Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Morgiel, J" wg kryterium: Autor

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Elaboration of magnetron deposition conditions of TiN/Si3N4 nanocomposite coatings
    Opracowanie warunków otrzymywania warstw nano-kompozytowych z wykorzystaniem techniki magnetronowej
    Autorzy:
    Morgiel, J.
    Major, Ł.
    Grzonka, J.
    Mania, R.
    Rakowski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/258107.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    nanokrystality
    nanokompozyty
    TiN/Si3N4
    rozpylanie magnetronowe
    nanocrystallites
    nanocomposites
    magnetron sputtering
    Opis:
    The TiN/Si3N4 coatings were deposited by reactive single target magnetron sputtering. The TiSi10 and TiSi6 targets were prepared from titanium and silicon elemental powders. The transmission electron microscopy helped to confirm the nanocomposite nanocrystalline TIN/ amorphous Si3N4 microstructure of coatings. The experiments helped to determine the critical coatings thickness at close to 1 žm. The micro-hardness of such coatings deposited on high speed steel was estimated at 11.9 - 13 GPa and characterized by critical loading in the range of 13 - 14 N. The measurements of chemical compositions of coatings showed that the ratio of silicon to titanium was at least twice as high as those in the targets, what might have lowered the coatings mechanical properties.
    Powłoki TiN/Si3N4 naniesiono techniką rozpylania magnetronowego przy użyciu targetu o składzie TiSi10 lub TiSi6 (% at.). Targety te zostały przygotowane na drodze spiekania na gorąco proszków krzemu i tytanu. Analizę mikrostruktury nanokompozytowych nanokrystalicznych powłok TiN/Si3N4 o krytycznej grubości delaminacji zbliżonej do l žm, przeprowadzono przy użyciu mikroskopu transmisyjnego. Mikrotwardość powłok na podłożu ze stali szybkotnącej określono na poziomie 11.9 - 13 GPa. Analiza składu chemicznego powłok wykonana techniką EDS wykazała, że stosunek zawartości krzemu do tytanu jest dwa razy większy niż w targetach, co może stanowić przyczynę ich niższej od oczekiwań twardości.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 2; 33-42
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Mikrostruktura, mikrotwardość i odporność na zużycie powłok typu "duplex" (Cr,Si)N/TiN na płytkach skrawających z WC
    Microstructure, microhardness and wear resistance of "duplex" type (Cr,Si)N/TiN coatings deposited on WC cutting plates
    Autorzy:
    Morgiel, J.
    Grzonka, J.
    Mania, R.
    Zimowski, S.
    Dąbrowski, M.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/258138.pdf
    Data publikacji:
    2008
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    azotek chromu
    mikrostruktura
    powłoka (Cr,Si)N
    powłoka pseudo-duplex
    rozpylanie magnetronowe
    chromium nitride
    microstructure
    (Cr,Si)N coating
    pseudo-duplex coating
    magnetron sputtering
    Opis:
    W pracy przedstawiono wyniki badań mikrostruktury i właściwości mechanicznych powłok typu "duplex" w układzie z wierzchnią (Cr,Si)N (~1 žm) i buforową warstwą TiN (~4 žm), osadzanych na płytkach z węglików spiekanych. Powłoka (Cr,Si)N była nanoszona przy użyciu magnetronu planarnego WMK-50 z wykorzystaniem targetów ze spieków CrSi (do 5% at. Si), a TiN metodą łukową na stanowisku PUSK-83. Obserwacje mikrostruktury wykazały, że powłoki (Cr,Si)N mają bardziej drobnokrystaliczną, kolumnową budowę od nanoszonych w takich samych warunkach powłok CrN. Badania właściwości mechanicznych pozwoliły stwierdzić, że mikrotwardość powłok (Cr,Si)N/TiN przy obciążeniu 20 i 10 mN mieści się w zakresie 24-29 GPa. Badania zużycia powłok w teście "ball on disc", tj. poprzez pomiar wytarcia powierzchni w niesmarowanym styku kula-płaszczyzna wykazały ich odporność zbliżoną do powłok CrN czy TiN. Natomiast badania eksploatacyjne powłok (Cr,Si)N/TiN na płytkach skrawających z WC prowadzone z chłodzeniem emulsją wykazały, że umożliwiają one prawie dwukrotny wzrost trwałości narzędzia w warunkach frezowania oraz czterokrotny w warunkach toczenia. Narzędzia z powłoką typu "duplex" (Cr,Si)N/TiN umożliwiają nawet toczenie materiału bez chłodzenia.
    The microstructure and mechanical properties of duplex type (Cr,Si)N/TiN coatings on WC cutting plates were investigated. The hard (Cr,Si)N layer of ~1 žm thickness was deposited using WMK-50 planar magnetron equipped with CrSi (Si < 5 at.%) targets. The buffer TiN layer of 4 žm thickness was deposited using PUSK-83 Arc system. The transmission electron microscopy observations indicated, that all (Cr,Si)N coatings are characterised by columnar microstructure built of much finer crystallites than the CrN one. The microhardness of (Cr,Si)N/TiN estimated using 20-10 mN load showed some scatter within to 24-29 GPa range. The coatings wear resistance analysed with ball-on-disc test showed, that they are comparable with TiN and CrN ones. However, the test by work showed that the (Cr,Si)N/TiN duplex coated WC cutting plates cooled with emulsion show two times and four times longer lifetime in milling and turning processes, respectively, as compared with non-coated plates. The (Cr,Si)N/TiN duplex coated plates also allow dry cutting with reasonable tool lifetime.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2008, 4; 123-136
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Influence of the structural and surface properties on photocatalytic activity of TiO2:Nd thin films
    Autorzy:
    Wojcieszak, D.
    Mazur, M.
    Kaczmarek, D.
    Morgiel, J.
    Poniedziałek, A.
    Domaradzki, J.
    Czeczot, A.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/779688.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie. Wydawnictwo Uczelniane ZUT w Szczecinie
    Tematy:
    TiO2
    neodymium
    thin films
    magnetron sputtering
    photocatalysis
    phenol decomposition
    Opis:
    Titanium dioxide thin films doped with the same amount of neodymium were prepared using two different magnetron sputtering methods. Thin films of anatase structure were deposited with the aid of Low Pressure Hot Target Magnetron Sputtering, while rutile coatings were manufactured using High Energy Reactive Magnetron Sputtering process. The thin films composition was determined by energy dispersive spectroscopy and the amount of the dopant was equal to 1 at. %. Structural properties were evaluated using transmission electron microscopy and revealed that anatase films had fibrous structure, while rutile had densely packed columnar structure. Atomic force microscopy investigations showed that the surface of both films was homogenous and consisted of nanocrystalline grains. Photocatalytic activity was assessed based on the phenol decomposition. Results showed that both thin films were photocatalytically active, however coating with anatase phase decomposed higher amount of phenol. The transparency of both thin films was high and equal to ca. 80% in the visible wavelength range. The photoluminescence intensity was much higher in case of the coating with rutile structure.
    Źródło:
    Polish Journal of Chemical Technology; 2015, 17, 2; 103-111
    1509-8117
    1899-4741
    Pojawia się w:
    Polish Journal of Chemical Technology
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies