Informacja

Drogi użytkowniku, aplikacja do prawidłowego działania wymaga obsługi JavaScript. Proszę włącz obsługę JavaScript w Twojej przeglądarce.

English (EN)·Polski (PL)·Yкраїнський (UK)
Przejdź do strony domowej biblioteki Centralna Biblioteka Wojskowa Link otwiera się w nowym oknie Logo biblioteki Prolib Integro - strona głównaCentralna Biblioteka Wojskowa

Wyszukujesz frazę "Thin Film" wg kryterium: Temat

  Lista filtrów
Wyrównaj
    Wyświetlanie 1-3 z 3
    Tytuł:
    Real-time monitoring of cell cultures with nickel comb capacitors
    Monitorowanie hodowli komórkowych w czasie rzeczywistym przy zastosowaniu niklowych kondensatorów grzebieniowych
    Autorzy:
    Kociubiński, Andrzej
    Zarzeczny, Dawid
    Szypulski, Maciej
    Wilczyńska, Aleksandra
    Pigoń, Dominika
    Małecka-Massalska, Teresa
    Prendecka, Monika
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/408219.pdf
    Data publikacji:
    2020
    Wydawca:
    Politechnika Lubelska. Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
    Tematy:
    BioMEMS
    ECIS
    nickel
    thin film
    nikiel
    cienka warstwa
    Opis:
    The aim of the study was to present a method for assessing the condition of cell culture by measuring the impedance of cells cultured in the presence of nickel. For this purpose, an impedance measurement technique using nickel comb capacitors was used. The capacitor electrodes were made using a thin film magnetron sputtering. In the experimental part, the culture of cells of mouse fibroblasts on the prepared substrate was performed. The cell culture lasted 43 hours and showed that the presented technique allows it to be used to analyze the effect of nickel on cells.
    Celem pracy było przedstawienie metody oceny stanu hodowli komórkowej poprzez pomiar impedancji komórek hodowanych w obecności niklu. W tym celu zastosowano technikę pomiaru impedancji z wykorzystaniem niklowych kondensatorów grzebieniowych. Cienkowarstwowe elektrody kondensatora wykonano metodą rozpylania magnetronowego. W części eksperymentalnej przeprowadzono hodowlę komórek mysich fibroblastów na przygotowanym podłożu. Hodowla komórkowa trwała 43 godziny i wykazała, że przedstawiona technika mogłaby być zastosowana do analizy wpływu niklu na komórki.
    Źródło:
    Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska; 2020, 10, 2; 32-35
    2083-0157
    2391-6761
    Pojawia się w:
    Informatyka, Automatyka, Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Multisource, magnetron deposited Al-Cu-Fe thin film coatings - the structure and properties
    Struktura i właściwości cienkich warstw międzymetalicznych Al-Cu-Fe nanoszonych metodą wieloźródłowego rozpylania magnetronowego
    Autorzy:
    Gulbiński, W.
    Warcholiński, B.
    Suszko, T.
    Kazimierowicz, R.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/256731.pdf
    Data publikacji:
    2006
    Wydawca:
    Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Eksploatacji - Państwowy Instytut Badawczy
    Tematy:
    rozpylanie magnetronowe
    cienka warstwa
    faza międzymetaliczna
    układ Al-Cu-Fe
    właściwości tribologiczne
    magnetron sputtering
    thin film
    intermetallic phase
    Al-Cu-Fe system
    tribological properties
    Opis:
    Thin films of Al-Cu-Fe type have been deposited by means of multisource, DC magnetron sputtering from elemental, metallic targets. The composition of films, studied by the EDS method, has been chosen which is close to the one corresponding to the icosahedral quasicrystalline phase [psi]-Al(62.5)Cu(25.0)Fe(12.5) X-ray diffraction studies of films deposited at 400°C on steel substrates revealed that the cubic [beta]-Al(Cu,Fe) phase is a dominant one. SEM and TEM techniques have been used for the surface and cross section characterisation of deposits. Prolonged post annealing of these coatings led to inter-diffusion of components between the steel substrate and the coating. It leads to the change of the phase composition of the coating and the iron-rich monoclinic [lambda]-Al3Fe1-xCux phase emerges in the film. The preliminary studies of microhardness and tribological behaviour show that the film microhardness reaches a local maximum of about 8.5 GPa for the chemical composition close to the one of the quasicrystalline phase. However, the presence of this phase in studied films has not been proven yet. The friction coefficient values, measured against alumina in ball on disc geometry, oscillate around 0.65 - the value lower than that observed for uncoated 4H13 steel.
    Cienkie warstwy trójskładnikowe Al-Cu-Fe nanoszono metodą stałoprądowego, wieloźródłowego rozpylania magnetronowego z katod metalicznych. Skład warstw, kontrolowany metodą spektroskopii energodyspersyjnej (EDS) był zbliżony do składu quasi-krystalicznej fazy [psi]-Al(62.5)Cu(25.0)Fe(12.5) o symetrii dwudziestościanu. Struktura warstw nanoszonych przy temperaturze podłoża równej 400°C odpowiadała kubicznej fazie [beta]-Al(Cu,Fe). Morfologię powierzchni warstw oraz ich strukturę badano odpowiednio metodami elektronowej mikroskopii skaningowej (SEM) oraz transmisyjnej mikroskopii elektronuzji składniowej (TEM). Długotrwałe wygrzewanie badanych warstw, nanoszonych na stali prowadzi do dyfuzji żelaza w głąb warstwy, co skutkuje pojawieniem się bogatej w żelazo jednoskośnej fazy [lambda]-Al3Fe1-xCux. Wstępne badania mikrotwardości wskazują na szerokie maksimum na poziomie 8,5 GPa dla warstw o składzie zbliżonym do składu fazy quasi-krystalicznej. Obecność wydzieleń tej fazy w badanych warstwach nie została jeszcze jednoznacznie potwierdzona. Współczynnik tarcia, mierzony względem ceramiki alundowej w układzie kula--płaszczyzna, oscyluje wokół wartości 0,65 i jest niższy niż obserwowany dla niepokrytej stali 4H13.
    Źródło:
    Problemy Eksploatacji; 2006, 4; 69-79
    1232-9312
    Pojawia się w:
    Problemy Eksploatacji
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
    Tytuł:
    Fabrication Of YSZ Thin Film By Electrochemical Deposition Method And The Effect Of The Pulsed Electrical Fields For Morphology Control
    Otrzymywanie cienkich warstw YSZ metodą osadzania elektrochemicznego oraz wpływ pulsacyjnych pól elektrycznych na kontrolę morfologii
    Autorzy:
    Fujita, T.
    Saiki, A.
    Hashizume, T.
    Powiązania:
    https://bibliotekanauki.pl/articles/356351.pdf
    Data publikacji:
    2015
    Wydawca:
    Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
    Tematy:
    yittria stabilized zirconia
    thin film
    electrochemical deposition method
    pulsed electrical field
    morphology control
    tlenek itru stabilizowany tlenkiem cyrkonu
    cienka warstwa
    metoda osadzania elektrochemicznego
    pulsacyjne pole elektryczne
    kontrola morfologii
    Opis:
    In this study, surface morphology control ions in a precursor solution and patterning the YSZ film has been carried out during deposition of thin film from a precursor solution by applying the electrical field for deposition and the pulsed electrical field. The precursor solution was mixed them of ZrO(NO3)4, Y(NO3)3-6H2O into deionized water, and then was controlled nearly pH3 by adding NH3(aq). The thin film was deposited on the glass substrate of the minus electrode side by applying the electrical field of 3.0 V for 20 min. In addition, another pulsed voltage was applied to the electrical field along the perdicular direction to the film deposition direction. After annealing samples at 773 K for 6 h in air, the film was crystallized and obtained YSZ film. In the limited condition, the linear patterns of YSZ films due to the frequency of the applied electrical field were observed. It is expected that ions in a precursor solution are controlled by applying the pulsed voltage and the YSZ film is patterned on the substrate.
    W niniejszej pracy cienkie warstwy YSZ otrzymywano metodą elektrochemiczną z roztworu. Morfologia otrzymanej warstwy była kontrolowana poprzez zastosowanie pulsacyjnego pola elektrycznego. Roztwór prekursora otrzymano poprzez zmieszanie ZrO(NO3)4, Y(NO3)3-6H2O w wodzie dejonizowanej, przy czym pH roztworu było utrzymywane na stałym poziomie (pH = 3) poprzez dodawanie NH3(aq). Na podłoże szklane naniesiono cienką warstwę po stronie ujemnej elektrody przykładając pole elektryczne o napięciu 3,0 V przez 20 min. Dodatkowo, przyłożono napięcie pulsacyjne do pola elektrycznego w kierunku prostopadłym do kierunku nanoszenia warstwy. Po kalcynacji próbek w 773 K przez 6 godz. w powietrzu, warstwa uległa krystalizacji i otrzymano warstwę YSZ. W tych warunkach zaobserwowano liniowe odwzorowanie warstw YSZ spowodowane częstotliwością przyłożonego pola elektrycznego. Przypuszcza się, że przyłożone napięcie pulsacyjne kontroluje jony w roztworze prekursora, co wpływa na strukturę warstwy YSZ.
    Źródło:
    Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 2A; 945-948
    1733-3490
    Pojawia się w:
    Archives of Metallurgy and Materials
    Dostawca treści:
    Biblioteka Nauki
    Artykuł
      Wyświetlanie 1-3 z 3

      Ta witryna wykorzystuje pliki cookies do przechowywania informacji na Twoim komputerze. Pliki cookies stosujemy w celu świadczenia usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że będą one zamieszczane w Twoim komputerze. W każdym momencie możesz dokonać zmiany ustawień dotyczących cookies