Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "gęstość prądu" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-4 z 4
    Tytuł:
    Morphology Change Of Si Deposit In Molten Salt Electrorefining
    Zmiana morfologii osadu Si podczas elektrorafinacji w stopionych solach
    Autorzy:
    Ryu, H. Y.
    Kwon, S. C.
    Han, M. H.
    An, Y. S.
    Lee, J. S.
    Lee, J. H.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/354346.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    molten salt
    silicon
    morphology
    electrorefining
    current density
    sól stopiona
    krzem
    morfologia
    elektrorafinacja
    gęstość prądu
    Opis:
    The effects of processing parameters on the morphology change in a Si deposit recovered by means of molten salt electrorefining are evaluated using electrochemical techniques such as cyclic voltammetry and chronopotentiometry at 800°C. It was found that concentration of K2SiF6 and current density were important parameters in determining deposit size. Higher concentrations of K2SiF6 were effective in coarsening the silicon deposit and decreasing the cell potential. Silicon nanofiber was recovered at 5 wt% of K2SiF6 whereas dense particles were prepared at 30 and 50 wt% of K2SiF6. The morphology of the Si deposit was determined by the concentration of Si in the electrolyte which is related to the formation of crystal and growth of Si. The formation mechanism of the Si deposit was interpreted by using high resolution TEM as well as electrochemical properties.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2B; 1491-1497
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Effect of Cathodic Current Density on Microstructure and Properties of Nickel Composite Coatings
    Wpływ katodowej gęstości prądu na mikrostrukturę i właściwości niklowych powłok kompozytowych
    Autorzy:
    Nowak, M.
    Opyrchał, M.
    Boczkal, S.
    Żelechowski, J.
    Najder, A.
    Karaś, M
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/353679.pdf
    Data publikacji:
    2014
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    electrodeposition
    current density
    composite coatings
    Al2O3
    elektroosadzanie
    gęstość prądu
    powłoki kompozytowe
    Opis:
    Studies were carried out to characterise the nickel composite coatings deposited on a 2xxx series aluminium alloy. The composite coatings were prepared in a Watts bath with the addition of fine-dispersed particles of Al2O3 powder introduced in an amount of 100 g/l using current densities of 2, 4, 6 and 8 A/dm2. The morphology, structure, thickness and microhardness of the obtained composite coatings were described. The volume fraction of Al2O3 particles in composite coating was determined. The corrosion resistance of thus produced coatings was examined. Based on the results of the conducted studies it was stated that all the produced coatings were characterised by good adhesion to the substrate, but coatings produced at high current densities were characterised by a lower content of the Al2O3 reinforcing phase present in the composite.
    W pracy przedstawiono badania charakteryzujące kompozytowe powłoki niklowe osadzane na stopie aluminium serii 2xxx. Powłoki kompozytowe wytwarzano w kąpieli Wattsa z dodatkiem drobnodyspersyjnych cząstek proszku AI2O3 w ilości 100 g/l przy zastosowaniu gęstości prądu: 2, 4. 6 oraz 8 A/dm2. Przedstawiono morfologię, strukturę, grubość oraz mikrotwardość uzyskanych powłok kompozytowych. Określono objętościowy udział cząstek AI2O3 w powłoce kompozytowej. Zbadano odporność korozyjną wytworzonych powłok. Na podstawie przeprowadzonych badań stwierdzono, iż wszystkie uzyskane powłoki są dobrze przyczepne do podłoża, jednak powłoki uzyskane przy wyższych gęstościach prądów charakteryzują się niższą zawartością fazy zbrojącej AI2O3 w kompozycie.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2014, 59, 1; 323-327
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Excess current carrier distribution in the base region of the semiconductor multi-junction structure
    Autorzy:
    Sikorski, S.
    Pultorak, J.
    Jung, W.
    Piotrowski, T.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/378449.pdf
    Data publikacji:
    2007
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
    Tematy:
    półprzewodniki
    modelowanie numeryczne
    warunki brzegowe
    rozpływ prądów
    gęstość prądu
    semiconductors
    numerical modelling
    boundary conditions
    current distribution
    current density
    Opis:
    A new approach to the theory of excess current carrier distribution in the homogeneous base region of the semiconductor multi-junction structure is proposed. Numerical analysis of this structure is performed taking into consideration an assumption that concentrations of excess electrons and holes in the semiconductor are equal (the neutrality principle). To obtain excess carrier distributions in this structure it is necessary to solve continuity equations of electron J n and hole J p current densities. A general solution is obtained and numerically calculated distributions of excess carriers and electrical potential for cases interesting from the point of view of their application in injection modulated thermal radiation structures destined for dynamic scene projectors are presented.
    Źródło:
    Electron Technology : Internet Journal; 2007, 39, 6; 1-8
    1897-2381
    Pojawia się w:
    Electron Technology : Internet Journal
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Hardness, corrosion behavior, and microstructure of Al-Cu-Mg alloy as a function of 0.3 wt.% Zr addition
    Autorzy:
    Saad, Karrar
    Al-Murshdy, Jassim M. Salman
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/2174477.pdf
    Data publikacji:
    2023
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Polskie Towarzystwo Diagnostyki Technicznej PAN
    Tematy:
    Al-alloy
    effect of alloying element addition
    Brinell hardness
    current density
    recrystallization
    stop aluminium
    twardość Brinella
    gęstość prądu
    rekrystalizacja
    Opis:
    The effect of adding zirconium (Zr) as an alloying element to Al-Cu-Mg alloy on the hardness and corrosion of this alloy was investigated. The hardness and polarization test results of samples treated for various periods by aging at 423.15 K for 3hr showed a significant increment in the Brinell hardness (HBW) improvement ratio of 115.6% (from 45HBW to 97HBW) and an extreme reduction the corrosion rate of the alloy after Zr adding decrease in the current density by 79.42% (from 56.50 µA cm-2 to 11.63 µA cm-2) with aging for 3 hr compared to the base alloy. The impact of this addition is also reflected in the strengthening, recrystallization, and modification of the grain microstructure. These changes were clearly demonstrated by microscopic testing and proves that the addition of Zr has a considerable synergistic effect causing inhibition of recrystallization and refinement of grain size.
    Źródło:
    Diagnostyka; 2023, 24, 1; art. no. 2023104
    1641-6414
    2449-5220
    Pojawia się w:
    Diagnostyka
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-4 z 4

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies