Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

Wyszukujesz frazę "Zhang, X. H." wg kryterium: Autor


Wyświetlanie 1-2 z 2
Tytuł:
Three-dimensional Computer Simulation of Warp Knitted Spacer Fabric
Trójwymiarowa symulacja komputerowa osnowowych dzianin dystansowych
Autorzy:
Zhang, L. Z.
Jiang, G. M.
Miao, X. H.
Cong, H. L.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/234059.pdf
Data publikacji:
2012
Wydawca:
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Biopolimerów i Włókien Chemicznych
Tematy:
symulacja 3D
dzianina
wzór ściegu
przędza
warp knitting
spacer fabric
stitch model
pile yarn
3D simulation
Opis:
The main objective of this paper was to simulate the three-dimensional structure of warp knitted spacer fabric using computer technology. For this purpose, the geometric structure of warp knitted spacer fabric was investigated. Specifically, a 3D spacial stitch model of warp knitted spacer fabric is developed using non-uniform rational B-spline(NURBS) curves and surfaces. Since the stitches in real fabric are usually inclined, the offset rule of special stitches is employed in order to simulate the stitches more realistically. Then the offset calculation formulas for each given point in the 3D stitch model are obtained. Finally 3D computer simulation of warp knitted spacer fabric is achieved and some simulation images of this kind of fabric are generated on the computer. The mechanism developed in this paper can model the 3D structures of common warp knitted spacer fabric interactively and accurately.
Celem badań była symulacja trójwymiarowej struktury osnowowych dzianin dystansowych z zastosowaniem technologii komputerowej. Zbadano geometryczną strukturę trójwymiarowych dzianin dystansowych. Trójwymiarowy model splotu tych dzianin został opracowany za pomocą analizy krzywych i powierzchni NURBS. Ponieważ w rzeczywistych dzianinach sploty są zazwyczaj nachylone, w celu uzyskania bardziej realistycznego obrazu dzianiny dystansowej zastosowano regułę pozwalająca na wyrównanie splotów specjalnych. Następnie dla każdego punktu trójwymiarowego modelu splotu określono odpowiednie równania. W efekcie uzyskano 3D komputerową symulację dzianiny oraz obrazy tych struktur. Na podstawie procedury opracowanej w niniejszej pracy można dokładnie modelować proste dzianiny dystansowe.
Źródło:
Fibres & Textiles in Eastern Europe; 2012, 3 (92); 56-60
1230-3666
2300-7354
Pojawia się w:
Fibres & Textiles in Eastern Europe
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
Tytuł:
Kinetics of photoelectrocatalytic degradation of diclofenac using N, S co-doped TiO2 nano-crystallite decorated TiO2 nanotube arrays photoelectrode
Autorzy:
Cui, Y.
Deng, X.
Ma, Q.
Zhang, H.
Cheng, X.
Li, X.
Xie, M.
Cheng, Q.
Li, B.
Powiązania:
https://bibliotekanauki.pl/articles/207955.pdf
Data publikacji:
2018
Wydawca:
Politechnika Wrocławska. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Tematy:
effluents
nanotubes
sodium sulfate
sulfur compounds
yarn
photoelectrocatalytic degradation
ścieki
nanorurki
siarczan sodu
związki siarki
przędza
Opis:
As a non-steroidal anti-inflammatory drug, diclofenac, was commonly used as analgesic, antiarthritic and antirheumatic, and has frequently been detected in municipal wastewater treatment plants (MWTPs) effluents and demonstrated to be potentially environmental risk on human beings. In the present study, N, S co-doped TiO2 nano-crystallites decorated TiO2 nano-tube arrays (N, S-TiO2 NCs/TiO2 NTAs) photoelectrode was used to degrade diclofenac containing wastewater. In addition, the effects of some critical parameters including initial pH, external positive potential, sodium sulfate concentration and initial diclofenac concentration on the photoelectrocatalytic (PEC) degradation of diclofenac containing wastewater and dynamic characteristics were investigated systematically. Results showed that N, S-TiO2 NCs/TiO2 NTAs photoelectrode exhibited high PEC efficiency for the degradation of diclofenac, in which the PEC processes fitted well with the Langmuir–Hinshelwood (L–H) model. Furthermore, external additional anions such as Cl, ClO and NO3 – played an important role in inhibiting the degradation of diclofenac. Also, the N, S-TiO2 NCs/TiO2 NTAs photoelectrode possessed good stability for consecutive applications for degradation of diclofenac, which could potentially be utilized in wastewater treatment.
Źródło:
Environment Protection Engineering; 2018, 44, 2; 117-130
0324-8828
Pojawia się w:
Environment Protection Engineering
Dostawca treści:
Biblioteka Nauki
Artykuł
    Wyświetlanie 1-2 z 2

    Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies