Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "silicon dioxide" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Concept of health surveillance programme for workers exposed to respirable crystalline silica at present and in the past
    Autorzy:
    Nowak-Pasternak, Joanna
    Świątkowska, Beata
    Lipińska-Ojrzanowska, Agnieszka
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/23388842.pdf
    Data publikacji:
    2023-11-14
    Wydawca:
    Instytut Medycyny Pracy im. prof. dra Jerzego Nofera w Łodzi
    Tematy:
    epidemiology
    silicosis
    lung diseases
    occupational diseases
    prevention and control
    silicon dioxide
    Opis:
    In the paper authors present general assumptions of health surveillance programme concept for workers employed in respirable crystalline silica (RCS) exposure at present and in the past. There is no effective treatment for silicosis thus disease prevention is of paramount significance. For decades efforts of World Health Organization (WHO) and International Work Organization (ILO) have been focused on eliminating silicosis globally. Unfortunately silicosis is still one of the most lethal occupational diseases and the preventative programmes have not yet been successful. The authors identify main steps to complete an overview of RCS exposure and suggest lines of actions to be taken before launching the health surveillance programme. Introduction of the health surveillance programme would increase awareness of harmful health effects of the RCS exposure, emphasize the significance of preventive medical check-ups and early diagnostics of occupational diseases as well as the importance of using appropriate protective equipment. The programme development on a national level might be carried out with the cooperation of multiple backgrounds and institutions. This would allow for detailed planning, implementation, monitoring and effective evaluation of its results. Having a better and updated knowledge of silicosis epidemiology, early diagnostics, the possible sources of RCS occupational exposure and evaluation of undertaken preventive actions are crucial factors in disease prevention. The programme introduction would be of educational significance for all the stakeholders and the groups engaged in the project implementation, which would contribute to high effectiveness of the preventive activities and their improvement in the future.
    Źródło:
    Medycyna Pracy. Workers’ Health and Safety; 2023, 74, 4; 341-346
    0465-5893
    2353-1339
    Pojawia się w:
    Medycyna Pracy. Workers’ Health and Safety
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Potencjalne narażenie na nanocząstki ditlenku krzemu podczas rozpylania preparatu do zabezpieczenia lakieru samochodowego
    Potential exposure to nanoparticles during spraying of preparation for protecting car varnish
    Autorzy:
    Jankowska, E.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/181239.pdf
    Data publikacji:
    2013
    Wydawca:
    Centralny Instytut Ochrony Pracy
    Tematy:
    nanocząstki
    ditlenek krzemu
    narażenie zawodowe
    wentylacje
    nanoparticles
    silicon dioxide
    occupational exposure
    ventilation
    Opis:
    W artykule przedstawione zostały wyniki badania potencjalnego narażenia na nanocząstki ditlenku krzemu podczas rozpylania komercyjnie dostępnego preparatu Profilne Nano Paint Protect (PNPP). Preparat ten jest przeznaczony do zabezpieczania lakieru samochodowego i może być stosowany zarówno w zakładach usługowych, jak również przez użytkowników prywatnych Podstawą oceny potencjalnego narażenia na nanocząstki ditlenku krzemu były wyniki badań zmienności stężeń i rozkładów wymiarowych cząstek o wymiarach - od nanometrowych (10 nm) do mikrometrowych (10 µm) - czyli cząstek, które są z reguły wdychane przez człowieka. Stwierdzono, że podczas 10-sekundowego rozpylania preparatu w odległości 52 cm od powierzchni, na którą rozpylano preparat, występują znaczne wzrosty stężeń emitowanych cząstek.
    Potential exposure to nanoparticles during spraying of preparation for protecting car varnish The article presents results of investigation of potential exposure to silicon dioxide nanoparticles during spraying; of Commercially available preparation Profiline Nano Paint Protect (PNPP) This preparation is intended for protecting car varnish and can be applied both in repair shops as well as by private users. The base of assessing of potential exposure to silicon dioxide nanoparticles were results of investigation of changes of concentrations and size distributions of particles m the wide range- from nanometer-size (10 nm) to micrometer-size (10 µn) - it means particles which are usually inhaled by humans It was fined that during 10 seconds spraying of preparation in the distance of 52 cm from the surface, to which preparation was being sprayed, considerable increases of concentrations of emitted particles were obtained.
    Źródło:
    Bezpieczeństwo Pracy : nauka i praktyka; 2013, 11; 16-19
    0137-7043
    Pojawia się w:
    Bezpieczeństwo Pracy : nauka i praktyka
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Modeling of negative bias temperature instability
    Autorzy:
    Grasser, T.
    Selberherr, S.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/308767.pdf
    Data publikacji:
    2007
    Wydawca:
    Instytut Łączności - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    reliability
    negative bias temperature instability
    modeling
    simulation
    hydrogen
    silicon dioxide
    defects
    interface states
    semiconductor device equations
    Opis:
    Negative bias temperature instability is regarded as one of the most important reliability concerns of highly scaled PMOS transistors. As a consequence of the continuous downscaling of semiconductor devices this issue has become even more important over the last couple of years due to the high electric fields in the oxide and the routine incorporation of nitrogen. During negative bias temperature stress a shift in important parameters of PMOS transistors, such as the threshold voltage, subthreshold slope, and mobility is observed. Modeling efforts date back to the reaction-diffusion model proposed by Jeppson and Svensson thirty years ago which has been continuously refined since then. Although the reaction-diffusion model is able to explain many experimentally observed characteristics, some microscopic details are still not well understood. Recently, various alternative explanations have been put forward, some of them extending, some of them contradicting the standard reaction-diffusion model. We review these explanations with a special focus on modeling issues.
    Źródło:
    Journal of Telecommunications and Information Technology; 2007, 2; 92-102
    1509-4553
    1899-8852
    Pojawia się w:
    Journal of Telecommunications and Information Technology
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies