Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "thin-films" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-6 z 6
    Tytuł:
    Study of structural and optical properties of TiO2:(Eu, Pd) thin films deposited by magnetron sputtering
    Badanie właściwości strukturalnych i optycznych cienkich warstw TiO2:(Eu, Pd) wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Kaczmarek, D.
    Domaradzki, J.
    Prociow, E. L.
    Wojcieszak, D.
    Michalec, B.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/192413.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
    Tematy:
    TiO2
    cienkie warstwy
    warstwa cienka
    rozpylanie magnetronowe
    thin films
    magnetron sputteing
    Opis:
    In this study the results on TiO2 thin films doped with europium and palladium at the amount of 0.9 at. % and 5.8 at. % respectively have been presented. For thin films deposition the high energy (HE) magnetron sputtering method was used. Some samples were subjected to the post-processed annealing. X-Ray Diffraction (XRD) results have shown that after deposition nanocrystalline TiO2 - rutile structure was obtained. After additional annealing at 800°C average crystallites sizes increased about twofold (from 9 to 16 nm). The XRD results were confirmed using atomic force microscope. Optical properties of thin films were examined using optical transmission method. They have shown that doping with Eu and Pd has decreased the transmission level by about 15% and shifted absorption edge to the longer wavelength range (from 330 to 450 nm) compared to pure TiO2. The width of optical bandgap of TiO2:(Eu, Pd) thin film decreased to ca. 1.7 eV, i.e. twofold, when compared to 3.35 eV of undoped-TiO2. The photoluminescence results have shown that examined thin film has strong red luminescence from standard Eu3+ emission lines.
    W pracy przedstawiono wyniki badań cienkich warstw TiO2 domieszkowanych europem i palladem, w ilości odpowiednio 0,9 % at. i 5,8 % at. Do nanoszenia cienkich warstw zastosowano wysokoenergetyczny proces (High Energy) rozpylania magnetronowego. Wybrane próbki poddano dodatkowemu poprocesowemu wygrzewaniu. Wyniki dyfrakcji rentgenowskiej (X-Ray Difrraction - XRD) wykazały, że bezpośrednio po naniesieniu otrzymano nanokrystaliczną warstwę TiO2 o strukturze rutylu. Po dodatkowym wygrzewaniu w temperaturze 800°C średnia wielkość krystalitów wzrosła około dwukrotnie (z 9 do 16 nm). Wyniki badań XRD zostały potwierdzone za pomocą badań wykonanych za pomocą mikroskopu sił atomowych. Właściwości optyczne cienkich warstw określono na podstawie wyników badań metodą transmisji światła. Uzyskane wyniki wykazały, że domieszkowanie Eu i Pd spowodowało spadek przezroczystości warstwy o ~ 15% i przesunięcie krawędzi absorpcji optycznej w stronę dłuższych fal (z 330 do 450 nm) w porównaniu do warstwy niedomieszkowanego TiO2. Szerokość optycznej przerwy zabronionej dla cienkiej warstwy TiO2:(Eu, Pd) po naniesieniu wynosiła 1,7 eV i była około dwukrotnie mniejsza w porównaniu do 3,35 eV dla warstwy TiO2. Wyniki badań foto-luminescencji pokazały, że badana warstwa wykazuje silną czerwoną luminescencję odpowiadającą standardowym linią emisyjnym Eu3+.
    Źródło:
    Materiały Elektroniczne; 2008, T. 36, nr 3, 3; 117-127
    0209-0058
    Pojawia się w:
    Materiały Elektroniczne
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Właściwości elektryczne i optyczne cienkich warstw WOx wytwarzanych metodą rozpylania magnetronowego i analiza ich współczynnika doskonałości
    Electrical and optical properties of the WOx thin films, prepared by magnetron sputtering, and analysis of their highest value
    Autorzy:
    Dybała, Julia
    Mazur, Michał
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2203160.pdf
    Data publikacji:
    2022
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    rozpylanie magnetronowe
    cienkie warstwy
    tlenek wolframu
    właściwości optyczne
    właściwości elektryczne
    magnetron sputtering
    thin films
    tungsten oxide
    optical properties
    electrical properties
    Opis:
    W artykule przeanalizowano właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu. Jest to materiał często stosowany między innymi w inteligentnych oknach, lustrach antyparowych i czujnikach gazów. zbadano pięć serii cienkich warstw tlenku wolframu, które zostały wytworzone w procesach rozpylania magnetronowego w atmosferze mieszaniny gazu roboczego (ar) oraz reaktywnego (O2) o różnej zawartości tlenu, tj. od 5% do 15%. Każdy z procesów przeprowadzany był przy tej samej wartości ciśnienia, odległości target - podłoże oraz w tym samym czasie. Grubość cienkich warstw zmierzona za pomocą profilometru optycznego wynosiła około 160 nm. zauważono, że wraz ze zwiększaniem się udziału gazu reaktywnego w procesie próbki zmieniały barwę od metalicznej, przez ciemnogranatową, po błękitną, jednocześnie stając się coraz bardziej przezroczyste. Pomiary właściwości elektrycznych wykonane za pomocą sondy czteroostrzowej, a także właściwości optycznych przeprowadzone z użyciem spektrofotometru wykazały, że zwiększanie udziału tlenu w procesie powodowało wzrost średniej transmisji światła w zakresie widzialnych długości fal oraz rezystywności cienkich warstw. W artykule przeanalizowano również współczynniki Figure of Merit określające jakość badanej próbki. Największą wartość współczynnika doskonałości otrzymano dla cienkiej warstwy tlenku wolframu, odznaczającej się stosunkowo dużą średnią transmisją światła w zakresie widzialnym przy niskiej wartości rezystywności. Przeprowadzone badania wykazały, że atmosfera gazowa podczas procesu rozpylania magnetronowego istotnie wpływa na właściwości optyczne i elektryczne cienkich warstw tlenku wolframu, co stwarza możliwość projektowania cienkowarstwowych powłok przeznaczonych do stosowania w transparentnej elektronice.
    In this article, optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, prepared by magnetron sputtering in the atmosphere of various oxygen content, were analysed. Tungsten oxide is a material, which is widely used in modern applications such as smart windows, antisteam mirrors, and gas sensors. Five sets of tungsten oxide thin films were deposited by magnetron sputtering in the mixed argon-oxygen atmosphere composed of various content of reactive gas, i.e., from 5% to 15%. In each case, other deposition process parameters were the same. The thickness of the thin films was ca. 160 nm and it was measured with the optical profilometer. it was noticed that along with the increase in the proportion of reactive gas in the process, thin film samples changed their colour from metallic, through navy blue to blue and simultaneously they became increasingly transparent. Measurements of electrical properties, made using the four-point probe and optical properties, performed with the aid of a spectrophotometer showed that increasing the proportion of oxygen in the process increased the average transmission in the visible wavelength range and the resistivity of the prepared WOx thin films. in the article, the Figure of Merit (FoM) coefficients are also presented, which determine the quality of the thin film samples. it was shown that the highest value of the FoM was observed for WOx thin film characterised by a relatively high average transmission in the visible wavelength range and low value of resistivity. The performed measurements showed that the gas atmosphere during magnetron sputtering process leads to the tailoring of the optical and electrical properties of tungsten oxide thin films, which in turn makes it possible to design and apply such thin film coatings in transparent electronics.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 15--25
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Structural And Optical Properties Of VOx Thin Films
    Własności strukturalne i optyczne cienkich warstw VOx
    Autorzy:
    Schneider, K.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/353645.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    VOx thin films
    reactive sputtering
    microstructure
    optical properties
    energy band gap
    cienkie warstwy VOx
    rozpylanie magnetronowe
    mikrostruktura
    właściwości optyczne
    przerwa energetyczna
    Opis:
    VOx thin films were deposited on Corning glass, fused silica and Ti foils by means of rf reactive sputtering from a metallic vanadium target. Argon-oxygen gas mixtures of different compositions controlled by the flow rates were used for sputtering. Influence of the oxygen partial pressure in the sputtering chamber on the structural and optical properties of thin films has been investigated. Structural properties of as-sputtered thin films were studied by X-ray diffraction at glancing incidence, GIXD. Optical transmittance and reflectance spectra were recordedwith a Lambda 19 Perkin-Elmer double spectrophotometer. Thickness of the films was determined from the profilometry. It has been confirmed by XRD that the deposited films are composed mainly of V2O5 phase. The estimated optical band gap of 2.5 eV corresponds to V2O5.
    Cienkie warstwy VOx były nanoszone na szkło Corning metodą rozpylania magnetronowego rf. Jako katody użyto metalicznego wanadu. Były one nanoszone w komorze wypełnionej mieszaniną argonu i tlenu w różnych proporcjach przy ustalonych przepływach. Zbadano wpływ ciśnienia parcjalnego tlenu w komorze na własności strukturalne i optyczne otrzymanych warstw. Własności strukturalne cienkich warstw zostały określone metodą rozpraszania promieniowania rentgenowskiego padającego pod małymi kątami (GIXD). Widma optyczne transmitancji i odbicia zostały wykonane przy użyciu spektrometru Lambda 19 Perkin-Elmer. Grubość badanych warstw zmierzono za pomocą profilometru. Pomiary XRD potwierdziły, że otrzymane warstwy składają się głównie z fazy V2O5. Wyznaczona optycznie przerwa energetyczna wynosząca 2.5 eV odpowiada przerwie energetycznej V2O5.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 957-961
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wpływ wygrzewania na właściwości sensorowe powłok TiOx wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego
    Influence of annealing temperature on sensing properties of TiOx thin films prepared by magnetron sputtering
    Autorzy:
    Kapuścik, Paulina
    Mańkowska, Ewa
    Wojcieszak, Damian
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2203161.pdf
    Data publikacji:
    2022
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    inżynieria materiałowa
    tlenek tytanu
    cienka warstwa
    rozpylanie magnetronowe
    właściwości optyczne
    właściwości sensorowe
    materials engineering
    titanium oxide
    thin films
    magnetron sputtering
    optical properties
    gas sensing properties
    Opis:
    W pracy przedstawiono wyniki badań wpływu temperatury wygrzewania na właściwości optyczne, a także morfologii powierzchni cienkich warstw niestechiometrycznych tlenków tytanu (TiO x). Zostały one powiązane z wynikami badań odpowiedzi sensorowej warstw na obecność H₂. Próbki wytworzono metodą rozpylania magnetronowego w atmosferze Ar:O₂ o małej zawartości tlenu (20% oraz 30%). im większa była ilość tlenu w mieszaninie gazowej podawanej do komory próżniowej, tym niższa szybkość osadzania powłok. Badania wykonane za pomocą profilometru optycznego wykazały, że grubość obu serii naniesionych warstw wynosiła odpowiednio 600 nm i 200 nm. Powłoki te następnie wygrzewano w powietrzu w temperaturze od 100°C do 800°C. w ramach badań określono również ich chropowatość. aby ocenić właściwości optyczne powłok, zmierzone zostały charakterystyki transmisji oraz odbicia światła, na podstawie których wyznaczono takie parametry jak współczynnik transmisji, położenie krawędzi optycznej absorpcji oraz szerokość optycznej przerwy energetycznej w funkcji temperatury wygrzewania warstw. Z kolei właściwości sensorowe powłok określono na podstawie zmian rezystancji w odpowiedzi na pobudzenie w postaci mieszaniny Ar:3,5%H₂. Stwierdzono, że stopień utlenienia warstw ma kluczowy wpływ nie tylko na szybkość odpowiedzi warstwy TiOx, lecz także na sam charakter tej odpowiedzi.
    This work describes the influence of the annealing temperature on the optical and surface properties of nonstoichiometric titanium oxide (TiOx ) thin films. The results were related to the investigation of the sensing response toward H₂ gas. The samples were prepared by the magnetron sputtering method using Ar:O₂ plasma with low oxygen content (20% and 30%). an increase in the amount of oxygen in the gas mixture supplied to the magnetron led to a decrease in the deposition rate. The thickness of the deposited thin films, determined by the use of an optical profiler, was found to be 600 nm and 200 nm, respectively. The coatings were then annealed in an ambient air atmosphere at a temperature in the range from 100°C to 800°C. additionally, the roughness of the coating surface was measured. To investigate the optical properties of the thin films, transmission and reflection spectra were measured, and parameters such as transmission coefficient, cutoff wavelength value, and optical band gap value were determined as functions of the annealing temperature. The sensing properties of the thin films were characterised on the basis of changes in a resistance value as a response to a mix of Ar:3.5% H₂. it was found that the oxidation of the thin films has a key influence not only on the response time of the TiOx thin films, but also on the character of the response.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 27--39
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Wpływ wygrzewania na wybrane właściwości mieszanych tlenków miedzi i tytanu
    Influence of annealing on selected properties of mixed copper and titanium oxides
    Autorzy:
    Mańkowska, Ewa
    Mazur, Michał
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2203162.pdf
    Data publikacji:
    2022
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    elektronika
    czujniki wodoru
    mieszaniny tlenków miedzi i tytanu
    cienkie warstwy
    rozpylanie magnetronowe
    electronics
    hydrogen gas sensor
    mixed copper and titanium oxides
    thin films
    magnetron sputtering
    Opis:
    Praca poświęcona jest badaniom wpływu wygrzewania poprocesowego na morfologię mieszanych tlenków miedzi i tytanu, a także na ich właściwości elektryczne i czujnikowe. Cienkie warstwy (Cu,Ti)Ox naniesiono za pomocą rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej oraz na podłoża ceramiczne ze zintegrowanymi elektrodami. Dodatkowo zastosowano termiczną obróbkę poprocesową w temperaturach 200°C oraz 250°C. Zmianę struktury w procesie utleniania termicznego badano za pomocą dyfrakcji rentgenowskiej, natomiast dzięki profilometrowi optycznemu określono morfologię powierzchni cienkich warstw. W celu określenia właściwości elektrycznych zmierzono charakterystyki prądowo-napięciowe oraz termoelektryczne, na podstawie których wyznaczono rezystancję oraz typ przewodnictwa. Cienkie warstwy (Cu,Ti)Ox poddane obróbce poprocesowej charakteryzowały się dziurowym typem przewodnictwa, a co więcej silnie reagowały na obecność wodoru w atmosferze pomiarowej.
    This work presents an investigation of the effects of post-process annealing on the morphology of mixed copper and titanium oxides and on their electrical and hydrogen sensing properties. (CuTi)Ox thin films were deposited by magnetron sputtering on amorphous silica and ceramic substrates with interdigitated electrodes. In addition, post-process thermal treatment was applied at the temperatures of 200°C and 250°C. The transformation of the thin film structure during the thermal oxidation process was studied by X-ray diffraction, while the morphology of the thin films was determined using an optical profilometer. Current-voltage and thermoelectric characteristics were measured to determine electrical properties, from which the resistance and conduction type were determined. The post-treatment (CuTi)Ox thin films exhibited hole-type conduction and, additionally, strongly responded to hydrogen atmosphere.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2022, 71, 2; 41--48
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Właściwości sensorowe cienkich warstw mieszanin tlenków miedzi i tytanu
    Gas sensing properties of mixtures of copper and titanium oxides thin films
    Autorzy:
    Mańkowska, Ewa
    Mazur, Michał
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/27323992.pdf
    Data publikacji:
    2023
    Wydawca:
    Wojskowa Akademia Techniczna im. Jarosława Dąbrowskiego
    Tematy:
    mieszaniny tlenków miedzi i tytanu
    czujniki wodoru
    cienkie warstwy
    rozpylanie magnetronowe
    mixtures of copper and titanium oxides
    hydrogen gas sensor
    mixed copper and titanium oxides
    thin films
    magnetron sputtering
    Opis:
    Przedmiotem badań były cienkie warstwy mieszanin tlenków miedzi i tytanu o różnym składzie pierwiastkowym, wytworzone za pomocą rozpylania magnetronowego i wygrzane poprocesowo. Wpływ składu pierwiastkowego oraz temperatury wygrzewania na morfologię cienkich warstw określono na podstawie zdjęć ze skaningowego mikroskopu elektronowego. Strukturę krystaliczną i skład chemiczny mieszanin tlenków miedzi i tytanu (CuTi)Ox zbadano za pomocą dyfrakcji promieni rentgenowskich. Przeprowadzono również badania czujnikowe na wodór o stężeniach od 100 do 1000 ppm. Rezystancja wytworzonych mieszanin (CuTi)Ox rosła podczas ekspozycji na wodór, co świadczy o możliwości stosowania tych tlenków w czujnikach wodoru. Dodatkowo dla mieszanin uzyskano lepsze odpowiedzi sensorowe niż dla pojedynczych tlenków miedzi lub tlenków tytanu. Mieszaniny tlenków miedzi oraz tytanu mogą być obiecującymi materiałami do zastosowań jako czujniki wodoru.
    The subject of the current studies were mixtures of copper and titanium oxide thin films, with various elemental compositions, deposited by magnetron sputtering and annealed in the postprocess. The effect of elemental composition and annealing temperature on the morphology of thin films was determined using scanning electron microscope images. The crystal structure and chemical composition of copper-titanium oxide (CuTi)Ox mixtures were investigated by X-ray diffraction. Hydrogen gas sensing experiments were performed for hydrogen with concentrations ranging from 100 to 1,000 ppm. The resistance of the prepared (CuTi)Ox mixtures increased during hydrogen exposure, demonstrating the applicability of these oxides in hydrogen sensing. In addition, better sensor responses were obtained for the mixtures in comparison to single copper oxides or titanium oxides. Mixtures of copper oxides and titanium oxides may be promising materials for hydrogen sensor applications.
    Źródło:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej; 2023, 72, 1; 37--46
    1234-5865
    Pojawia się w:
    Biuletyn Wojskowej Akademii Technicznej
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-6 z 6

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies