- Tytuł:
-
Analysis of the Underpotential Deposition of Cadmium on Copper
Analiza procesu podpotencjałowego osadzania kadmu na miedzi - Autorzy:
- Kowalik, R.
- Powiązania:
- https://bibliotekanauki.pl/articles/353798.pdf
- Data publikacji:
- 2015
- Wydawca:
- Polska Akademia Nauk. Czytelnia Czasopism PAN
- Tematy:
-
study
process of deposition of cadmium on polycrystalline copper electrode
badania
proces podpotencjałowego osadzania kadmu na polikrystalicznej elektrodzie miedzianej - Opis:
-
In this study the process of deposition of cadmium on polycrystalline copper electrode in sulfate solution was investigated. The process of underpotential and bulk deposition was analyzed by classical electrochemical method: cyclic voltammetry(CV), anodic stripping voltammetry(ASV) and electrochemical quartz crystal microbalance(EQCM). The obtained results were compared with electrochemical impedance spectroscopy(EIS) measurements. CV, EQCM and EIS results suggest that the UPD of cadmium starts below potential −0.4 V vs Ag/AgCl. Additionally the stripping analysis indicates the formation of cadmium monolayer with different density of deposited atoms depending on the applied potential. The transition from UPD to bulk deposition occurs below potential −0,7 V.
Przeprowadzono badania dotyczące procesu podpotencjałowego osadzania kadmu na polikrystalicznej elektrodzie miedzianej w roztworach siarczanowych. Zjawiska podpotencjałowego oraz nadpotencjałowego osadzania były badane z wykorzystaniem klasycznych metod elektrochemicznych: cyklicznej woltamperometrii, anodowej woltamperometrii inwersyjnej i elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej. Otrzymane rezultaty były porównane z wynikami otrzymanymi podczas badań za pomocą elektrochemicznej impedancji spektroskopowej. Na podstawie wyników zauważono, że proces podpotencjałowego osadzania kadmu na miedzi zaczyna się od potencjału −0.4 V względem elektrody Ag/AgCl. Ponadto anodowa woltamperometria inwersyjna wskazuje, że w zależności od stosowanego potencjału zmienia się gęstość upakowania atomów kadmu na miedzi w zakresie od −0.4 do −0.7 V względem elektrody Ag/AgCl. Proces nadpotencjałowego osadzania kadmu rozpoczyna się poniżej potencjału −0.7 V względem elektrody Ag/AgCl - Źródło:
-
Archives of Metallurgy and Materials; 2015, 60, 3A; 1629-1632
1733-3490 - Pojawia się w:
- Archives of Metallurgy and Materials
- Dostawca treści:
- Biblioteka Nauki
Artykuł