processing; 2022, 58, 6; art. no. 151679
1643-1049
2084-4735
Pojawia się w:
Physicochemical Problems of Mineral Processing
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Krzemowe warstwy epitaksjalne do zastosowań fotowoltaicznych osadzane na krzemie porowatym
Silicon epitaxial layers deposited on porous silicon for photovoltaic applications
Autorzy:
Lipiński, D.
Sarnecki, J.
Brzozowski, A.
Mazur, K.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/192080.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Tematy:
warstwa epitaksjalna
CVD
krzem porowaty
ogniwo słoneczne
epitaxial layer
porous silicon
solar cell
Opis:
Ustalono warunki wytwarzania warstw o odpowiedniej porowatości zapewniającej osadzanie w procesie epitaksji z fazy gazowej warstw krzemowych o grubości powyżej 50 μm. W zależności od rezystywności płytek krzemowych typu p+ o orientacji <111> oraz <100> określono związek między gęstością prądu trawienia elektrochemicznego, a porowatością wytworzonych warstw porowatych. Otrzymano warstwy porowate z porowatością w zakresie 5 % - 70 %. Ustalono parametry procesu epitaksji i osadzono krzemowe warstwy epitaksjalne o wysokiej perfekcji strukturalnej i zakładanych parametrach elektrycznych.
The conditions for producing layers with proper porosity that allows epitaxial growth of Si layers with the thickness of about 50 μm have been established. The relationship between the layer porosity, current density and substrate resistivity has been determined. The layers with porosity in the range between 5 % and 70 % have been obtained. The parameters of the CVD process have been established. Epitaxial silicon layers of high structural perfection and required electrical parameters have been obtained, which has been confirmed by the XRD and SR measurements as well as SEM observations.
Źródło:
Materiały Elektroniczne; 2012, T. 40, nr 3, 3; 28-37
0209-0058
Pojawia się w:
Materiały Elektroniczne
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-3 z 3

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies